CN101615550A - 一种等离子显示屏及其障壁的制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种等离子显示屏及其障壁的制作方法。本发明的等离子显示屏包括：前基板、后基板、电极、介质层、障壁、以及荧光粉，其中障壁包括位于后基板上的底层障壁和设置在底层障壁上的顶层障壁，其中顶层障壁是由黑色感光性材料通过光刻法形成的。本发明的等离子显示屏障壁的制作方法包括以下步骤：在形成有寻址电极和介质层的后基板上设置底层障壁；以及通过光刻法在底层障壁上设置由黑色感光性材料制成的顶层障壁。利用本发明的等离子显示屏障壁的制作方法可以获得高精细度的障壁。

Description

一种等离子显示屏及其障壁的制作方法

技术领域

本发明属于气体放电技术领域，具体地，涉及一种等离子显示屏(Plasma Display Panel)及其障壁的制作方法。

背景技术

等离子显示屏由前、后基板以及制作在后基板上的电极、介质层、障壁、以及荧光粉等功能器件组成。其中，设置在后基板的白色介质层与前基板透明介质层之间的障壁既作为两玻璃基板之间的隔子，又作为防止光串和电串之用，障壁可以是条状，也可以是格子状。在障壁的表面和白色介质层上分别依次覆盖红、绿、蓝三基色荧光粉。三基色荧光粉分别为红色R：(Y，Ga)BO₃:Eu，绿色G：Zn₂SiO₄:Mn，蓝色B：BaMgAl₁₄O₂₃:Eu²⁺。障壁制作一直是等离子显示屏制造中的瓶颈，特别是随着等离子显示屏分辨率的提高，制作高精细化等离子显示屏障壁也愈加困难，这制约了等离子显示屏向高清化方向发展。

等离子显示屏障壁的传统的制作方法主要有丝网印刷法、喷砂法、以及湿法刻蚀法等。印刷法应用于早期的VGA级别的等离子显示屏，因为采用印刷法不能形成高精细度的障壁，而且随着印刷次数的增加，丝网容易产生非弹性形变，使障壁达不到精细度要求。喷砂法和湿法刻蚀法目前应用较为广泛。利用喷砂法形成等离子显示屏障壁的工艺如下：在形成有介质层的玻璃基板上印刷或涂覆障壁浆料并干燥形成障壁层，用曝光后能抵抗喷砂刻蚀的DFR(dryfilm resist)膜覆盖障壁层，利用障壁曝光母版对DFR膜进行曝光、显影后形成能耐砂粒喷蚀的障壁掩膜，然后通过高压气流将砂粒喷到障壁层上，障壁层中被DFR膜覆盖的部分被保留下来形成障壁，其余的障壁材料层被喷掉，最后，将障壁掩膜揭掉(剥膜)并进行烧结从而形成障壁。由于喷砂法需要反复多次喷砂才能形成所需的障壁厚度，因此随着障壁厚度的增大，后续过程中喷出的砂粒可能会破坏已经形成的障壁，因此完全采用喷砂法形成的障壁缺陷较多且不利于得到高精细度障壁。另外，传统的喷砂法烧结后会在障壁末端形成突出物，这些突出物影响了前基板与后基板的紧密结合，从而导致了误放电和异常噪音。利用湿法刻蚀法形成等离子显示屏障壁的工艺如下：在后基板上印刷或涂覆障壁浆料，干燥烧结后再涂覆感光胶或DFR膜，干燥后，用掩膜板遮盖，在紫外线下曝光并形成潜像，然后用稀碱溶液显影，除去没有曝光的部分，最后再用一定温度和压力的稀酸溶液进行刻蚀，由于所用感光胶或DFR膜具有耐酸刻蚀性，因此，没有感光胶保护的地方，障壁被刻蚀溶解，而有感光胶保护的障壁未发生刻蚀，从而形成需要的特定形状的障壁。由于湿法刻蚀法需要反复进行刻蚀才能形成所需的障壁厚度，因此随着障壁厚度的增大，刻蚀液可能会破坏已经形成的障壁形貌，因此完全采用湿法刻蚀法形成障壁时操控相对困难不利于形成高质量的障壁形貌。而且喷砂法和湿法刻蚀法存在着材料利用率低、污染大等方面的缺点，在制作高精细化障壁时，成型困难，良品率低。

