CN101733560B - 激光调阻中首脉冲能量抑制的控制系统和控制方法 - Google Patents

激光调阻中首脉冲能量抑制的控制系统和控制方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101733560B
CN101733560B CN 200910217806 CN200910217806A CN101733560B CN 101733560 B CN101733560 B CN 101733560B CN 200910217806 CN200910217806 CN 200910217806 CN 200910217806 A CN200910217806 A CN 200910217806A CN 101733560 B CN101733560 B CN 101733560B
Authority
CN
China
Prior art keywords
laser
pulse
pulsewidth
signal
pulse energy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN 200910217806
Other languages
English (en)
Other versions
CN101733560A (zh
Inventor
孙继凤
刘立峰
郭晓光
汤建华
田兴志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS
Original Assignee
Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS filed Critical Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS
Priority to CN 200910217806 priority Critical patent/CN101733560B/zh
Publication of CN101733560A publication Critical patent/CN101733560A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101733560B publication Critical patent/CN101733560B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)

Abstract

激光调阻中首脉冲能量抑制的控制系统和控制方法,属于半导体器件的激光精细加工领域。该控制系统包括激光器、光电转换器、幅度检测电路模块、光刻控制器、脉宽可调信号发生器、扫描振镜、聚焦透镜、被调电阻。采用脉宽可调控制技术,对系列激光脉冲串的首脉冲或前几个脉冲能量进行抑制,使其等于或低于后续稳定的激光脉冲的能量。采用能量相同的激光脉冲串进行调阻,可获得边缘光滑、无龟裂、无缺损的优质光刻切槽。提高了激光调阻后的阻值稳定性和可靠性,从而提高了激光调阻的片阻品质,尤其针对小尺寸片阻,采用该控制方法的效果更明显。

