CN101659031A - 一种珩磨机的油石进给装置 - Google Patents

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沈浩
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Abstract

一种珩磨机的油石进给装置,涉及珩磨机的技术领域,所解决的是提高现有珩磨机的油石进给灵敏度及精度的技术问题。珩磨机包括动力输出轴和油石进给轴,其特征在于:该装置包括从内至外顺序套接的凸轮、具有外齿的柔轮、具有内齿的刚轮,所述凸轮上固接有控制轴,所述的柔轮与刚轮齿接,并能随凸轮的转动弹性变形,所述的刚轮由相互独立的分别连接动力输出轴和油石进给轴的主刚轮和从刚轮组成,所述从刚轮的内齿与柔轮的外齿具有齿差。利用本发明提供的油石进给装置,运动平稳且无瞬间冲击,承载能力和传动范围也较大,而且结构简单、损耗小。

Description

一种珩磨机的油石进给装置
技术领域
本发明涉及珩磨机的技术,特别是涉及一种珩磨机的油石进给装置的技术。
背景技术
珩磨机是利用油石珩磨工件精加工表面的设备,其油石的进给控制关系到珩磨的精度,传统珩磨机的油石进给装置都采用滑槽式、齿轮传动方式控制油石进给。滑槽式进给都利用一锥轴作轴向的移动,从而利用锥轴的锥面推动油石座径向涨缩以实现进给,这种进给方式结构简单且体积较小,但是其进给运动不平稳,且瞬间冲击较大,不容易控制珩磨精度,承载能力也较差;而齿轮传动进给虽然解决了滑槽式进给的缺点,但是其传动范围较小、结构复杂、体积也较大,且齿轮间的损耗也较大,会影响加工精度。
发明内容
针对上述现有技术中存在的缺陷,本发明所要解决的技术问题是提供一种运动平稳且无瞬间冲击,承载能力和传动范围也较大,而且结构简单、齿轮间损耗小,从而能提高油石的进给灵敏度及精度的珩磨机的油石进给装置。
为了解决上述技术问题,本发明所提供的一种珩磨机的油石进给装置,珩磨机包括动力输出轴和油石进给轴,其特征在于:该装置包括从内至外顺序套接的凸轮、具有外齿的柔轮、具有内齿的刚轮,所述凸轮上固接有控制轴,所述的柔轮与刚轮齿接,并能随凸轮的转动弹性变形,所述的刚轮由相互独立的分别连接动力输出轴和油石进给轴的主刚轮和从刚轮组成,所述从刚轮的内齿与柔轮的外齿具有齿差。
本发明提供的珩磨机的油石进给装置,由于采用凸轮、柔轮、刚轮组成的谐波减速器来控制油石的进给,对油石的进给操作经谐波减速器能平稳的传递给油石,不会产生瞬间冲击,而且谐波减速器的承载能力和传动范围也较大,其结构也较简单、齿轮间损耗小,能提高油石的进给灵敏度及精度。
附图说明
图1是本发明实施例的油石进给装置安装在珩磨机上的结构示意图;
图2是本发明实施例的油石进给装置的结构示意图;
图3是图2沿A-A线剖切后的左视图。
具体实施方式
以下结合附图说明对本发明的实施例作进一步详细描述,但本实施例并不用于限制本发明,凡是采用本发明的相似结构及其相似变化,均应列入本发明的保护范围。
如图1-图3所示,本发明实施例所提供的一种珩磨机的油石进给装置,珩磨机包括动力输出轴1和油石进给轴2,其特征在于:该装置包括从内至外顺序套接的凸轮3、具有外齿的柔轮4、具有内齿的刚轮,所述凸轮3上固接有控制轴5,所述的柔轮4与刚轮齿接,并能随凸轮3的转动弹性变形,所述的刚轮由相互独立的分别连接动力输出轴1和油石进给轴2的主刚轮6和从刚轮7组成,所述从刚轮7的内齿与柔轮4的外齿具有齿差。
所述主刚轮6上设有主齿轮9,所述动力输出轴1上设有主轴齿轮8,所述动力输出轴1经主轴齿轮8、主齿轮9连接主刚轮6并带动其转动。
所述从刚轮7上设有从齿轮11,所述油石进给轴2上设有进给轴齿轮10,从刚轮7经从齿轮11、进给轴齿轮10连接油石进给轴2并带动其转动。
工作时,动力输出轴1经主轴齿轮8、主齿轮9带动主刚轮6转动,在控制轴5无输入状态下,主刚轮6通过柔轮4带动从刚轮7同步转动,从刚轮7再经从齿轮11、进给轴齿轮10带动油石进给轴2转动,此时油石进给轴2与动力输出轴1同步转动,无转速差;当控制轴5输入一个同向或反向转速后,控制轴5带动凸轮3转动,从而使柔轮4随其转动弹性变形,柔轮4上的齿也沿着凸轮3的转动方向依次与刚轮上的齿啮合、脱开,由于柔轮4的外齿与从刚轮7的内齿具有齿差,从而通过柔轮4与从刚轮7间的齿差带动从刚轮7相对原转速作加速或减速的转动,从刚轮7再经从齿轮11、进给轴齿轮10带动油石进给轴2加速或减速转动,实现油石的进给。

Claims (1)

1、一种珩磨机的油石进给装置,珩磨机包括动力输出轴和油石进给轴,其特征在于:该装置包括从内至外顺序套接的凸轮、具有外齿的柔轮、具有内齿的刚轮,所述凸轮上固接有控制轴,所述的柔轮与刚轮齿接,并能随凸轮的转动弹性变形,所述的刚轮由相互独立的分别连接动力输出轴和油石进给轴的主刚轮和从刚轮组成,所述从刚轮的内齿与柔轮的外齿具有齿差。
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Date Code Title Description
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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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