CN101929560B - 双向阀及使用工业气体的半导体加工系统 - Google Patents
双向阀及使用工业气体的半导体加工系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101929560B CN101929560B CN2009100533734A CN200910053373A CN101929560B CN 101929560 B CN101929560 B CN 101929560B CN 2009100533734 A CN2009100533734 A CN 2009100533734A CN 200910053373 A CN200910053373 A CN 200910053373A CN 101929560 B CN101929560 B CN 101929560B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- port
- gas
- holding cavity
- communicated
- diaphragm
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Abstract
本发明公开了一种双向液体阀。本发明中可利用双向阀实现气体容器和处理设备之间的连通,使得气体容器既可向处理设备提供工业气体、又可从处理设备回收废气,从而只需一台气体洗刷器即可。而且,只需利用一膜片在现有逆制阀内开设另一端口间的连通路径、并利用一控制杆实现该连通路径的闭合控制即可实现本发明,因而使得本发明的方案易于实现、且通过对现有逆制阀的再利用进一步节省了成本。
Description
技术领域
本发明涉及一种阀门,特别涉及一种双向阀、以及装设有该双向阀的一种使用工业气体的半导体加工系统。
背景技术
图1为现有一种使用工业气体的半导体加工系统的结构示意图。如图1所示,该系统包括:可提供并回收工业气体的气体容器11、利用工业气体的处理设备12、以及气体洗刷器14和气体洗刷器15。
其中,工业气体经气体洗刷器14清洗后,可按照如箭头所示方向,由气体容器11通过逆制阀13输送至处理设备12;而由于逆制阀13的存在,处理设备12处理后剩余的废气无法返回至气体容器11和洗刷器14,因而需要由另一洗刷器15进行清洗后才能够排放。
图2a和图2b为如图1所示逆制阀在不同状态下的结构示意图。如图2a和图2b所示,逆制阀13具有一阀体130,该阀体130具有第一端口131和第二端口132,第一端口131用于与气体容器11连通、第二端口132用于与处理设备12连通。阀体130还内设有可将第一端口131与第二端口132连通的阀腔133,且阀腔133内收容一活塞134。
参见图2a,当气体容器11输出工业气体时,活塞134可在第一端口131的气体压力推动下向阀腔133上部移动、以保持第一端口131与第二端口132之间能够通过阀腔133的连通;
参见图2b,而当处理设备12有气体流向气体容器11时,则活塞134会在第二端口132的气体压力推动下向阀腔133下部移动、以阻塞第一端口131与第二端口132之间通过阀腔133的连通。
可见,现有使用工业气体的半导体加工系统中,逆制阀13使得处理设备12内的废气无法回收至气体容器11所连通的气体洗刷器14,即不得不额外设置另一个气体洗刷器15来实现对废气的清洗,从而提高了系统成本。
发明内容
有鉴于此,本发明提供了一种双向阀、以及一种使用工业气体的半导体加工系统,能够降低半导体加工系统的成本。
本发明提供的一种双向阀,包括一阀体,其中,
阀体具有第一端口和第二端口;
阀体内设有可将第一端口与第二端口连通的阀腔;
阀腔内收容一活塞,该活塞可在第一端口的压力推动下保持前述连通、在第二端口的压力推动下阻塞前述连通;
阀体还内设有容置腔;
容置腔内具有一膜片,该膜片的边缘固定于容置腔内壁、且该膜片的中部可与前述内壁之间留有将第一端口与第二端口连通的间隙;
容置腔内还插入有一控制杆,该控制杆可通过在伸入容置腔方向上的运动使膜片与前述内壁紧密接触、通过在退出容置腔方向上的运动保持前述间隙。
优选地,膜片为合金材料。
优选地,合金材料为镍合金。
优选地,控制杆为通过螺纹连接伸入、退出容置腔的螺纹杆。
优选地,第一端口与可提供并回收工业气体的气体容器连通、第二端口与利用工业气体的处理设备连通,气体容器还与气体洗刷器连通。
本发明提供的一种使用工业气体的半导体加工系统,包括:
可提供并回收工业气体的气体容器;
利用工业气体的处理设备;
以及阀体,该阀体具有与气体容器连通的第一端口和与处理设备连通的第二端口,且阀体内设有可将第一端口与第二端口连通的阀腔,阀腔内收容一活塞,该活塞可在第一端口的压力推动下保持前述连通、在第二端口的压力推动下阻塞前述连通;
阀体还内设有容置腔;
容置腔内具有一膜片,该膜片的边缘固定于容置腔内壁、且该膜片的中部可与前述内壁之间留有将第一端口与第二端口连通的间隙;