Description

激光调阻中首脉冲能量抑制的控制系统和控制方法
技术领域
本发明属于半导体器件的激光精细加工领域,是一种片式电阻激光刻蚀修调中首脉冲能量抑制的激光精细加工的控制系统和工艺控制方法。
背景技术
随着微电子技术的飞速发展,激光精细加工技术在半导体微电子产业中的作用越来越重要,激光片式电阻阻值修调设备(激光调阻机)是激光精细加工领域中具有代表性的工业设备之一。激光调阻原理:采用高频脉冲激光先后分别沿片阻导体的横截面和纵截面两个方向进行刻蚀,刻痕路径上相应的半导体材料气化,改变了片阻导体的导电路径和导电面积,使电阻阻值增大,在激光刻蚀片阻的过程中,采用高精密快速电桥实时检测片阻的阻值变化,当片阻阻值达到要求的电阻精度时,激光修调电阻结束。在这一激光调阻过程中,同时满足相应的刻槽质量、阻值温漂等工艺要求。目前国际上仅有美国、日本等少数几家公司可以生产这种设备,其刻蚀速度可达每小时四十几万只,刻蚀精度可达千分之一,刻槽形状、刻痕有着严格的工艺要求。
发明内容
近几年来,由于片阻尺寸越来越小,对片式电阻的刻蚀工艺和控制精度也提出了更高的要求。激光调阻中,影响调阻精度和阻值温漂的主要的光刻工艺控制参数是激光功率、激光脉冲频率、刻蚀光斑重叠率等。激光功率和脉冲频率决定了激光单脉冲能量,即气化片阻导体材料的能力,该值越大,其气化能力越强,该值分布越集中,其气化边缘越光滑,阻值温漂越小;光斑重叠率决定了单脉冲激光改变片阻阻值的能力,即改变阻值变化量,该值越大,其气化掉的片阻体积越小,阻值变化量越小,调阻精度越高。从调阻工艺要求的角度考虑,要保证较小的温漂,刻痕需要具有垂直、光滑的边缘,同时,整条刻痕要有很好的一致性。这就要求用于光刻调阻的系列激光脉冲串具有相同的能量。尤其对于尺寸较小的0402型号以下的片阻而言,激光脉冲串能量的一致性更为重要。但是,对于脉冲激光器,间隔输出的任意系列的激光脉冲串,其首脉冲或前几个脉冲的能量总是明显高于后续稳定脉冲的能量,首脉冲能量是后续脉冲能量的十几倍,甚至是几十倍。如此高能量的首脉冲激光可造成小尺寸片阻基板破裂、电阻体缺损、导体龟裂等现象,影响电阻功率和阻值稳定性,给片式电阻修调带来了巨大的问题。因此,有效抑制激光首脉冲能量对小尺寸片阻修调具有非常重要的意义。本发明就是针对上述问题,提供了激光调阻中首脉冲能量抑制的控制系统和控制方法。
激光调阻首脉冲能量抑制的控制系统结构如图1所示,由激光器、光电转换器、幅度检测电路模块、光刻控制器、脉宽可调信号发生器、扫描振镜、聚焦透镜、被调电阻等部分组成,各单元的连接关系是:参数调节时,激光器输出光送给光电转换器,光电转换器输出的电信号再传送给幅度检测电路模块,幅度检测电路将检测的结果送给光刻控制器,光刻控制器控制脉宽可调信号发生器;激光调阻时,激光器的输出光送给扫描振镜,扫描振镜调制激光后再传送给聚焦透镜,聚焦透镜的输出光聚焦到被调电阻上。
开关1和开关2用于选择调阻生产或参数调试的两种工作状态;激光器产生刻蚀片阻的激光,受控于脉宽可调信号发生器电路,内部提供FPS信号接口;光刻控制器是主要的计算和控制核心单元;工艺参数文件用于保存确定的光刻工艺参数;参数调试模块中的光电转换器用于将光信号转换成电信号,幅度检测电路模块用于逐个地检测脉冲光的幅度值;调阻生产模块中的扫描振镜用于控制激光的快速精确定位,聚焦透镜用于将扩束准直激光聚焦成直径约20μm的高能量密度光斑。
图2是FPS脉宽可调控制电路,包括半导体激光器、光电转换器、高速数字信号处理器、扫描振镜、聚焦透镜、被调电阻。
脉宽可调信号发生器其主要工作都是通过高速数字信号处理器DSP实现的,利用DSP内部有A/D转换器作为幅度检测电路,工艺参数文件存放在存储器FLASH中,利用16位的CPU定时器作为脉宽可调的信号发生器,利用I/O端口输出激光器控制信号。
