CN101813896A - 一种低张力正胶显影液 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种低张力正胶显影液,其特征是包括以下质量百分比的组份:四甲基氢氧化铵2.35~2.41、非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基醚0.2~0.3、水97.29~97.45。本发明具有表面张力低及显影液的使用寿命长的优点。
Description
一、技术领域
本发明涉及一种正胶显影液,尤其涉及一种用于IC、FPD制造用正性光刻胶的低张力正胶显影液。
二、背景技术
正胶显影液,无色的有机碱性水溶液,有特殊臭味,有腐蚀性;该产品主要用于IC、FPD制造用正性光刻胶的显影剂;可防止和减少钠离子的污染,改善应用性能,具有显影干净、亲和力性能好等优点,有利于提高分辩力。目前低张力正胶显影液的成份主要为四甲基氢氧化铵(TMAH);该产品主要存在以下几点缺点:
①该正胶显影液的表面张力大于等于70,应用后其产品容易产生过显和CD值不稳定的现象;
②该正胶显影液的使用寿命短,由此在生产使用时显影液消耗量大,造成单位成本较高。
三、技术内容
针对上述缺点,本发明的目的在于提供一种表面张力低及显影液的使用寿命长的低张力正胶显影液。
本发明的技术内容为,一种低张力正胶显影液,其特征是包括以下质量百分比的组份
四甲基氢氧化铵 2.35~2.41
非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基醚 0.2~0.3
水 97.29~97.45。
本发明的低张力正胶显影液的为常规方法,即:将原料四甲基氢氧化铵、聚氧乙烯烷基醚和水按比例打入调配罐中,,经过0.5um过滤器循环过滤,再经0.2μm的过滤器过滤,以去除混合液中粒径大于0.2μm的有害粒子,即得低张力正胶显影液。
本发明在原有工艺的基础上新加入微量非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基醚,使其表面张力控制在我们需要的制定范围之内,可以有效避免常规产品出现的过显及CD值问题,使其在使用效果不受影响的前提下显影速率均匀快速,使用后产品显影线条无锯齿形且清晰。
本发明与现有技术相比所具有的优点是:
1、在本发明的低张力正胶显影液中加入微量非离子型表面活性剂,使其表面张力降于70,避免常规产品出现过显及CD值问题。
2、本发明的低张力正胶显影液的使用寿命长,减少显影液的消耗量,降低客户产生中的使用成本。
四、具体实施方式
下面通过实施例进一步描述本发明,但未限于所举的实施例。
浓度为25重量%的四甲基氢氧化铵,高纯级,杭州格林达化学有限公司生产,其指标如
表1
类别 | 高纯级 以%计 |
含量 | 25.0±0.3 |
钠(Na) | ≤1×10-6 |
钾(K) | ≤1×10-6 |
铁(Fe) | ≤1×10-6 |
镍(Ni) | ≤1×10-6 |
铜(Cu) | ≤1×10-6 |
铬(Cr) | ≤1×10-6 |
锌(Zn) | ≤1×10-6 |
钙(Ca) | ≤1×10-6 |
镁(Mg) | ≤1×10-6 |
锰(Mn) | ≤1×10-6 |
银(Ag) | ≤1×10-6 |
铅(Pb) | ≤1×10-6 |
表1
浓度为99重量%的聚氧乙烯烷基醚,优等级,南京威尔化工有限公司,其指标如表2
类别 | 优等级 以%计 |
含量 | ≥99.0 |
外观 | 合格 |
表2
例1、称取四甲基氢氧化铵9.52kg,在搅拌下加入装有50kg水的反应釜中,充分搅拌均匀15分钟,加入聚氧乙烯烷基醚0.22kg,加水至100kg,搅拌20分钟后,将制得的混合物经0.5μm的过滤器过滤,以去除混合物中粒径大于0.5μm的有害粒子,即得低张力正胶显影液,其表明张力为42。
例2、称取四甲基氢氧化铵9.52kg,在搅拌下加入装有50kg水的反应釜中,充分搅拌均匀15分钟,加入聚氧乙烯烷基醚0.25kg,加水至100kg,搅拌20分钟后,将制得的混合物经0.5μm的过滤器过滤,以去除混合物中粒径大于0.5μm的有害粒子,即得低张力正胶显影液,其表明张力为41.5。
例3、称取四甲基氢氧化铵9.52kg,在搅拌下加入装有50kg水的反应釜中,充分搅拌均匀15分钟,加入聚氧乙烯烷基醚0.27kg,加水至100kg,搅拌20分钟后,将制得的混合物经0.5μm的过滤器过滤,以去除混合物中粒径大于0.5μm的有害粒子,即得低张力正胶显影液,其表明张力为41。
例4、称取四甲基氢氧化铵9.52kg,在搅拌下加入装有50kg水的反应釜中,充分搅拌均匀15分钟,加入聚氧乙烯烷基醚0.3kg,加水至100kg,搅拌20分钟后,将制得的混合物经0.5μm的过滤器过滤,以去除混合物中粒径大于0.5μm的有害粒子,即得低张力正胶显影液,其表明张力为41。