容置腔内还插入有一控制杆,该控制杆可通过在伸入容置腔方向上的运动使膜片与前述内壁紧密接触、通过在退出容置腔方向上的运动保持前述间隙。
优选地,膜片为合金材料。
优选地,合金材料为镍合金。
优选地,控制杆为通过螺纹连接伸入、退出容置腔的螺纹杆。
优选地,气体容器进一步与气体洗刷器连通。
由上述技术方案可见,本发明中可利用双向阀实现气体容器和处理设备之间的连通,使得气体容器既可向处理设备提供工业气体、又可从处理设备回收废气,从而只需一台气体洗刷器即可。而且,只需利用一膜片在现有逆制阀内开设另一端口间的连通路径、并利用一控制杆实现该连通路径的闭合控制即可实现本发明,因而使得本发明的方案易于实现、且通过对现有逆制阀的再利用进一步节省了成本。
附图说明
图1为现有一种使用工业气体的半导体加工系统的结构示意图;
图2a和图2b为如图1所示逆制阀在不同状态下的结构示意图;
图3为本发明实施例中使用工业气体的半导体加工系统的结构示意图;
图4a~图4d为如图3所示双向阀在不同状态下的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下参照附图并举实施例,对本发明进一步详细说明。
图3为本发明实施例中使用工业气体的半导体加工系统的结构示意图。如图3所示,该系统包括:可提供并回收工业气体的气体容器11、利用工业气体的处理设备12、以及气体洗刷器14。其中,工业气体经气体洗刷器14清洗后,可由气体容器11通过双向阀30输送至处理设备12;且处理设备12处理后剩余的废气,也可通过双向阀30并经由气体容器11返回至洗刷器14进行废气清洗,因而如图3所示的系统无需如图1所示另一洗刷器15。
图4a~图4d为如图3所示双向阀在不同状态下的结构示意图。如图4a~图4d所示,双向阀30包括一阀体300,该阀体300具有第一端口131和第二端口132,第一端口131用于与气体容器11连通、第二端口132用于与处理设备12连通。阀体300还内设有可将第一端口131与第二端口132连通的阀腔133,且阀腔133内收容一活塞134。
此外,如图4a~图4d所示,阀体300还内设有容置腔410;容置腔410内具有一膜片420,该膜片420的边缘固定于容置腔410靠近阀腔133的内壁411、使得该膜片420的中部可与内壁411之间可留有间隙430(仅在图4c和图4d中示出),该侧壁411处还开设有可将第一端口131与间隙430连通的第一通路431、以及可将第二端口132与间隙430连通的第二通路432;容置腔410内还插入有一控制杆460,该控制杆460可在伸入容置腔410方向上、以及退出容置腔410方向上伸缩运动,并可通过在伸入容置腔410方向上的运动使膜片420与内壁411紧密接触、以阻塞第一端口131与第二端口132之间通过间隙430的连通,还可通过在退出容置腔410方向上的运动使膜片420的中部与内壁411之间保持间隙430的存在、以使第一端口131与第二端口132之间可通过间隙430连通。
参见图4a,控制杆460通过在伸入容置腔410方向上的运动使膜片420与内壁411紧密接触、将第一端口131与第二端口132之间通过间隙430的连通予以阻塞;与此同时,气体容器11输出工业气体,活塞134可在第一端口131的气体压力推动下向阀腔133上部移动、以保持第一端口131与第二端口132之间能够通过阀腔133的连通。此时,工业气体能够、且仅能够按照如箭头所示方向,依次经第一端口131、阀腔130、第二端口132流向处理设备12。
参见图4b,控制杆460通过在伸入容置腔410方向上的运动使膜片420与内壁411紧密接触,将第一端口131与第二端口132之间通过间隙430的连通予以阻塞;与此同时,处理设备13产生工业气体或废气回流,活塞134会在第二端口132的气体压力推动下向阀腔133下部移动、将第一端口131与第二端口132之间通过阀腔133的连通也予以阻塞。此时,能够防止来自处理设备13的如箭头所示方向的工业气体或废气回流。
在上述如图4a和图4b中,双向阀300与现有如图2所示逆制阀130的工作原理基本一致,因而称如图4a和图4b所示的状态为逆制状态。
参见图4c,控制杆460通过在退出容置腔410方向上的运动使膜片420与内壁411保持有间隙430,以使第一端口131与第二端口132之间可通过间隙430连通,因而工业气体可依次经由第一通路431、间隙430、第二通路432流向处理设备12;与此同时,气体容器11输出工业气体,由于工业气体依次经由第一通路431、间隙430、第二通路432流向处理设备12,因而使得第一端口131处的气体压力不足以推动活塞134向阀腔133上部移动。此时,工业气体能够、且仅能够按照如箭头所示方向,依次经由第一通路431、间隙430、第二通路432流向处理设备12。
参见图4d,控制杆460通过在退出容置腔410方向上的运动使膜片420与内壁411保持有间隙430,以使第一端口131与第二端口132之间可通过间隙430连通;与此同时,处理设备12输出待回收废气,活塞134会在第二端口132的气体压力推动下向阀腔133下部移动、以阻塞第一端口131与第二端口132之间通过阀腔133的连通。此时,待回收废气能够、且仅能够按照如箭头所示方向,依次经由第二通路432、间隙430、第一通路431返回至气体容器11,尔后再传输至气体洗刷器14进行清洗后排放。