通过采用脉宽可调控制技术,对系列激光脉冲串的首脉冲或前几个脉冲能量进行抑制,使其等于或低于后续稳定的激光脉冲的能量。采用能量相同的激光脉冲串进行调阻,可获得边缘光滑、无龟裂、无缺损的优质光刻切槽。
图3是FPS脉宽可调控制软件流程图。
激光调阻首脉冲能量抑制的控制方法主要包括如下6步:参考图1叙述
1)选择开关1和2进入参数调试的工作状态,光刻控制器设定FPS脉宽为零,并控制激光器出光,光信号经过光电转换后,送给幅度检测电路,幅度检测电路逐个检测脉冲的幅度值,此时,脉冲串的幅度值差异较大,此结果送回光刻控制器。
2)光刻控制器根据检测到的脉冲串的幅度值,从小到大逐渐增加FPS脉宽,用检测后的FPS信号控制激光器出光。
3)随着FPS脉宽的增加,检测电路检测到的脉冲串的幅度值将趋于相同。
4)当脉冲串的幅度值偏差小于设定的阈值时,停止增加FPS脉宽,并将此时的脉宽作为新的脉宽控制参数,存储于工艺参数文件模块中。
5)选择开关1和2进入调阻生产工作状态,光刻控制器直接从工艺参数文件中读取FPS脉冲宽度,用该值控制脉冲可调信号发生器,产生控制激光器的FPS信号,激光器输出光经过扫描振镜和聚焦透镜后,进行刻蚀电阻的操作。
6)当调阻工况发生变化时,可重新选择FPS脉冲宽度。
本发明的优点和有益效果是,利用脉宽可调的FPS信号抑制激光调阻中过高的首脉冲能量,使激光调阻的刻蚀切槽一致性更好,切槽边缘一致光滑、平整、无龟裂、无缺损,提高了激光调阻后的阻值稳定性和可靠性,从而提高了激光调阻的片阻品质,尤其针对小尺寸片阻,采用该控制方法的效果更明显。
附图说明
图1是控制系统的组成原理图,由激光器1、光电转换器2、幅度检测电路3、光刻控制器4、脉宽可调信号发生器5、工艺参数文件模块6、扫描振镜7、聚焦透镜8、被调电阻9等部分组成。
图2是FPS脉宽可调控制电路,包括激光器1、光电转换器2、数字信号处理器10、扫描振镜7、聚焦透镜8、被调电阻9。
图3是FPS脉宽可调控制软件流程图,包括程序初始化11、工作状态判断12、采集数据13、相邻脉冲幅值差判断14、脉宽可调15、参数保存16、参数读取17、周期生产结束18、参数调节结束、调阻生产结束。
具体实施方式
本发明的具体的实施案例如下:
图2是FPS脉宽可调控制方法的硬件电路图,由型号为SP-X30SC半导体激光器1、型号为GT102的光电转换器2、型号为TMS2812的数字信号处理器10、型号为HSS-8006的扫描振镜7、Fθ聚焦透镜8、0402型号被调电阻9等组成。型号为TMS2812的数字信号处理器10是资源丰富的高速信号处理器,利用其内部的多种硬件资源,如A/D转换器、定时器、数据存储器、I/O端口,通过软件编程,可产生脉宽可调的首脉冲能量抑制信号FPS。
其主要的实施过程是通过软件来完成的,控制软件流程如图3所示。首先执行程序初始化11,设定各种资源的控制字,然后进入工作状态判断12,当进入参数调试时,进行激光脉冲串的幅值采集,由采集数据模块13完成;根据相邻脉冲幅值差来动态增加FPS信号的脉宽,由脉宽可调15完成,再进入相邻脉冲幅值差判断14,当相邻脉冲幅值差小于设定的阈值时,将脉宽参数保存,由参数保存16完成,参数调试结束;
当进入调阻生产时,直接从参数文件中读取脉宽参数值,赋给相应的变量,由参数读取17完成,开始进行激光调阻,采用脉宽可调的FPS信号控制激光器,可以得到首脉冲能量抑制的能量相同的激光脉冲串,用该脉冲串进行激光调阻,可得到无裂痕、无缺损、平滑完整的光刻切槽,经历一个生产周期,调阻结束。