Claims (1)
1.一种低张力正胶显影液,其特征是包括以下质量百分比的组份
四甲基氢氧化铵 2.35~2.41
非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基醚 0.2~0.3
水 97.29~97.45。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102540772A (zh) * | 2011-12-30 | 2012-07-04 | 江阴江化微电子材料股份有限公司 | 一种低张力正胶显影液及其制备方法 |
CN103955122A (zh) * | 2014-05-06 | 2014-07-30 | 富士胶片电子材料(苏州)有限公司 | 一种彩色滤光片用显影液 |
CN103955119A (zh) * | 2014-04-17 | 2014-07-30 | 富士胶片电子材料(苏州)有限公司 | 一种用于半导体集成电路中的显影液 |
CN103955121A (zh) * | 2014-05-06 | 2014-07-30 | 富士胶片电子材料(苏州)有限公司 | 一种用于彩色滤光片的显影液 |
CN104330958A (zh) * | 2014-10-25 | 2015-02-04 | 江阴市化学试剂厂有限公司 | 正胶显影液制备方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04109252A (ja) * | 1990-08-30 | 1992-04-10 | Tokuyama Soda Co Ltd | ホトレジスト用現像液 |
JPH04346351A (ja) * | 1991-05-23 | 1992-12-02 | Tokuyama Soda Co Ltd | ホトレジスト用現像液 |
JPH07120935A (ja) * | 1993-10-25 | 1995-05-12 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 |
CN1392973A (zh) * | 2000-09-21 | 2003-01-22 | 德山株式会社 | 光致抗蚀剂显影液 |
-
2010
- 2010-04-01 CN CN 201010139084 patent/CN101813896A/zh active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04109252A (ja) * | 1990-08-30 | 1992-04-10 | Tokuyama Soda Co Ltd | ホトレジスト用現像液 |
JPH04346351A (ja) * | 1991-05-23 | 1992-12-02 | Tokuyama Soda Co Ltd | ホトレジスト用現像液 |
JPH07120935A (ja) * | 1993-10-25 | 1995-05-12 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 |
CN1392973A (zh) * | 2000-09-21 | 2003-01-22 | 德山株式会社 | 光致抗蚀剂显影液 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102540772A (zh) * | 2011-12-30 | 2012-07-04 | 江阴江化微电子材料股份有限公司 | 一种低张力正胶显影液及其制备方法 |
CN103955119A (zh) * | 2014-04-17 | 2014-07-30 | 富士胶片电子材料(苏州)有限公司 | 一种用于半导体集成电路中的显影液 |
CN103955122A (zh) * | 2014-05-06 | 2014-07-30 | 富士胶片电子材料(苏州)有限公司 | 一种彩色滤光片用显影液 |
CN103955121A (zh) * | 2014-05-06 | 2014-07-30 | 富士胶片电子材料(苏州)有限公司 | 一种用于彩色滤光片的显影液 |
CN104330958A (zh) * | 2014-10-25 | 2015-02-04 | 江阴市化学试剂厂有限公司 | 正胶显影液制备方法 |
CN104330958B (zh) * | 2014-10-25 | 2019-02-22 | 江阴市化学试剂厂有限公司 | 正胶显影液制备方法 |
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