在上述如图4c和图4c中,双向阀300可实现气体双向流通,因而称如图4c和图4d所示的状态为双向状态。换言之,只要操作控制杆460、使之在退出容置腔410方向上运动,即可将双向阀300由逆制状态切换为双向状态。
实际应用中,膜片420可以由各种合金材料制成,较佳地选用镍合金。而控制杆460则可选用通过螺纹连接伸入、退出容置腔的螺纹杆。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并非用于限定本发明的保护范围。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换以及改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种双向阀,包括一阀体,其中,
阀体具有第一端口和第二端口;
阀体内设有可将第一端口与第二端口连通的阀腔;
阀腔内收容一活塞,该活塞可在第一端口的压力推动下保持前述连通、在第二端口的压力推动下阻塞前述连通;
其特征在于,
阀体还内设有容置腔;
容置腔内具有一膜片,该膜片的边缘固定于容置腔内壁、且该膜片的中部可与前述内壁之间留有将第一端口与第二端口连通的间隙;
容置腔内还插入有一控制杆,该控制杆可通过在伸入容置腔方向上的运动使膜片与前述内壁紧密接触、通过在退出容置腔方向上的运动保持前述间隙。
2.如权利要求1所述的双向阀,其特征在于,膜片为合金材料。
3.如权利要求2所述的双向阀,其特征在于,合金材料为镍合金。
4.如权利要求1所述的双向阀,其特征在于,控制杆为通过螺纹连接伸入、退出容置腔的螺纹杆。
5.如权利要求1至4中任一项所述的双向阀,其特征在于,第一端口与可提供并回收工业气体的气体容器连通、第二端口与利用工业气体的处理设备连通,气体容器还与气体洗刷器连通。
6.一种使用工业气体的半导体加工系统,包括:
可提供并回收工业气体的气体容器;
利用工业气体的处理设备;
以及阀体,该阀体具有与气体容器连通的第一端口和与处理设备连通的第二端口,且阀体内设有可将第一端口与第二端口连通的阀腔,阀腔内收容一活塞,该活塞可在第一端口的压力推动下保持前述连通、在第二端口的压力推动下阻塞前述连通;
其特征在于,
阀体还内设有容置腔;
容置腔内具有一膜片,该膜片的边缘固定于容置腔内壁、且该膜片的中部可与前述内壁之间留有将第一端口与第二端口连通的间隙;
容置腔内还插入有一控制杆,该控制杆可通过在伸入容置腔方向上的运动使膜片与前述内壁紧密接触、通过在退出容置腔方向上的运动保持前述间隙。
7.如权利要求6所述的系统,其特征在于,膜片为合金材料。
8.如权利要求7所述的系统,其特征在于,合金材料为镍合金。
9.如权利要求6所述的系统,其特征在于,控制杆为通过螺纹连接伸入、退出容置腔的螺纹杆。
10.如权利要求6至9中任一项所述的系统,其特征在于,气体容器进一步与气体洗刷器连通。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2009100533734A CN101929560B (zh) | 2009-06-18 | 2009-06-18 | 双向阀及使用工业气体的半导体加工系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2009100533734A CN101929560B (zh) | 2009-06-18 | 2009-06-18 | 双向阀及使用工业气体的半导体加工系统 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101929560A CN101929560A (zh) | 2010-12-29 |
CN101929560B true CN101929560B (zh) | 2012-05-30 |
Family
ID=43368899
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2009100533734A Expired - Fee Related CN101929560B (zh) | 2009-06-18 | 2009-06-18 | 双向阀及使用工业气体的半导体加工系统 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN101929560B (zh) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0533201A1 (en) * | 1991-09-18 | 1993-03-24 | Applied Materials Japan, Inc. | Liquid vaporization valve |