Claims (4)

1.激光调阻中脉宽可调的首脉冲能量抑制的控制系统,其特征在于该控制系统包括:激光器(1)、光电转换器(2)、幅度检测电路模块(3)、光刻控制器(4)、脉宽可调信号发生器(5)、工艺参数文件模块(6)、扫描振镜(7)、聚焦透镜(8)、被调电阻(9);
各单元的信号连接关系:参数调节时,激光器(1)输出光送给光电转换器(2),光电转换器输出的电信号再传送给幅度检测电路模块(3),幅度检测电路将检测的结果送给光刻控制器(4),光刻控制器控制脉宽可调信号发生器(5);激光调阻时,激光器(1)的输出光送给扫描振镜(7),扫描振镜调制激光后再传送给聚焦透镜(8),聚焦透镜的输出光聚焦到被调电阻(9)上;
开关1和开关2用于选择调阻生产或参数调试的两种工作状态;激光器(1)产生刻蚀片阻的激光,受控于脉宽可调信号发生器(5),内部提供首脉冲能量抑制信号接口;光刻控制器(4)是主要的计算和控制核心单元;工艺参数文件模块(6)保存光刻工艺参数;参数调试模块中的光电转换器(2)将光信号转换成电信号,幅度检测电路模块(3)逐个地检测脉冲激光的幅度值;调阻生产模块中的扫描振镜(7)控制激光的快速精确定位,聚焦透镜(8)将扩束准直激光聚焦成高能量密度光斑。
2.根据权利要求1所述的激光调阻中脉宽可调的首脉冲能量抑制的控制系统,其特征在于脉宽可调信号发生器(5),其主要工作都是通过高速数字信号处理器(10)实现的,利用高速数字信号处理器内部的A/D转换器作为幅度检测电路,工艺参数文件存放在存储器FLASH中,利用16位的CPU定时器作为所述的脉宽可调的信号发生器(5),利用I/O端口输出激光器控制信号。
3.激光调阻中脉宽可调的首脉冲能量抑制的控制方法,其特征在于控制步骤如下:
1)选择开关1进入参数调试的工作状态,光刻控制器(4)设定首脉冲能量抑制信号脉宽为零,并控制激光器(1)出光,光信号经过光电转换器(2)后,送给幅度检测电路模块(3),幅度检测电路逐个检测脉冲的幅度值,此时,脉冲串的幅度值差异较大,此结果送回光刻控制器(4);
2)光刻控制器(4)根据检测到的脉冲串的幅度值,从小到大逐渐增加首脉冲能量抑制信号脉宽,用检测后的首脉冲能量抑制信号控制激光器(1)出光;
3)随着首脉冲能量抑制信号脉宽的增加,幅度检测电路检测到的脉冲串的幅度值将趋于相同;
4)当脉冲串的幅度值偏差小于设定的阈值时,停止增加首脉冲能量抑制信号脉宽,并将此时的脉宽作为脉宽控制参数,存储于工艺参数文件模块(6)中;
5)选择开关2进入调阻生产工作状态,光刻控制器(4)直接从工艺参数文件中读取首脉冲能量抑制信号脉冲宽度,用该值控制脉宽可调信号发生器(5),产生控制激光器的首脉冲能量抑制信号,激光器输出光经过扫描振镜(7)和聚焦透镜(8)后,进行刻蚀电阻的操作;
6)当调阻工况发生变化时,可重新选择首脉冲能量抑制信号脉冲宽度。
4.根据权利要求3所述的激光调阻中脉宽可调的首脉冲能量抑制的控制方法,其特征在于脉宽可调信号发生器(5)控制电路,其主要工作都是通过高速数字信号处理器实现的,其控制程序是首先执行程序初始化(11),设定各种资源的控制字,然后进入工作状态判断(12),当进入参数调试时,由采集数据(13)进行激光脉冲串的幅值采集;根据相邻脉冲幅值差由脉宽可调(15)来动态增加首脉冲能量抑制信号的脉宽,再进入相邻脉冲幅值差判断(14),当相邻脉冲幅值差小于设定的阈值时,由参数保存(16)将脉宽参数保存,参数调试结束;
当进入调阻生产时,直接从工艺参数文件中读取脉宽参数值,赋给相应的变量,由参数读取(17)完成,开始进行激光调阻,采用脉宽可调的首脉冲能量抑制信号控制激光器,得到首脉冲能量抑制的能量相同的激光脉冲串,用该脉冲串进行激光调阻,得到无裂痕、无缺损、平滑完整的光刻切槽,经历一个生产周期,调阻结束。
CN 200910217806 2009-11-04 2009-11-04 激光调阻中首脉冲能量抑制的控制系统和控制方法 Expired - Fee Related CN101733560B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 200910217806 CN101733560B (zh) 2009-11-04 2009-11-04 激光调阻中首脉冲能量抑制的控制系统和控制方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 200910217806 CN101733560B (zh) 2009-11-04 2009-11-04 激光调阻中首脉冲能量抑制的控制系统和控制方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101733560A CN101733560A (zh) 2010-06-16
CN101733560B true CN101733560B (zh) 2012-03-21

Family

ID=42457869

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 200910217806 Expired - Fee Related CN101733560B (zh) 2009-11-04 2009-11-04 激光调阻中首脉冲能量抑制的控制系统和控制方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN101733560B (zh)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105537759B (zh) * 2015-12-17 2017-03-29 长春光华微电子设备工程中心有限公司 薄膜晶片调阻的光刻逐列定位控制方法
CN105762633A (zh) * 2016-05-19 2016-07-13 中国科学院光电研究院 一种皮秒激光器及抑制皮秒激光器中的首脉冲的方法
CN105932535B (zh) * 2016-06-16 2019-03-19 大恒新纪元科技股份有限公司 一种具有首脉冲自抑制功能的再生放大器
CN107671426B (zh) * 2017-10-23 2023-11-03 深圳市杰普特光电股份有限公司 激光标刻装置及其标刻方法
CN108944064B (zh) * 2018-06-07 2021-02-23 广州四为科技有限公司 调测装置、调测热敏头阻值的方法
CN109509602B (zh) * 2018-12-29 2023-11-03 深圳市杰普特光电股份有限公司 一种激光调阻机
CN118280671B (zh) * 2024-05-11 2024-10-18 武汉大学 一种飞秒激光修阻方法及系统

