CN101812742A - 一种超细全消光抗紫外线混合纤维 - Google Patents

一种超细全消光抗紫外线混合纤维 Download PDF

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王耀清
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Abstract

一种超细全消光抗紫外线混合纤维,首先把聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚乳酸熔融共混,并在共混中添加消光剂,抗紫外整理剂,共混后的化纤聚酯与水溶性聚酯通过双组分纺丝工艺纺丝,两种聚酯同时通过喷丝板进行纺丝,然后把水溶性聚酯溶解,再用聚乳酸降解酶的溶解对超细纤维进行生物仿真丝处理,超细全消光抗紫外线混合纤维。

Description

一种超细全消光抗紫外线混合纤维
技术领域
本发明涉及一种纤维领域,特别涉及一种超细全消光抗紫外线混合纤维。
背景技术
超细纤维是近年来发展迅速的差别化纤维的一种,被称为新一代的合成纤维,是一种高品质、高技术的纺织原料,是化学纤维向高技术、高仿真化方向发展的新合纤的典型代表;超细纤维由于直径很小,因此其弯曲刚度很小,纤维手感特别柔软;超细纤维的比表面积很大,因此超细纤维织物的覆盖性、蓬松性和保暖性有明显提高,比表面积大纤维与灰尘或油污接触的次数更多,而且油污从纤维表面间缝隙渗透的机会更多,因此具有极强的清洁功能;将超细纤维制成超高密织物,纤维间的空隙介于水滴直径和水蒸汽微滴直径之间,因此超细织物具有防水透汽效果;超细纤维在微纤维之间具有许多微细的孔隙,形成毛细管构造,如果加工成可被水润湿的毛巾类织物,则具有高吸水性,洗过的头发用这种毛巾可很快将水份吸掉,使头发快干。
超细纤维可以做成仿真丝、仿桃皮绒、仿麂皮绒、仿毛和高密类产品,但柔软,舒适,光滑度和抗紫外线较差。
发明内容
为了开发更多种类的纤维,本发明开发了一种具有丝绸般柔软,舒适,光滑的超细全消光抗紫外线混合纤维。
一种超细全消光抗紫外线混合纤维,首先把聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚乳酸熔融共混,并在共混中添加消光剂纳米级二氧化硅,抗紫外整理剂纳米级氧化锌,共混后的化纤聚酯与水溶性聚酯通过双组分纺丝工艺纺丝,两种聚酯同时通过喷丝板进行纺丝,丝线的横截面被水溶性聚酯分成扇形,其中每个共混聚酯的扇形又被水溶性聚酯分成多个层面,然后把水溶性聚酯溶解,再用聚乳酸降解酶的溶解对超细纤维进行生物仿真丝处理,超细全消光抗紫外线混合纤维。
共混的化纤聚酯中消光剂二氧化硅添加量为化纤聚酯的2.5~3.0%wt,抗紫外整理剂氧化锌用量为化纤聚酯的1.5~2.0%wt,聚乳酸量占聚酯量的30%,聚对苯二甲酸乙二醇酯占聚酯量的70%。
初纺丝线中,共混聚酯的含量70~75%wt,水溶性聚酯用量25~30%wt。
本发明的进步意义在于:超细全消光抗紫外线混合纤维,制得的面料具有丝绸般柔软,舒适,光滑的感受。
具体实施
为了满足人们生活需求,开发更多种类的纤维,本发明开发了一种具有丝绸般柔软,舒适,光滑的超细全消光抗紫外线混合纤维。
实施例
一种超细全消光抗紫外线混合纤维,首先把聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚乳酸熔融共混,聚乳酸量占聚酯量的30%,聚对苯二甲酸乙二醇酯占聚酯量的70%。并在共混中添加消光剂,抗紫外整理剂,二氧化硅添加量为化纤聚酯的2.5~3.0%wt,氧化锌用量为化纤聚酯的1.5~2.0%wt,共混后的化纤聚酯与水溶性聚酯通过双组分纺丝工艺纺丝,共混聚酯的含量70~75%wt,水溶性聚酯用量25~30%wt,丝线的横截面被水溶性聚酯分成扇形,其中每个共混聚酯的扇形又被水溶性聚酯分成多个层面,然后把水溶性聚酯溶解,再用聚乳酸降解酶的溶解对超细纤维进行生物仿真丝处理,超细全消光抗紫外线混合纤维,制得的面料具有丝绸般柔软,舒适,光滑的感受。

Claims (3)

1.一种超细全消光抗紫外线混合纤维,其特征在于:首先把聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚乳酸熔融共混,并在共混中添加消光剂,抗紫外整理剂,共混后的化纤聚酯与水溶性聚酯通过双组分纺丝工艺纺丝,两种聚酯同时通过喷丝板进行纺丝,然后把水溶性聚酯溶解,再用聚乳酸降解酶的溶解对超细纤维进行生物仿真丝处理,超细全消光抗紫外线混合纤维。
2.根据权利要求1,其特征在于:共混的化纤聚酯中消光剂二氧化硅添加量为化纤聚酯的2.5~3.0%wt,抗紫外整理剂氧化锌用量为化纤聚酯的1.5~2.0%wt,聚乳酸量占聚酯量的30%,聚对苯二甲酸乙二醇酯占聚酯量的70%。
3.根据权利要求1,其特征在于:初纺丝线中共混聚酯的含量70~75%wt,水溶性聚酯用量25~30%wt,初纺丝线的横截面被水溶性聚酯分成扇形,其中每个共混聚酯的扇形又被水溶性聚酯分成多个层面。
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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