为此，使用当前流行的材料和工艺制作出优质的高精细化等离子显示屏障壁成为一个急需解决的难题。

发明内容

本发明目的在于提供了一种等离子显示屏及其障壁的制作方法，通过将障壁分为两次成型，尤其是顶层障壁采用光刻法制作，制作出高精细度的等离子显示屏障壁。

本发明目的通过以下技术方案实现。

根据本发明的一个方面，提供了一种等离子显示屏，包括前基板、后基板、电极、介质层、障壁、以及荧光粉，该等离子显示屏具有两层障壁结构，即障壁包括位于后基板上的底层障壁和设置在底层障壁上的顶层障壁，其中顶层障壁是由黑色感光性材料通过光刻法形成的。

在本发明中，构成底层障壁的材料可以是适于喷砂法或湿法刻蚀法的障壁材料，并且底层障壁相应地采用喷砂法或湿法刻蚀法形成。

顶层障壁的宽度小于底层障壁的宽度，优选地，顶层障壁的宽度比底层障壁的宽度小10～20μm。

顶层障壁基本上设置在底层障壁的中间部位。

顶层障壁的高度在10～30μm的范围内，以及顶层障壁的宽度在25～35μm的范围内。

根据本发明的另一个方面，提供了一种等离子显示屏障壁的制作方法，包括以下步骤：在形成有寻址电极和介质层的后基板上设置底层障壁；以及通过光刻法在底层障壁上设置由黑色感光性材料制成的顶层障壁。

在上述制作方法中，构成底层障壁的材料为喷砂用或湿法刻蚀用障壁材料，底层障壁相应地采用喷砂法或湿法刻蚀法完成。底层障壁的掩膜版与顶层障壁的掩膜版均包含具有相同对应关系的障壁图形及用于对准的对位标记。优选地，顶层障壁的掩膜版障壁的图形线条窄于底层障壁的掩膜版障壁的图形线条。

本发明的等离子显示屏障壁具有由不同材料形成的双层结构，即，具有由喷砂法或湿法刻蚀法形成的底层障壁和由光刻法形成的顶层障壁，其与现有等离子显示屏的障壁相比，在形成顶层障壁的过程中避免了喷砂法中的砂粒和湿法刻蚀中的刻蚀液对已经形成的底层障壁造成的破坏，另外，顶层障壁在底层障壁成形后制作，可在一定程度上弥补制作底层障壁时形成的缺陷，因此获得了精细度相对较高、形貌较好的等离子显示屏障壁，且大大提高了制作的良品率。

通过以下说明，本发明的其它和另外的目的、特征以及优点将更充分地被呈现。

附图说明

图1是制作的底层障壁层的示意性剖视图。

图2是制作的底层障壁的示意性剖视图。

图3是制作的顶层障壁层的示意性剖视图。

图4是成型的等离子显示屏障壁的示意性剖视图。

具体实施方式

除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本发明所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。

本发明的主要特点是采用两种方法来构建等离子显示屏的障壁，其中，顶层障壁7通过光刻法形成。由于采用光刻法一次形成所需厚度的障壁极为困难，而进行多次反复光刻又使工艺过于复杂，因此，底层障壁5采用成本较低的喷砂法或湿法刻蚀法进行。

在本发明中，构成底层障壁5的材料为喷砂用障壁材料，该喷砂用障壁材料包括玻璃粉末、溶剂、树脂、以及无机填充粉末，其中，例如，玻璃粉末采用PbO-B₂O₃-SiO₂系、BaO-ZnO-B₂O₃-SiO₂系、ZnO-Bi₂O₃-B₂O₃-SiO₂系等低熔点玻璃粉末，溶剂采用萜品醇、二乙二醇单丁醚乙酸酯、2，2，4-三甲基-1，3-戊二醇单异丁酸酯等，树脂采用乙基纤维素、羟乙基纤维素、甲基纤维素等，无机填充粉末采用石英玻璃、α-石英、氧化铝、氧化钛、氧化锆等，可由上述成分以不同的组合、配比制作喷砂用障壁浆料，并且底层障壁5采用喷砂法形成。可替换地，构成底层障壁5的材料为湿法刻蚀用障壁材料，该湿法刻蚀用障壁材料包括玻璃粉末、溶剂、树脂、以及无机填充粉末，其中，例如，玻璃粉末采用B₂O₃-ZnO-BaO系、B₂O₃-ZnO-BaO-Na₂O系、B₂O₃-ZnO-BaO-K₂O系低熔点玻璃粉末，溶剂采用萜品醇、二乙二醇单丁醚乙酸酯等，树脂通常采用乙基纤维素，无机填充粉末通常采用氧化铝、氧化钛等，可由上述成分以不同的组合、配比制作酸刻蚀用障壁浆料，并且底层障壁5采用湿法刻蚀法形成。

在本发明中，构成顶层障壁7的材料为黑色感光性材料，其通常可以包括以下成分：

有机聚合物粘合剂

添加有机聚合物粘合剂是为了在将感光浆料涂布到基板上时改善涂布性质和涂层膜的稳定性。

有机聚合物粘合剂的例子包括那些含有非酸性共聚单体或酸性共聚单体的有机聚合物粘合剂。优选的是由下文所述组分制备的共聚物或混聚物。

(1)非酸性共聚单体，选自C₁-C₁₀丙烯酸烷基酯、C₁-C₁₀甲基丙烯酸烷基酯、苯乙烯、取代的苯乙烯或这些化合物的组合；和

(2)酸性共聚单体，其含有烯键不饱和羧酸。

酸性共聚单体的含量以有机聚合物粘合剂的总重量为基准计至少为15％，或者优选为15-30％。当酸性共聚单体的存在浓度低于15％时，则难以用碱性水溶液洗掉该浆料。当有机酸性共聚单体的存在浓度超过30％时，则该浆料在显影条件下稳定性低，并且在图像显影过程中只是部分显影。合适的酸性共聚单体的例子包括：烯键型不饱和一元羧酸，诸如丙烯酸、甲基丙烯酸和巴豆酸；烯键型不饱和二元羧酸，诸如富马酸、衣康酸、柠康酸、乙烯基丁二酸和马来酸；这些化合物的半酯；以及，在某些情况下，这些化合物的酸酐或它们的混合物。甲基丙烯酸聚合物类比丙烯酸聚合物类更优选，因为前者在低氧气氛下能完全烧尽。

当非酸性共聚单体是上述的丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸烷基酯时，较佳的是，这种非酸性共聚单体占有机聚合物粘合剂的至少50％，或者优选占有机聚合物粘合剂的75-85％。

当非酸性共聚单体是苯乙烯或取代苯乙烯时，较佳的是，这种非酸性共聚单体占有机聚合物粘合剂的50％，剩余的50％是酸性共聚单体如马来酸酐的半酯。优选的取代苯乙烯是α-甲基苯乙烯。

当有机聚合物粘合剂的非酸性部分是丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸烷基酯、苯乙烯或取代苯乙烯时，可以用其它单体取代该部分。取代单体的例子包括丙烯腈、乙酸乙烯酯和丙烯酰胺。非酸性成分可含有等于或小于约50％的这种取代单体。但是，当有机聚合物粘合剂含有这种取代单体时，在烧结过程中完全除去有机聚合物粘合剂的难度更高。因此，这类单体优选在有机聚合物粘合剂总重量中占约小于25％。

有机聚合物粘合剂可以由单一共聚物制备或由共聚物的组合制备，只要能够满足上述显影性质和烧结性质方面的标准即可。当共聚物组合使用时，除了上述共聚物外，还可以加入少量其它有机聚合物粘合剂。作为举例，上述共聚物对该其它有机聚合物粘合剂的比例为95∶5。其它有机聚合物粘合剂的例子包括聚烯烃，诸如聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯、聚异丁烯和乙烯-丙烯共聚物，和低级环氧烷聚合物。

在一种优选的实施方式中，使用甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸共聚物来制备有机聚合物粘合剂。这种共聚物高分子的骨架结构具有优异的紫外光透过性，在印刷或涂覆时具有良好的成膜性，在500℃以上600℃以下烧结时能充分挥发，残留少。

当有机聚合物粘合剂是上述优选类型时，可在本发明的感光浆料中使用的有机聚合物粘合剂可通过丙烯酸酯聚合中常用的溶液聚合法来制备。

通常，上述酸性丙烯酸酯聚合物可通过以下步骤来制备：将可在沸点较低(75-150℃)的有机溶剂中共聚的α或β-烯型不饱和酸(酸性共聚单体)和一种或多种乙烯基单体(非酸性共聚单体)相混合，得到10-60％的单体混合物溶液；然后，将所得的混合物在常压下、在溶剂回流的温度下加热。在聚合反应基本上完成后，使所得的酸性聚合物溶液冷却到室温，收集产物。然后，测量粘度、分子量和酸当量。

