CN101628526A - 无缝镭射膜及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种无缝镭射膜及其制备方法，其特征在于包括三层结构，由下至上的顺序依次为PET膜层、树脂涂层和铝层，其制备方法流程为PET膜层成型、涂布、模压、镀铝、复纸和印刷，在完成第一次模压后再进行一次模压，并在压辊中添加可注入水的管道以控制温度，通过上述方法制备的镭射膜不出现周期性的版缝，减少了后续生产的损耗，提高了生产效率。
Description
技术领域
本发明涉及一种模压镭射技术领域，特别涉及一种无缝镭射膜技术领域。
背景技术
镭射膜是模压镭射技术与光学、化学、机械及现代印刷技术相结合的当代高技术产品。它是利用激光全息原理，将全息图像通过制版、模压进行快速复制，从而制造出色彩绚丽，具有彩虹般的效果，同时又具备防伪功能的新型包装材料，已广泛使用在香烟、酒、日用化妆品的包装上。
因为模压的原理是将镭射版包在圆柱体的压辊上，将镭射图案压印到连续的PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜上，因此在连续压印过程中故不可避免的会出现周期性1-2cm的版缝，后续的印刷必须要避开版缝，这样会给印刷带来工艺上的缺陷和大量的损耗。
发明内容
为解决上述技术问题，本发明公开了一种无缝镭射膜及其制备方法，在完成第一次模压后再进行一次模压，并在压辊中添加可注入水的管道以控制温度，通过上述方法制备的镭射膜不出现周期性的版缝，减少了后续生产的损耗，提高了生产效率。
本发明是通过以下的技术方案实现的：
一种无缝镭射膜，包括三层结构，由下至上的顺序依次为载体层、镭射成像层和铝层。
所述载体层材料为PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)，厚度为15～18μm之间。
所述镭射成像层材料为树脂，厚度为1～2μm。
所述铝层的材料为金属铝，厚度为300～500nm。
一种无缝镭射膜的制备方法，包括以下步骤：
(1)载体层成型：将PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)粒子熔融后射出拉伸至指定厚度的原膜载体层，其通常宽度6～8米，长度12000～24000米，之后按需求分切；
(2)涂布：将树脂调配成所需的涂布料，经过涂布机作业，将涂布料均匀分布在载体层上，经过烘烤后收卷；
(3)模压：将镭射版上的图案，经过膜压机的作业压印至经过涂布的载体层上；
(4)镀铝：将已有镭射图案的载体层在镀铝机的真空环境下，将铝高温气化后均匀地附着在载体层表面上；
(5)复纸：将镭射膜经过复合机与白卡纸复合成为整体；
(6)印刷：将镭射卡纸印刷成指定的颜色和图案；
所述模压步骤进行两次。
本发明的有益效果为：通过上述制备方法产生的镭射膜无版缝，不会给印刷带来工艺上的缺陷和大量的损耗，不会出现周期性的1～2cm的版缝，填补了国内外镭射包装材料无版缝产品的空白，减少了后续生产的损耗，提高了生产效率。
附图说明
图1是无缝镭射膜的结构图
图2是现有技术生产的镭射膜出现版缝的情况示意图
图3是无缝镭射膜制备方法的流程图
具体实施方式
以下结合附图对本发明进一步说明。
如图1是无缝镭射膜包括三层结构，由下至上的顺序依次为载体层3、镭射成像层2和铝层1。载体层3的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯，厚度为15～18μm之间，起到载体的作用；镭射成像层2的材料为树脂，根据不同的需求可调配不同的厚度，一般为1～2μm，可起到镭射成像的作用；铝层1的材料为金属铝，厚度可在300～500nm之间变化，加强镭射成像层的反射效果。图2是现有技术制备镭射膜出现版缝的情况，其中载体层的PET膜4上不可避免的会出现周期性的1～2cm的版缝5。
图3是无缝镭射膜制备方法的流程图，本发明按照以下的方法步骤进行制备：
(301)载体层成型：将PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)粒子熔融后射出拉伸至指定厚度的原膜载体层，其通常宽度6～8米，长度12000～24000米，之后按需求分切；
(302)涂布：将树脂调配成所需的涂布料，经过涂布机作业，将涂布料均匀分布在载体层上，经过烘烤后收卷；
(303)模压：将镭射版上的图案，经过膜压机的作业压印至经过涂布的载体层上；
(304)镀铝：将已有镭射图案的载体层在镀铝机的真空环境下，将铝高温气化后均匀地附着在载体层表面上；
(305)复纸：将镭射膜经过复合机与白卡纸复合成为整体；
(306)印刷：将镭射卡纸印刷成指定的颜色和图案；
其中步骤303的模压过程进行两次，完成第一次压印制作成具有版缝的镭射膜后再经过镭射轮的第二次模压而制成，最后制作完成的无缝镭射膜从压印设备的出料轮释放出来，可起到生产的产品无版缝的效果，模压过程运用的材料就是上述步骤中经过涂布的载体层，利用镭射母版，经过电铸，复制成工作板，用于模压机压印，研磨胶辊，可修复模压机胶辊表面，利用复卷机对复卷膜复卷，将经过模压的成品膜裁切成所需的宽度和对接成指定的长度。其中第二次模压所使用的镭射轮内部具有一条通道，用于注入冰水以降低镭射轮的温度。
以下制备不同厚度的无缝镭射膜。
实施例1
载体层：15μm，镭射成像层：1μm，铝层：300nm；
实施例2
载体层：18μm，镭射成像层：2μm，铝层：500nm；
实施例3
载体层：16.5μm，镭射成像层：1.5μm，铝层：400nm；
实施例4
载体层：15μm，镭射成像层：2μm，铝层：300nm；
实施例5
载体层：18μm，镭射成像层：1μm，铝层：500nm；
通过以上实施例数据制备的镭射膜在大型生产中均不出现版缝，填补了镭射包装材料无版缝产品的空白，提高了生产效率。
Claims (6)
1、一种无缝镭射膜，其特征在于包括三层结构，由下至上的顺序依次为载体层、镭射成像层和铝层。
2、如权利要求1所述的无缝镭射膜，其特征在于所述载体层材料为PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)，厚度为15～18μm之间。
3、如权利要求1所述的无缝镭射膜，其特征在于所述镭射成像层材料为树脂，厚度为1～2μm。
4、如权利要求1所述的无缝镭射膜，其特征在于所述铝层的材料为金属铝，厚度为300～500nm。
5、一种无缝镭射膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：
(1)载体层成型：将PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)粒子熔融后射出拉伸至指定厚度的原膜载体层，其通常宽度6～8米，长度12000～24000米，之后按需求分切；
(2)涂布：将树脂调配成所需的涂布料，经过涂布机作业，将涂布料均匀分布在载体层上，经过烘烤后收卷；
(3)模压：将镭射版上的图案，经过膜压机的作业压印至经过涂布的载体层上；
(4)镀铝：将已有镭射图案的载体层在镀铝机的真空环境下，将铝高温气化后均匀地附着在载体层表面上；
(5)复纸：将镭射膜经过复合机与白卡纸复合成为整体；
(6)印刷：将镭射卡纸印刷成指定的颜色和图案。
6、如权利要求5所述的制备方法，其特征在于所述模压步骤进行两次。
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