CN101767360A - 木质地板加工方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种木地板加工方法,先制作得到木地板的坯板,对坯板进行砂光,上底漆,再制作出木地板侧面的企口,再上面漆。这样做出的木地板除去了木地板侧面残留的油漆,使安装后的地板之间缝隙很小,不易堆积灰尘和滋生细菌,又能保证地板表面无划痕,漆面光洁无尘、美观。本发明适用于实木地板,实木合地板,竹地板加工。
Description
技术领域
本发明属木地板加工技术领域,特别涉及一种无缝木地板加工方法。
背景技术
现有技术中,加工木地板的方法一般是先制作木地板的坯板,然后在坯板侧面制作用于连接的企口,再进行砂光,上漆工艺。加工得到的木地板由于加工工艺以及木地板铡面残留油漆等因素影响,安装时木地板之间企口的连接位置缝隙较大,不易清理,因此容易堆积灰尘和滋生细菌,并影响木地板的美观,为解决上述问题,在竹层积材中有采用先砂光上漆,再加工企口的工艺方法,这种方法也存在着漆面磨损和灰尘堆积板面,漆面易划伤,影响地板美观等问题。
发明内容
本发明的目的在于:提供一种木地板之间安装缝隙很小,表面不易划伤,不易堆积灰尘,整体美观的木地板加工方法。
本发明的技术方案是:先制作木地板的坯板,砂光,上底漆,木地板侧面再开铣企口,再上面漆。
上述的木地板加工方法,作为优选上底漆滚涂2至7道紫外线固化UV底漆,上面漆为滚涂1至2道紫外线固化UV面漆。
上述木地板加工方法,作为优选,面漆和/或底漆选用阻燃UV漆,其中1-2道选用具有耐磨功能的UV漆。
上述木地板加工方法,作为优选,第一道UV底漆为UV腻子漆。
上述木地板加工方法,作为优选,可在上油漆前对地板面层着色。作为优选,面漆涂布量4-15g/m2。
每道漆涂布过程包括:砂光、吸尘、涂UV漆、紫外线灯光固化过程,也可在其中某道省略砂光、吸尘工序。
本发明与现在技术相比具有下列优点
由于采用了先上底漆,然后开企口,再上面漆工艺,面漆层很薄,企口后的地板侧边不会挂漆,避免了造成拼装时离缝问题发生,开企口时划伤的底漆也因为精密砂光后再涂面漆,得以去掉灰尘,消除划痕使成品地板表面光洁精美。
具体实施方式
本发明实施例:木地板坯板制作,表面砂光后,在油漆生产线上,滚涂2-7道紫外线固化UV底漆,然后在企口加工生产线上开铣企口,再送油漆生产线上滚涂面漆,面漆涂布量1-2道,每道4-15g/m2。
Claims (3)
1.木地板加工方法,其特征在于先制造木地板的坯板,其后砂光,上底漆,其后在坯板侧边开铣企口,再上面漆。
2.根据权利要求1所述的木地板加工方法,其特征在于,上底漆采用滚涂2至7道紫外线固化UV底漆,上面漆为滚1至2道紫外线固化UV面漆,每道面漆涂布量4-15g/m2。
3.根据权利要求2所述的上底漆的方法,每道漆涂佈过程包括精密砂光、吸尘、滚涂UV漆、紫外线灯光固化过程,在其中几道油漆上漆过程中可以省略砂光,吸尘工序。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
CN200810163898A CN101767360A (zh) | 2008-12-29 | 2008-12-29 | 木质地板加工方法 |
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CN101767360A true CN101767360A (zh) | 2010-07-07 |
Family
ID=42500533
Family Applications (1)
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CN200810163898A Pending CN101767360A (zh) | 2008-12-29 | 2008-12-29 | 木质地板加工方法 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106862041A (zh) * | 2017-04-19 | 2017-06-20 | 欧派家居集团股份有限公司 | 实色板材及其涂装工艺 |
CN106863046A (zh) * | 2017-01-17 | 2017-06-20 | 优居优住家居装饰(北京)有限公司 | 无荃防霉防潮uv实色地板加工方法 |
CN112031320A (zh) * | 2020-08-24 | 2020-12-04 | 苏州建诚新材料有限责任公司 | 一种珠光金银粉装饰板材的生产方法 |
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2008
- 2008-12-29 CN CN200810163898A patent/CN101767360A/zh active Pending
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20100707 |