此外，上述有机聚合物粘合剂的分子量保持在10000-50000之间，或优选小于25000。有机聚合物粘合剂在障壁浆料中含量为15-25％。

光聚合引发剂

可以选用的光引发剂包括：二苯甲酮、α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮、α，α-二乙氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、2-苯基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉苯基)-丁酮-1、1-羟基-环己基苯酮、α-胺烷基苯酮、双苯甲酰基苯基氧化膦、四甲基米蚩酮、4，4’-二苯氧基二苯甲酮。可以是一种引发剂引发，也可以两种或多种组合引发剂引发。优选2-苯基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉苯基)-丁酮-1，及其含有此引发剂的组合引发剂。光引发剂在障壁浆料中的含量优选为1-8％。

稀释剂

本发明中使用的感光浆料还可以含有稀释剂，其可以是活性稀释剂或者非活性稀释剂，其中优选活性稀释剂。所谓活性稀释剂是指其在固化过程参与聚合，而非活性稀释剂是指在固化过程中不参加反应而仅起稀释作用。活性稀释剂包括但不限于苯乙烯、丙烯酸丁酯、醋酸乙烯酯、1，6-己二醇双丙烯酸酯、二缩/三缩丙二醇双丙稀酸酯、二缩/三缩乙二醇双丙稀酸酯、乙氧化双酚A双丙烯酸酯、聚乙二醇双丙烯酸酯。活性稀释剂可单独使用也可几种混用。其含量优选20-60％。非活性稀释剂包括但不限于脂族醇和脂族醇酯，诸如乙酸酯和丙酸酯；松木树脂、a-或β-萜品醇或它们的混合物制的萜烯；乙二醇和L-醇酯，诸如乙二醇单丁基醚和丁基溶纤剂乙酸酯；丁基卡必醇和卡必醇酯，诸如丁基卡必醇乙酸酯和卡必醇乙酸酯；Texanol(2，2，4-三甲基-1，3-戊二醇单异丁酸酯)。

以障壁浆料的总重量为基准计，稀释剂在障壁浆料中的含量为10-20％。

玻璃粉末

在感光浆料中加入玻璃粉末是为了形成烧结后的顶层障壁骨架并与底层障壁相粘接。该玻璃粉末包括但不限于：PbO-B₂O₃-SiO₂系、PbO-ZnO-B₂O₃系、PbO-B₂O₃-SiO₂-ZnO系、P₂O₅-PbO-V₂O₅-Sb₂O₃系、Na₂O-CaO-P₂O₅系、Na₂O-BaO-P₂O₅系、Na₂O-Al₂O₃-P₂O₅系、Li₂O-BaO-P₂O₅系、SnO-P₂O₅系、ZnO-P₂O₅系、RO-R′O-P₂O₅系(R为Li、Na或K；R′为Ba或Ca)、SnO-B₂O₃-P₂O₅系、SnO-ZnO-P₂O₅系、B₂O₃-ZnO-V₂O₅系、SiO₂-AlO-RO系、ZnO-B₂O₃-SiO₂系、SiO₂-B₂O₃-Al₂O₃-Li₂O系、B₂O₃-ZnO-V₂O₅系、SiO₂-B₂O₃-Al₂O₃-Li₂O-P₂O₅系、B₂O₃-ZnO-BaO-SrO-V₂O₅系、Bi₂O₃-B₂O₃-BaO系、B₂O₃-BaO-ZnO、Bi₂O₃-B₂O₃-BaO-ZnO系、B₂O₃-BaO-ZnO-SiO₂系玻璃粉末。以障壁浆料的总重量为基准计，玻璃粉末在障壁浆料中的含量为30-60％。

黑色颜料

加入黑色颜料的目的是提高等离子显示屏的对比度，可以使用的黑色颜料可以是例如：Co₂O₃、Co₃O₄、或者Fe、Co、Mn的氧化物或者它们的混合氧化物、以及以Co-Cr-Fe、Co-Mn-Fe、Co-Mn-Fe-Al、Co-Ni-Cr-Fe、Co-Ni-Mn-Cr-Fe、Co-Ni-Al-Cr-Fe、Co-Mn-Al-Cr-Fe-Si为主要成分的金属氧化物或复合金属氧化物。黑色颜料在障壁浆料中含量为10-30％。

在本发明的一种具体实施方式中，上述形成顶层障壁7的障壁浆料是由聚氨酯丙烯酸酯作为有机聚合物粘合剂、α，α-二乙氧基苯乙酮作为光聚合引发剂、醋酸乙烯酯作为稀释剂、SiO₂-B₂O₃-Al₂O₃-Li₂O系玻璃作为玻璃粉末、Co-Cr-Fe氧化物作为黑色颜料等成分配制而成，其中各成分的用量为：18％的聚氨酯丙烯酸酯、5％的α，α-二乙氧基苯乙酮、12％的醋酸乙烯酯、45％的SiO₂-B₂O₃-Al₂O₃-Li₂O系玻璃粉末、20％的Co-Cr-Fe氧化物。

在本发明中，顶层障壁7采用光刻法形成。通常利用光刻法形成等离子显示屏障壁的具体工艺如下：首先在玻璃基板上涂覆或印刷上一层感光性浆料，然后把涂好的玻璃基板经过干燥炉在适当的温度下干燥，干燥后利用母版的掩膜作用，在紫外线的照射下使母版上没有图形遮挡的地方的浆料硬化，附着到玻璃基板上形成图形，然后在一定浓度的碳酸钠水溶液作用下显影，显示出图形的形状，最后经过烧结使图形固定在玻璃基板上。由于光刻法主要利用感光性材料的特殊性质通过母版图形进行曝光，经显影后得到所需的图形结构，因此其制作的等离子显示屏障壁精细度较高、均匀性好。但是完全使用光刻法难以得到所需厚度的障壁，而且完全使用光刻法浪费大，制造成本较高。因此，本发明考虑将喷砂法或湿法刻蚀法与光刻法相结合以两次成型形成障壁，得到了所需厚度的高精细度的障壁。

最终形成的等离子显示屏障壁包括：位于后基板1上的底层障壁5和设置在底层障壁5上的顶层障壁7。顶层障壁7的宽度小于底层障壁5的宽度，通过这样的结构，可以在阶梯处增加荧光粉挂粉量，从而提高了器件的亮度与视角。顶层障壁7可以基本上设置在底层障壁5的中间部位。

下面将参照附图1-4对本发明的等离子显示屏障壁的制作方法进行详细说明。该等离子显示屏障壁的制作方法，通过对底层障壁5和顶层障壁7分别采用不同的障壁材质和不同的工艺制作出高精细度的等离子显示屏障壁。根据本发明一种具体实施方式的等离子显示屏障壁的制作方法包括如下步骤：

1.在完成寻址电极3和介质层2制作的玻璃基板1上用印刷或涂覆等方法制作适合厚度(例如180～200μm)的底层障壁层4；

2.将形成有底层障壁层4的玻璃基板1在100～200℃的温度范围内干燥；

3.在干燥后的底层障壁层4上贴附DFR(dry film resist)膜或涂覆PR胶；

4.利用底层障壁图形掩膜版对贴附有DFR膜或涂覆有PR胶的玻璃基板1曝光，其中曝光量为200～500mJ/cm²；

5.对曝光后的玻璃基板1进行显影；

6.将显影后的玻璃基板1进行喷砂或湿法刻蚀，得到所需的底层障壁5；

7.在完成底层障壁5制作的玻璃基板1上采用印刷、涂覆等方法制作顶层黑障壁层6；

8.将完成顶层黑障壁层6的玻璃基板1在100～200℃温度范围内干燥；

9.利用顶层黑障壁图形掩膜版对玻璃基板1上的顶层黑障壁层6曝光，其中曝光量为200～500mJ/cm²；

10.对曝光后的玻璃基板1显影，得到所需的顶层黑障壁7；

11.对形成完整障壁图形的玻璃基板1在550℃～600℃高温下烧结获得高精细化障壁。

其中，上述印刷和涂覆方法是分别利用印刷机和涂覆机将浆料施加在预定的位置上进行的。所述底层障壁掩膜版与顶层障壁掩膜版均包含具有相同对应关系的障壁图形及用于对准的对位标记，但底层障壁掩膜版障壁图形与顶层障壁掩膜版障壁图形的线条宽窄不同，顶层障壁图形线条窄于底层障壁图形线条；所述底层障壁掩膜版与顶层障壁掩膜版对位标记的形状、尺寸及与障壁图形的对应关系相同；利用所述底层障壁掩膜版与顶层障壁掩膜版间相同对应关系的障壁图形与对位标记可轻松实现顶层障壁与底层障壁的对准。作为掩膜的障壁图形掩膜版与制作所需障壁相对应，其障壁图形线条宽窄决定了障壁的尺寸

根据上述制作方法形成的顶层障壁7的高度在10～30μm的范围内，宽度在25～35μm的范围内。顶层障壁7的宽度小于底层障壁5的宽度，优选地，顶层障壁7的宽度比底层障壁5的宽度小10～20μm。在本发明的一个具体实施例中，根据喷砂法形成的底层障壁5的高度为100～105μm，其截面大致为等腰梯形，上端面的宽度约为35～40μm。根据光刻法形成的顶层障壁7的高度为10～15μm，宽度为25～30μm。

在本发明的一个比较例中，采用喷砂法一次成形障壁，障壁高度为115～120μm，障壁截面大致为等腰梯形，上端面宽度为30～35μm，为增强可比对性，该比较例与本发明实施例的其他工艺参数及使用的材料相同，表1为本发明的实施例与比较例的性能比较。

表1

从表1中的数据可以看出，采用本发明障壁的等离子显示屏在障壁缺陷、亮度、视角等方面均优于传统的喷砂或刻蚀法障壁的等离子显示屏。

在上述具体实施方式中，首先，采用喷砂法或湿法刻蚀法等形成了相对较厚的底层障壁，然后采用光刻法形成了相对较薄的顶层障壁，由于在形成顶层障壁的过程中避免了喷砂法中的砂粒和湿法刻蚀中的刻蚀液对已经形成的底层障壁的造成的破坏，从而获得了精细度相对较高的等离子显示屏障壁。相对于采用喷砂法或湿法刻蚀法等一次成形障壁，本发明采用两种工艺两种材料两次成形障壁，制作的底层障壁较之一次成形的障壁高度低、顶宽宽，不仅使障壁在喷砂或刻蚀时抗损坏性增强，同时减少了喷砂次数或刻蚀时间，降低了对障壁的冲击次数或刻蚀时间，有利于减少障壁缺陷。顶层障壁采用光刻法有利于形成高精细度障壁，对障壁损害程度小，二次制作顶层障壁还能在一定程度上弥补底层障壁制作时形成的缺陷，提高障壁良品率。另外，截面形状为阶梯状的障壁可以增加荧光粉在障壁侧面的挂粉量及荧光粉在障壁侧面的挂粉高度，从而能够提高器件的亮度与视角。

虽然已经参照特定的具体实施方式详细地描述了本发明的精神，但其仅用于说明目的而并不限制本发明。应当理解，本领域技术人员可以在不背离本发明的范围和精神的情况下，对具体实施方式进行改变或修改。

主要组件符号说明

1玻璃基板    2介质层

3寻址电极    4底层障壁层

5底层障壁    6顶层黑障壁层

7顶层黑障壁。

Claims (10)

1.一种等离子显示屏，包括前基板、后基板、电极、介质层、障壁、以及荧光粉，其特征在于，所述障壁包括位于所述后基板上的底层障壁和设置在所述底层障壁上的顶层障壁，其中，所述顶层障壁是由黑色感光性材料通过光刻法形成的。

2.根据权利要求1所述的等离子显示屏，其中，构成所述底层障壁的材料为喷砂用或湿法刻蚀用障壁材料，并且所述底层障壁相应地采用喷砂法或湿法刻蚀法形成。

3.根据权利要求1所述的等离子显示屏，其中，所述顶层障壁的宽度小于所述底层障壁的宽度。

4.根据权利要求1所述的等离子显示屏，其中，所述顶层障壁设置在所述底层障壁的中间部位。

5.一种等离子显示屏障壁的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：在形成有寻址电极和介质层的后基板上设置底层障壁；以及通过光刻法在所述底层障壁上设置由黑色感光性材料制成的顶层障壁。

6.根据权利要求5所述的等离子显示屏障壁的制作方法，其中，构成所述底层障壁的材料为喷砂用或湿法刻蚀用障壁材料，所述底层障壁相应地采用喷砂法或湿法刻蚀法完成。

7.根据权利要求6所述的等离子显示屏障壁的制作方法，其中，所述顶层障壁的宽度小于所述底层障壁的宽度。

8.根据权利要求7所述的等离子显示屏障壁的制作方法，其中，所述顶层障壁设置在所述底层障壁的中间部位。

9.根据权利要求8所述的等离子显示屏障壁的制作方法，其中，所述底层障壁的掩膜版与所述顶层障壁的掩膜版均包含具有相同对应关系的障壁图形及用于对准的对位标记。

10.根据权利要求9所述的等离子显示屏障壁的制作方法，其中，所述顶层障壁的掩膜版障壁的图形线条窄于所述底层障壁的掩膜版障壁的图形线条。

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