CN2403969Y (zh) * | 1999-11-26 | 2000-11-01 | 杨秀文 | 双向止回阀 |
CN2492718Y (zh) * | 2001-07-03 | 2002-05-22 | 李爱仓 | 一种热水器水箱用机械式自动控制双向阀 |
CN1087260C (zh) * | 1996-07-08 | 2002-07-10 | C·H·&I·技术公司 | 双向阀 |
-
2009
- 2009-06-18 CN CN2009100533734A patent/CN101929560B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0533201A1 (en) * | 1991-09-18 | 1993-03-24 | Applied Materials Japan, Inc. | Liquid vaporization valve |
CN1087260C (zh) * | 1996-07-08 | 2002-07-10 | C·H·&I·技术公司 | 双向阀 |
CN2403969Y (zh) * | 1999-11-26 | 2000-11-01 | 杨秀文 | 双向止回阀 |
CN2492718Y (zh) * | 2001-07-03 | 2002-05-22 | 李爱仓 | 一种热水器水箱用机械式自动控制双向阀 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101929560A (zh) | 2010-12-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105365521B (zh) | 悬架阀组、油气悬架控制系统和方法及车辆 | |
CN101865189A (zh) | 应用于混凝土或煤泥输送装置的电液控制系统及控制该系统的方法 | |
CN101929560B (zh) | 双向阀及使用工业气体的半导体加工系统 | |
CN106461098A (zh) | 用于轮胎压力管理系统的阀组件 | |
US20200179890A1 (en) | Chemical synthesis device | |
CN204284530U (zh) | 二位五通双气控阀 | |
CN203713465U (zh) | 一种空气弹簧充放气控制系统 | |
CN205715005U (zh) | 液压系统以及包括该液压系统的设备 | |
CN104029722A (zh) | 工程机械液压转向系统 | |
KR20160131956A (ko) | 유로유닛 및 전환밸브 | |
CN203978960U (zh) | 一种金属塑性挤锻成型设备的液压系统 | |
CN204253482U (zh) | 一种双向卸荷阀 | |
CN204432477U (zh) | 一种液压举升系统 | |
CN204529275U (zh) | 一种多通道灌装机 | |
US11608487B2 (en) | Fluid supply interface having a safety valve for a cell culture system, use of such a fluid supply interface for managing cell culture containers, and cell culture management system | |
CN204224239U (zh) | 一种外置阀真空加注枪 | |
CN209398872U (zh) | 一种高洁净无滞留易拆球阀 | |
CN104192982A (zh) | 无需额外动力的mbr脉冲曝气装置及设有该装置的曝气系统 | |
CN102392909A (zh) | 一种压力容器限压机构 | |
CN207599019U (zh) | 一种新型气动球型换向阀 | |
MX2010010307A (es) | Separador para recibir un fluido bajo presion que contiene al menos un material solido y un liquido. | |
JP2012012943A (ja) | 真空発生システム | |
CN105511511B (zh) | 水压快速控制系统 | |
CN214635266U (zh) | 一种安全便捷的锂亚硫酰氯电液转移装置 | |
JP2016037003A (ja) | 液体転写装置および液体転写装置用チャンバーの洗浄方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20120530 Termination date: 20200618 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |