CN101733694A - 一种新型柔性抛光打磨头 - Google Patents
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Abstract
一种新型柔性抛光打磨头，属于五金工具技术领域。目的在于：提供一种能够适应在凸凹起伏较大的平面上打磨抛光使用。所采用的技术方案是：采用适当硬度的橡胶，做成可以充气的圆柱体，并用一根长轴穿过其中，在可充气圆柱体的外边套上环形的砂布，使用时充足一定压力的空气，将砂布绷紧，将突出的一段轴夹持在手持的电动工具上，即可以对工件抛光打磨。有益效果：由于充气的打磨头可以随凸凹平面相应地变化，所以，它能适应凸凹起伏较大的平面上打磨抛光使用，达到较好的抛光与打磨效果。
Description
技术领域
本发明涉及一种打磨抛光打磨头，特别是一种新型柔性抛光打磨头。属于五金工具技术领域。
背景技术
金属材料表面除锈抛光；家具油漆之前的表面抛光；墙壁面的毛面找平打磨以及其它需要打磨抛光的场所与物体，都要使用打磨工具，但是，目前的所有打磨工具都不具有柔性功能，无法适应凸凹起伏较大的平面，所以，打磨的效果不太理想。
发明内容
本发明的目的是要提供一种：能够适应在凸凹起伏较大的平面上打磨抛光使用的一种新型柔性抛光打磨头。
解决其技术问题所采用的技术方案是：采用适当硬度的橡胶，做成可以充气的圆柱体，并用一根长轴穿过其中，在可充气圆柱体的外边套上环形的砂布，使用时充足一定压力的空气，将砂布绷紧，将突出的一段轴夹持在手持的电动工具上，即可以对工件抛光打磨。
有益效果：由于充气的打磨头可以随凸凹平面相应地变化，所以，它能适应凸凹起伏较大的平面上打磨抛光使用，达到较好的抛光与打磨效果。
附图说明
附图是本发明的原理图。
图中所示：1、芯轴；2、紧固螺母；3、垫圈；4、充气筒；5、环形砂布；6、气门芯。
具体实施方式
采用适当硬度的橡胶，做成可以充气的圆柱体充气筒(4)，并用一根长轴(1)穿过其中，在充气筒(4)的左右两边的内外，用垫圈(3)将充气筒(4)的两面夹紧《注意各结合面要适当的涂胶，使之达到良好的密封效果》，之后用紧固螺母(2)紧固。在可充气的圆柱体外边套上环形的砂布(5)，使用时充足一定压力的空气，将砂布绷紧，将突出的一段轴夹持在手持的电动工具上，即可以对工件抛光打磨，打磨完成后即可推动(6)还原。
Claims (4)
1.一种新型柔性抛光打磨头，是由：芯轴(1)、紧固螺母(2)、垫圈(3)、充气筒(4)、环形砂布(5)、气门芯(6)组成。
2.根据权利要求1所述的一种新型柔性抛光打磨头，其特征在于：充气筒(4)是由橡胶做成的可以充气的筒体。
3.根据权利要求1或2所述的一种新型柔性抛光打磨头，其特征在于：充气筒(4)上面套装有环形砂布(5)。
4.根据权利要求1或3所述的一种新型柔性抛光打磨头，其特征在于：使用时充足一定压力的空气，将砂布绷紧，将突出的一段轴夹持在手持的电动工具上，即可以对工件抛光打磨，打磨完成后即可推动(6)还原。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN200810174595A CN101733694A (zh) | 2008-11-07 | 2008-11-07 | 一种新型柔性抛光打磨头 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN200810174595A CN101733694A (zh) | 2008-11-07 | 2008-11-07 | 一种新型柔性抛光打磨头 |
Publications (1)
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| CN101733694A true CN101733694A (zh) | 2010-06-16 |
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Family Applications (1)
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| CN200810174595A Pending CN101733694A (zh) | 2008-11-07 | 2008-11-07 | 一种新型柔性抛光打磨头 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN101733694A (zh) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2008
- 2008-11-07 CN CN200810174595A patent/CN101733694A/zh active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20100616 |