CN101710670A - 带有限制光反馈结构分别驱动的发射波长为808nm锥形半导体激光器 - Google Patents

带有限制光反馈结构分别驱动的发射波长为808nm锥形半导体激光器 Download PDF

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曲轶
曲博文
李辉
邓昀
张斯钰
李月一
刘规东
娄丽
刘国军
薄报学
高欣
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Abstract

普通宽条808nm半导体激光器,输出功率很高,达到瓦级以上,但是通常为多模激光器且光束质量较差,缩小条宽可提高光束质量等,但是相应的,要以牺牲激光器的输出功率为代价。因此,带有限制光反馈结构分别驱动的发射波长为808nm锥形半导体激光器,便可以有效的解决这一矛盾,即保证了光束质量和输出功率。本发明的目的在于设计出一种新型结构的半导体激光器,使808nm半导体激光器在保持高功率的工作条件下,仍具有较好的光束质量与激光输出模式,为以808nm半导体激光器为泵浦源的固体激光器、材料加工等应用提供更高质量的光源。

Description

带有限制光反馈结构分别驱动的发射波长为808nm锥形半导体激光器
技术领域
本发明涉及半导体激光器新型结构设计方面,属于新型半导体激光器件研发领域。
背景技术
随着人们对半导体激光器的高功率高亮度性能的不断追求,九十年代以后,人们逐渐开始了对锥形半导体激光器的研究。锥形半导体激光器因其良好的光束质量(M2<4)和较高的输出功率(达瓦级以上)被称为最有前景的器件,其波长能够覆盖735nm-1550nm的范围。普通宽条半导体激光器,通常为多模激光器,若减小条宽,可以得到单模输出光束,但条宽减小出光面面积便减小,导致出光面具有较高的功率密度,容易发生光学灾变,出现丝状发光现象和空间烧孔效应等,使得光束质量变差,于是需要增加半导体激光器条宽来解决光束质量差的问题。一方面为得到单模工作要减小条宽,另一方面要得到较好的光束质量要增加条宽,这便是普通宽条半导体激光器与生俱来的矛盾。带有锥形功率放大区脊型波导锥形激光器,便可以有效的解决这一问题。
这种激光器的脊型波导区用来进行模式选择,即保证激光器的单模工作;锥形功率放大区用来进行功率放大,获得较好的光束质量。
对于锥形半导体激光器的研究已经有所报道,但是对于发射波长为808nm的锥形半导体的报道很少。2006年和2007年国际上报道了808nm锥形半导体激光器的相关研制工作。
本发明设计了一种带有光反馈限制结构分别驱动的发射波长为808nm锥形半导体激光器,锥形功率放大区与脊型波导区进行分别驱动;在脊型波导区带有限制光反馈结构,用来防止锥形功率放大区光反馈到脊型波导区产生干扰,从而保持稳定的激光输出模式。
发明内容
本发明为带有光反馈限制结构分别驱动的发射波长为808nm锥形半导体激光器,是一种新型结构半导体激光器件。脊型波导、光反馈限制结构可以使激光器获得较好的激光发射模式,也就是作为单模工作的保障;脊型波导区与锥形功率放大区进行分别驱动是使激光器具有良好的P-I特性;锥形功率放大区起到功率放大作用,得到高功率输出的激光。
本发明具体方案如下:脊型波导(1)与锥形功率放大区(2)采用分别驱动结构(4),即锥形功率放大区与脊型波导区连接处由绝缘物质隔离开;锥形角度(3)范围为4°至7.5°;在脊型波导区靠近锥形功率放大区的位置处带有限制光反馈结构(5);脊型波导宽度为3μm至5μm;限制光反馈结构的宽度为10μm,长度范围是250μm至300μm,其所在位置相对于脊型波导的中线成轴对称分布,并与其成45°夹角;出光面(前端面)镀增透膜,其反射率为1%,后端面镀增反膜,其反射率95%。
附图说明:图1是第一次光刻后形貌示意图;图2是第二次光刻后形貌示意图;图3第三次光刻后形貌示意图。
具体实施方式
(1)清洗外延片,烘干。
(2)进行第一次光刻,制作锥形功率放大区(2),形成锥形台面,其示意图如图1所示
(3)溅射SiO2薄膜,作为绝缘介质膜。
(4)进行第二次光刻,制作脊型波导区(1),形成脊型台面。其示意图如图2所示
(5)溅射SiO2薄膜,作为绝缘介质膜。
(6)进行第三次光刻,制作光反馈限制结构(3),刻蚀出穿越有源区的“八”字形阻断结构。其示意图如图3所示
(7)制作P面电极,电极材料自下而上分别为Ti、Pt、Au。
(8)N面剪薄,制作N面电极,电极材料自上而下分别为AuGe、Ni。
(9)解理成长条形,端面镀膜,前端面镀增透膜其反射率为1%,后端面镀增反膜其反射率为95%。
(10)焊接引线并封装。
 

Claims (6)

1.一种带有限制光反馈结构分别驱动的发射波长为808nm锥形半导体激光器。
2.根据权利要求1所述一种带有限制光反馈结构分别驱动的发射波长为808nm锥形半导体激光器的特征在于,该激光器采用脊型波导(1)其宽度范围是3μm至5μm。
3.根据权利要求1所述一种带有限制光反馈结构分别驱动的发射波长为808nm锥形半导体激光器的特征在于,该激光器带有锥形功率放大区(2),锥形角度(3)在4°至7°范围内。
4.根据权利要求1所述一种带有限制光反馈结构分别驱动的发射波长为808nm锥形半导体激光器的特征在于,该激光器的脊型波导与锥形功率放大区采用分别驱动结构(4)。
5.根据权利要求1所述一种带有限制光反馈结构分别驱动的发射波长为808nm锥形半导体激光器的特征在于,该激光器带有限制光反馈结构(5),其形如“八”字,宽度为10μm,长度范围是250μm至300μm,深度为稍大于器件P面至有源层底部的距离。其所在位置相对于脊型波导的中线成轴对称分布,并与其成45°夹角。
6.根据权利要求1所述一种带有限制光反馈结构分别驱动的发射波长为808nm锥形半导体激光器的特征在于,出光面(前端面)镀增透膜,其反射率为1%,后端面镀增反膜,其反射率为95%。
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