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1350306A (zh) * 2000-10-23 2002-05-22 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 片式电阻刻蚀的激光脉宽可调控制方法
CN1988296A (zh) * 2005-12-19 2007-06-27 深圳市大族激光科技股份有限公司 用声光q电源抑制声光调q激光器首重点的方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1350306A (zh) * 2000-10-23 2002-05-22 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 片式电阻刻蚀的激光脉宽可调控制方法
CN1988296A (zh) * 2005-12-19 2007-06-27 深圳市大族激光科技股份有限公司 用声光q电源抑制声光调q激光器首重点的方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP特开2002-151235A 2002.05.24
JP特开2003-347636A 2003.12.05

Also Published As

Publication number Publication date
CN101733560A (zh) 2010-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101733560B (zh) 激光调阻中首脉冲能量抑制的控制系统和控制方法
CN103264227B (zh) 一种激光直接刻蚀聚合物基体表面覆盖金属膜的方法
CN101244523B (zh) 激光加工检测方法及其专用仪器
CN110625271A (zh) 超快激光pcb钻孔的装备及其方法
CN110542684A (zh) 一种光学薄膜激光损伤阈值测试系统及其方法
JP2014054671A (ja) レーザベースのウェハ加工の間にスループットを高めるようにパラメータを適応化するシステム及び方法
CN104625417B (zh) 基于电子动态调控的飞秒激光控制镍表面形貌的方法
CN102416528A (zh) 脉冲激光刻蚀玻璃基底油墨上铜导电膜的装置及其方法
CN109799074B (zh) 一种光学薄膜激光损伤阈值快速测量装置
CN103143839A (zh) 一种红外纳秒脉冲激光刻蚀gps触控面板上导电层的装备和方法
CN103056527A (zh) 用于tol、ogs触控上导电膜层激光刻蚀的装置及其方法
CN101011780A (zh) 使用激光束形成通孔的方法
CN202317434U (zh) 一种激光加工自动调焦装置
TW201043373A (en) Improved method and apparatus for laser machining
CN103179789A (zh) 一种软硬结合板的开盖方法及其操作系统
CN210967521U (zh) 超快激光pcb钻孔的装备
CN109648210B (zh) 激光灼刻装置及系统
CN102773609A (zh) 一种脉冲激光刻蚀有机玻璃上双面铜膜的装置及方法
JP2017051990A (ja) レーザ加工方法
CN202398941U (zh) 脉冲激光刻蚀玻璃基底油墨上铜导电膜的装置
CN107685196B (zh) 一种激光加工晶圆的方法及装置
CN108428790A (zh) 紫外激光作用于“磁性材料/GeSbTe/基底”异质结构实现磁光耦合复合存储的方法
CN203509347U (zh) 激光打点装置
CN202667927U (zh) 一种脉冲激光刻蚀有机玻璃上导电膜层的装置
CN209206705U (zh) 陶瓷涂层表面微坑制备装置及陶瓷涂层表面微坑制备设备

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
EE01 Entry into force of recordation of patent licensing contract

Application publication date: 20100616

Assignee: ChangChun GuangHua Micro-electronics Eguipment Engineering Center Co., Ltd.

Assignor: Changchun Inst. of Optics and Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sci

Contract record no.: 2014220000012

Denomination of invention: Control system and control method for inhibiting first pulse energy during laser resistor trimming

Granted publication date: 20120321

License type: Exclusive License

Record date: 20140226

LICC Enforcement, change and cancellation of record of contracts on the licence for exploitation of a patent or utility model
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20120321

Termination date: 20171104

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee