CN101609262A - 光刻机投影物镜的温度控制装置 - Google Patents

光刻机投影物镜的温度控制装置 Download PDF

Info

Publication number
CN101609262A
CN101609262A CNA2009100547332A CN200910054733A CN101609262A CN 101609262 A CN101609262 A CN 101609262A CN A2009100547332 A CNA2009100547332 A CN A2009100547332A CN 200910054733 A CN200910054733 A CN 200910054733A CN 101609262 A CN101609262 A CN 101609262A
Authority
CN
China
Prior art keywords
water
temperature
pipe
temperature control
projection objective
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2009100547332A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101609262B (zh
Inventor
聂宏飞
黄友任
李小平
金敏
余小虎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Original Assignee
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd filed Critical Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority to CN2009100547332A priority Critical patent/CN101609262B/zh
Publication of CN101609262A publication Critical patent/CN101609262A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101609262B publication Critical patent/CN101609262B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

本发明涉及一种光刻机投影物镜的温度控制装置,包括:至少一水套,该水套包括水套体和双螺旋缠绕在该水套体外壁的水管;用于感测该光刻机的投影物镜的温度的至少一温度传感器;分流集流板通过该分流集流管向该水套体的水管提供循环水并接收该水套体的水管内的回流水,该分流集流管上设置有用于控制该水管内的循环水流量的调节阀;循环水控制单元控制循环水的温度,并通过该传输管向该分流集流板提供循环水;投影物镜温度控制单元用于接收该温度传感器感测到的该投影物镜的温度,该投影物镜温度控制单元根据该投影物镜温度值调节该循环水控制单元提供的循环水的温度和该调节阀的打开程度。本发明的光刻机投影物镜的温度控制装置能够保证该投影物镜整体温度的均匀性与稳定性。

Description

光刻机投影物镜的温度控制装置
技术领域
本发明涉及一种光刻机投影物镜的温度控制装置。
背景技术
光刻机是大规模、超大规模集成电路制造的核心设备,它包括曝光系统、工件台、掩模台、硅片传输系统、工件传输系统、微环境系统等十三个分系统。其中,曝光系统与微环境系统是保证光刻机曝光线条质量的关键系统,而光刻机投影物镜的温度控制则是关键中的关键。
光刻机对投影物镜内部环境的要求极高,尤其是温度的稳定性与均匀性要求。由于长时间进行激光曝光,投影物镜内部温度随曝光时间而变化。投影物镜内部温度的变化会造成焦面漂移,导致曝光线条畸变和像散,严重降低曝光线条的质量。因此,投影物镜内部温度控制是保证光刻机曝光线条质量的关键技术。
为了对光刻机投影物镜内部温度进行控制,通常的做法是在投影物镜外部安装一个恒温水套,通过控制恒温水套内的循环水温度对投影物镜内部温度进行间接控制。
申请号为00223787的中国实用新型专利公开了一种亚半微米光刻物镜的恒温水套。该光刻物镜的恒温水套由恒温水温度控制、恒温水箱、水泵和上下水套构成,上下水套通过镜筒中的孔道相连,水套内水道采用螺旋槽形水道或弓形水道。水套由外壳、隔热层以及水套体组成,隔热层由至少10到100层镀有高反射率物质的薄膜组成,以隔离周围环境对物镜温度的影响。恒温水套紧套在物镜镜筒外面,通过水套体与物镜体之间的直接热传导带走物镜内部多余的热量。
由于该光刻机的物镜内部发热量不均匀,而该水套上的水道均匀分布,导致该物镜的散热不均匀,从而使该物镜内部温度也不均匀,影响该光刻机的曝光效果。
发明内容
为了解决现有技术的光刻机的投影物镜内部温度场不均匀的技术问题,有必要提供一种能够使光刻机的投影物镜内部温度场均匀的光刻机投影物镜的温度控制装置。
一种光刻机投影物镜的温度控制装置,该光刻机投影物镜温度控制装置包括:至少一水套,该光刻机的投影物镜设置于该水套内,该水套包括水套体和双螺旋缠绕在该水套体外壁的水管;邻近该光刻机的投影物镜设置的至少一温度传感器,该温度传感器用于感测该光刻机的投影物镜的温度;通过分流集流管与该水套的水管连通的分流集流板,该分流集流板通过该分流集流管向该水套体的水管提供循环水并接收该水套体的水管内的回流水,该分流集流管上设置有调节阀,该调节阀用于控制该水管内的循环水的流量;通过传输管与该分流集流板连通的循环水控制单元,该循环水控制单元控制循环水的温度,并通过该传输管向该分流集流板提供循环水;用于接收该温度传感器感测到的该投影物镜温度的投影物镜温度控制单元,该投影物镜温度控制单元根据该投影物镜温度值调整该循环水控制单元提供的循环水的温度和该调节阀的打开程度。
其中,该光刻机投影物镜温度控制装置包括至少两个水套,分别为第一水套和第二水套,该第一、第二水套均包括一水套体和双螺旋缠绕在该水套体外壁的一水管,该分流集流板分别向该第一、第二水套的水管提供循环水。
该光刻机投影物镜温度控制装置还包括设置于该投影物镜的法兰盘表面的水管。该分流集流板通过分流集流管向该法兰盘的水管提供循环水并接收该法兰盘的水管内的回流水。该分流集流管设置有用于控制该法兰盘的水管内的循环水的流量的调节阀。
该光刻机投影物镜温度控制装置包括三个温度传感器,分别为第一、第二、第三温度传感器,该第一温度传感器设置于该投影物镜的与该第一水套体相对的位置,该第二温度传感器设置于该投影物镜的与该法兰盘相对的位置,该第三温度传感器设置于该投影物镜的与该第二水套体相对的位置。该投影物镜温度控制单元根据该第一、第三温度传感器感测到的温度差值调整该循环水控制单元提供的循环水的温度和该调节阀的打开程度。
该水管的入口与出口分布在该水套体的同一端,该水管包括出流水管与回流水管,该出流水管与该回流水管交替分布。该分流集流板通过该分流集流管向该出流水管提供循环水并接收该回流水管的回流水,该调节阀设置在该分流集流管提供循环水的管道上。
该投影物镜包括多个镜片,该水管在该水套体上不均匀分布,该水管依据该镜片的散热功率而疏密分布。在散热功率大的镜片处,该水管的分布密度大,在散热功率小的镜片处,该水管的分布密度小。
该水套体和该投影物镜之间有一空气间隙,该空气间隙的宽度决定该投影物镜内部温度分布的均匀性。该水管的直径小于8mm。
与现有技术相比,本发明的光刻机的投影物镜的温度控制装置的第一、第二水管分别双螺旋缠绕在该第一、第二水套体的外壁,该第一、第二水管内的循环水与该投影物镜进行热交换后,循环水的温度会有所升高,即水管内的循环水温度从入口到出口是慢慢升高的。采用出流水管与回流水管交叉布置,可以使水管的高温区与低温区互相补偿,而且是最高温区与最低温区组合,次高温区与次低温区组合,从而使得循环水与水套体的热交换在整个水套范围内达到均匀,有利于保证该投影物镜整体温度的均匀性。同时,在该分流集流管上设置有调节阀,该投影物镜温度控制单元根据该第一、第三温度传感器感测到的温度差值调整该循环水控制单元提供的循环水的温度和调节阀的打开程度,更利于保证该投影物镜整体温度的均匀性与稳定性。
附图说明
图1是采用本发明的光刻机投影物镜的温度控制装置的光刻机的立体结构示意图。
图2是本发明较佳实施方式的光刻机投影物镜的温度控制装置的结构示意图。
图3是本发明的光刻机投影物镜的温度控制装置的水管和法兰盘的位置关系示意图。
图4是本发明的光刻机投影物镜的温度控制装置的水管焊接方式示意图。
图5是本发明的光刻机投影物镜的温度控制装置的水管在水套体上的分布示意图。
图6是本发明的光刻机投影物镜的温度控制装置的水套体和投影物镜之间的空气间隙的示意图。
图7是本发明的光刻机投影物镜的温度控制装置的投影物镜温度控制单元控制调节阀的方法流程图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面结合附图对本发明作进一步的详细描述。
请一并参阅图1、图2,图1是采用本发明的光刻机投影物镜的温度控制装置的光刻机的立体结构示意图,图2是本发明较佳实施方式的光刻机投影物镜的温度控制装置的结构示意图。该光刻机10包括一掩膜台11、一与该掩膜台11相对设置的工件台12、一设置于该掩膜台11和该工件台12之间的投影物镜13以及该投影物镜13的温度控制装置14。该投影物镜13的温度控制装置14用于冷却该投影物镜13,以保持该投影物镜13内部温度的稳定性和均匀性。
该投影物镜13的温度控制装置14包括:至少一水套,该投影物镜13设置于该水套内,该水套包括水套体和双螺旋缠绕在该水套体外壁的水管;邻近该投影物镜13设置的至少一温度传感器,该温度传感器用于感测该投影物镜13的温度;通过分流集流管与该水套的水管连通的分流集流板143,该分流集流板143通过该分流集流管向该水套体的水管提供循环水并接收该水管内的回流水,该分流集流管上设置有调节阀,该调节阀用于控制该水管内的循环水的流量;通过传输管与该分流集流板143连通的循环水控制单元142,该循环水控制单元控制循环水的温度,并通过该传输管向该分流集流板143提供循环水;用于接收该温度传感器感测到的温度值的投影物镜温度控制单元141,该投影物镜温度控制单元141根据该投影物镜13的温度值调整该循环水控制单元142提供的循环水的温度和该调节阀的打开程度。
下面结合各个附图,对该光刻机10投影物镜13的温度控制装置14的各个部件进行详细的描述:
请参阅图2,本发明较佳实施方式的投影物镜13的温度控制装置14包括第一水套、第二水套。该投影物镜13设置于该第一、第二水套的内部。该第一水套包括第一水套体151和双螺旋缠绕在该第一水套体151外壁的第一水管152。该第一水管152的入口与出口分布在该第一水套体151的同一端,在本实施方式中,该第一水管152的入口与出口分布在该第一水套体151邻近该投影物镜13的法兰盘153的一侧。该分流集流板143通过分流集流管向该第一水套的第一水管152提供循环水,从而冷却该第一水套内部的投影物镜13。
该第一水管152包括出流水管与回流水管,该出流水管与该回流水管交替分布。该分流集流板143通过该分流集流管向该第一水管152的出流水管提供循环水并接收该第一水管152的回流水管的回流水。该分流集流管向该第一水管152的出流水管提供循环水的管道上设置有第一调节阀157,该第一调节阀157用于调节该第一水管152的出流水管中的循环水的流量,从而调节该第一水套与该投影物镜13的热交换值,进而调节对该投影物镜13的冷却效果。
与该第一水套的结构相似,该第二水套包括第二水套体155和双螺旋缠绕在该第二水套体155外壁的第二水管156。该第二水管156的入口与出口分布在该第二水套体155的同一端,在本实施方式中,该第二水管156的入口与出口分布在该第二水套体155邻近该法兰盘153的一侧。该分流集流板143通过分流集流管向该第二水套的第二水管156提供循环水,从而冷却该第二水套内部的投影物镜13。
该第二水管156包括出流水管与回流水管,该出流水管与该回流水管交替分布。该分流集流板143通过该分流集流管向该第二水管156的出流水管提供循环水并接收该第二水管156的回流水管的回流水。该分流集流管向该第二水管156的出流水管提供循环水的管道上设置有第二调节阀159,该第二调节阀159用于调节该第二水管156的出流水管中的循环水的流量,从而调节该第二水套与该投影物镜13的热交换值,进而调节对该投影物镜13的冷却效果。
请再参阅图3,图3是本发明的投影物镜13的温度控制装置14的第三水管154和法兰盘153的位置关系示意图。该投影物镜13的法兰盘153的上表面设置有第三水管154。该第三水管154的入口与出口分布在同一端。该第三水管154包括出流水管与回流水管,该出流水管与该回流水管并行排布。该分流集流板143通过该分流集流管向该第三水管154的出流水管提供循环水并接收该第三水管154的回流水管的回流水。该分流集流管向该第三水管154的出流水管提供循环水的管道上设置有第三调节阀158,该第三调节阀158用于调节该第三水管154的出流水管中的循环水的流量,进而调整对该法兰盘153的冷却效果。
本发明的投影物镜13的温度控制装置14在该投影物镜13的法兰盘153上表面缠绕水管,可以消除因该法兰盘153下表面与主基板接触传热对该投影物镜13内部温度的影响,保证该投影物镜13内部整体温度的均匀性与稳定性。
请再参阅图4,图4是本发明的投影物镜13的温度控制装置14的水管焊接方式示意图。由于该第一水套体151和该第一水管152、该第二水套体155和该第二水管156、该法兰盘153和该第三水管154的焊接结构相似,下面以该第一水套体151和该第一水管152的焊接方式为例,说明该第一水管152、该第二水管155、该第三水管154的焊接方式。该第一水管152与该第一水套体151之间采用烧焊进行连接,焊接采用满焊方式以增加该第一水管152与该第一水套体151之间的导热面积。焊接材料165采用高导热率材料,例如:紫铜。该第一水管152与该第一水套体151也都采用高导热率材料,例如:铜。该第一水管152的直径较小,例如,为直径小于8mm的水管。
本发明的投影物镜13的温度控制装置14采用小口径水管进行循环水输送,在相同的流量情况下,可以使水管内的循环水在短时间内得到整体更换,这样使水管内的同一段循环水体与水套体的换热时间缩短,从而使水套内循环水温度变化小,这样更易于保证该投影物镜13内部温度的整体恒定。采用水管缠绕的方法形成恒温水套,并采用满焊工艺对水管与水套体进行连接,使得恒温水套的加工工艺简单,加工方便快捷。
请参阅图5,图5是本发明的投影物镜13的温度控制装置14的水管在水套体上的分布示意图。由于该第一水套体151和该第一水管152、该第二水套体155和该第二水管156的结构相似,下面以该第一水管152在该第一水套体151上的分布方式为例,说明该第一、第二水管152、156的分布方式。通常,投影物镜13包括多个镜片,图5中,仅画出了三个镜片,这三个镜片依次分别为第一镜片131、第二镜片133、第三镜片135。
在曝光过程中,镜片会吸收激光的热量而发热,但激光透过空气时散热量非常小,所以该投影物镜13内部的热源主要来自镜片。为了调整该投影物镜13的光学参数,镜片在该投影物镜13内的位置分布不均匀,且由于镜片的聚焦能力不同使得不同镜片的吸热能力不同,因此,该投影物镜13内部的镜片发热是不均匀的。图5中,该第一镜片131的散热功率最大,该第二镜片133的散热功率次之,该第三镜片135的散热功率最小,该第一水管152依据该第一、第二、第三镜片131、133、135的散热功率而疏密分布。具体的,与该第一镜片131相对的第一水管152的分布密度最大,这部分水管之间的间隙为l1;与该第二镜片133相对的第一水管152的分布密度次之,这部分水管之间的间隙为l2;与该第三镜片135相对的第一水管152的分布密度最小,这部分水管之间的间隙为l3。该水管之间的间隙l1、l2、l3值依次增大。
本发明的投影物镜13的温度控制装置14按照镜片的散热量的不同对水管进行疏密布局,在该投影物镜13散热量较大的区域,水管缠绕较密集,而在该投影物镜13散热量较小的区域,水管缠绕较稀疏,这样可以使水套在该投影物镜13散热大的区域带走更多的热量,而在该投影物镜13散热小的区域带走较少的热量,更易于保证该投影物镜13内部温度的整体均匀性。
请参阅图6,图6是本发明的投影物镜13的温度控制装置14的水套体和投影物镜13之间的空气间隙示意图。该第一水套体151与该第一、第二、第三物镜131、133、135之间形成空气间隙164。该第一水管152内的循环水通过该第一水管152、该第一水套体151和该空气间隙164与该第一、第二、第三物镜131、133、135进行热交换,从而达到对该投影物镜13的冷却效果。该空气间隙164的宽度d决定该投影物镜13内部温度分布的均匀性。在该第一水套体151的侧壁温度分布不均的A、C点的温度受该第一水管152内的循环水的影响最大,温度较低,而B点由于没有第一水管152且处于两个相邻第一水管152之间,温度较高。该分布不均匀的温度由于该空气间隙164的传导作用而变的均匀。例如D点的温度主要受到A处循环水的影响,而E点的温度则受到A、C两处循环水影响。设A、B两点的温度差为ΔT,而D、E两点的温差则可能缩小为Δt。因此,根据该投影物镜13对温度均匀性要求选择该空气间隙的厚度d。
本发明的投影物镜13的温度控制装置14在水套体与该投影物镜13之间形成空气间隙164,水套体先与间隙内的空气进行热交换,再由该空气间隙164内的空气与该投影物镜13进行直接换热。这样在水套体与该投影物镜13之间形成一个恒温室间接换热,避免了水套体与该投影物镜13直接换热造成的换热不均,更利于保证该投影物镜13内部温度的整体均匀性。
请一并参阅图2、图7,图7是本发明的投影物镜13的温度控制装置14的投影物镜温度控制单元141控制调节阀的方法流程图。该投影物镜温度控制装置14包括三个温度传感器,分别为第一、第二、第三温度传感器161、162、163,该第一温度传感器161设置于该投影物镜13的与该第一水套体151相对的位置,该第二温度传感器162设置于该投影物镜13的与该法兰盘153相对的位置,该第三温度传感器163设置于该投影物镜13的与该第二水套体155相对的位置。在本发明中,该第一温度传感器161设置于该第一水套体151的中间位置,该该第二温度传感器162设置于该第一水套体151的邻近该法兰盘153的位置,该第三温度传感器163设置于该第二水套体155的中间位置。该第一、第二、第三温度传感器161、162、163分别感测该投影物镜13三个不同位置的温度。
该投影物镜温度控制单元141根据该第一、第三温度传感器161、163感测到的温度差值调整该第一、第二调节阀157、159的打开程度,并调整该循环水控制单元142提供的循环水温度的设定值。若该第一温度传感器161的测量值大于该第三温度传感器163的测量值,则增大该第一调节阀157的打开程度或减小该第二调节阀159的打开程度。相反,若该第一温度传感器161的测量值小于该第三温度传感器163的测量值,则减小该第一调节阀157的打开程度或增加该第二调节阀159的打开程度。为了保证冷却能力,该第一、第二调节阀157、159的打开程度保证一直在某一值以上,例如60%以上。
该投影物镜温度控制单元141调整该第一、第二调节阀157、159的具体过程如下:
设Tup、Tdown分别表示该第一、第三温度传感器161、163的测量值;Vup、Vdown分别表示该第一、第二调节阀157、159的打开程度,ε表示该投影物镜13的温度均匀度参数,f%表示该第一、第二调节阀157、159的最小打开程度。
该投影物镜温度控制单元141将接收到的该第一、第三温度传感器161、163的测量值Tup、Tdown进行比较,若该第一、第三温度传感器161、163的测量值Tup、Tdown之间差值的绝对值小于该投影物镜13的温度均匀度参数ε,则该第一、第二调节阀157、159的打开程度及该循环水控制单元142提供的循环水的温度保持不变。
若该第一、第三温度传感器161、163的测量值Tup、Tdown之间差值的绝对值大于该投影物镜13的温度均匀度参数ε,且该第一传感器161的测量值Tup小于该第三传感器163的测量值Tdown,则判断该第二调节阀159是否完全打开。如果该第二调节阀159没有完全打开,则增加该第二调节阀159的打开程度,例如:该增加的幅度δ可以为5%,然后重复上述调整步骤。如果该第二调节阀159已经完全打开,则判断该第一调节阀157的打开程度是否高于f%,若否,则该投影物镜温度控制单元141提示调整错误,若是,则将该第一调节阀157的打开程度减小δ,然后重复上述调整步骤。
若该第一、第三温度传感器161、163的测量值Tup、Tdown之间差值的绝对值大于该投影物镜13的温度均匀度参数ε,且该第一传感器161的测量值Tup大于该第三传感器163的测量值Tdown,则判断该第一调节阀157是否完全打开。如果该第一调节阀157没有完全打开,则将该第一调节阀159的打开程度增加δ,然后重复上述调整步骤。如果该第一调节阀157已经完全打开,则判断该第二调节阀159的打开程度是否高于f%,若否,则该投影物镜温度控制单元141提示调整错误,若是,则该第二调节阀159的打开程度减小δ,然后重复上述调整步骤。
根据该投影物镜温度控制单元141接收到的该第二温度传感器162的温度,手动调节该第三调节阀158的打开程度,从而调整对该法兰盘153的冷却效果。该第三调节阀158的打开程度调节好之后不再改变。
与现有技术比,本发明的光刻机10的投影物镜13的温度控制装置14的第一、第二水管152、156分别双螺旋缠绕在该第一、第二水套体151、155的外壁,该第一、第二水管152、156内的循环水与该投影物镜13进行热交换后,循环水的温度会有所升高,即水管内的循环水温度从入口到出口是慢慢升高的。采用出流水管与回流水管交叉布置,可以使水管的高温区与低温区互相补偿,而且是最高温区与最低温区组合,次高温区与次低温区组合,从而使得循环水与水套体的热交换在整个水套范围内达到均匀,有利于保证该投影物镜13整体温度的均匀性。同时,在该分流集流管上设置有调节阀,该投影物镜温度控制单元141根据该第一、第三温度传感器151、153感测到的温度差值调整该循环水控制单元142提供的循环水的温度和调节阀的打开程度,更利于保证该投影物镜13整体温度的均匀性与稳定性。
本发明的光刻机10的投影物镜13的温度控制装置14采用的是循环水,也可以采用其他冷却液体,并不限于上述实施方式所述。本发明的光刻机10的投影物镜13也可以根据该第一、第二、第三温度传感器161、162、163的测量值,调整该第一、第二调节阀187、159的打开程度,并不限于上述实施方式所述。
在不偏离本发明的精神和范围的情况下还可以构成许多有很大差别的实施例。应当理解,除了如所附的权利要求所限定的,本发明不限于在说明书中所述的具体实施例。

Claims (16)

1.一种光刻机投影物镜的温度控制装置,其特征在于,该光刻机投影物镜温度控制装置包括:
至少一水套,该光刻机的投影物镜设置于该水套内,该水套包括水套体和双螺旋缠绕在该水套体外壁的水管;
邻近该光刻机的投影物镜设置的至少一温度传感器,该温度传感器用于感测该光刻机的投影物镜的温度;
通过分流集流管与该水套的水管连通的分流集流板,该分流集流板通过该分流集流管向该水套的水管提供循环水并接收该水管内的回流水,该分流集流管上设置有调节阀,该调节阀用于控制该水管内的循环水的流量;
通过传输管与该分流集流板连通的循环水控制单元,该循环水控制单元控制循环水的温度,并通过该传输管向该分流集流板提供循环水;
用于接收该温度传感器感测值的投影物镜温度控制单元,该投影物镜温度控制单元根据该投影物镜温度值调整该循环水控制单元提供的循环水的温度和该调节阀的打开程度。
2.如权利要求1所述的光刻机投影物镜的温度控制装置,其特征在于:该光刻机投影物镜温度控制装置包括至少两个水套,分别为第一水套和第二水套,该第一、第二水套均包括一水套体和双螺旋缠绕在该水套体外壁的一水管,该分流集流板分别向该第一、第二水套的水管提供循环水。
3.如权利要求2所述的光刻机投影物镜的温度控制装置,其特征在于:该光刻机投影物镜温度控制装置还包括设置于该投影物镜的法兰盘表面的水管。
4.如权利要求3所述的光刻机投影物镜的温度控制装置,其特征在于:该分流集流板通过分流集流管向该法兰盘的水管提供循环水并接收该法兰盘的水管内的回流水。
5.如权利要求4所述的光刻机投影物镜的温度控制装置,其特征在于:该分流集流管设置有用于控制该法兰盘水管内的循环水流量的调节阀。
6.如权利要求5所述的光刻机投影物镜的温度控制装置,其特征在于:该光刻机投影物镜温度控制装置包括三个温度传感器,分别为第一、第二、第三温度传感器,该第一温度传感器设置于该投影物镜的与该第一水套体相对的位置,该第二温度传感器设置于该投影物镜的与该法兰盘相对的位置,该第三温度传感器设置于该投影物镜的与该第二水套体相对的位置。
7.如权利要求6所述的光刻机投影物镜的温度控制装置,其特征在于:该投影物镜温度控制单元根据该第一、第三温度传感器感测到的温度差值调整该循环水控制单元提供的循环水的温度和该调节阀的打开程度,根据该第二温度传感器感测到的温度值调整该法兰盘的温度。
8.如权利要求2所述的光刻机投影物镜的温度控制装置,其特征在于:该水管的入口与出口分布在该水套体的同一端,该水管包括出流水管与回流水管,该出流水管与该回流水管交替分布。
9.如权利要求8所述的光刻机投影物镜的温度控制装置,其特征在于:该分流集流板通过该分流集流管向该出流水管提供循环水并接收该回流水管的回流水,该调节阀设置在该分流集流管提供循环水的管道上。
10.如权利要求1所述的光刻机投影物镜的温度控制装置,其特征在于:该投影物镜包括多个镜片,该水管在该水套体上不均匀分布,该水管依据该镜片的散热功率而疏密分布。
11.如权利要求10所述的光刻机投影物镜的温度控制装置,其特征在于:在散热功率大的镜片处,该水管的分布密度大,在散热功率小的镜片处,该水管的分布密度小。
12.如权利要求1所述的光刻机投影物镜的温度控制装置,其特征在于:该水套体和该投影物镜之间有一空气间隙,该空气间隙的宽度决定该投影物镜内部温度分布的均匀性。
13.如权利要求1所述的光刻机投影物镜的温度控制装置,其特征在于:该水管的直径小于8mm。
14.如权利要求1所述的光刻机投影物镜的温度控制装置,其特征在于:该水管的材质为铜。
15.如权利要求1所述的光刻机投影物镜的温度控制装置,其特征在于:该水管与该水套体之间采用烧焊连接,焊接方式是满焊。
16.如权利要求15所述的光刻机投影物镜的温度控制装置,其特征在于:该水管与该水套体之间的焊接材料为紫铜。
CN2009100547332A 2009-07-14 2009-07-14 光刻机投影物镜的温度控制装置 Active CN101609262B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2009100547332A CN101609262B (zh) 2009-07-14 2009-07-14 光刻机投影物镜的温度控制装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2009100547332A CN101609262B (zh) 2009-07-14 2009-07-14 光刻机投影物镜的温度控制装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101609262A true CN101609262A (zh) 2009-12-23
CN101609262B CN101609262B (zh) 2011-08-10

Family

ID=41483064

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2009100547332A Active CN101609262B (zh) 2009-07-14 2009-07-14 光刻机投影物镜的温度控制装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN101609262B (zh)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102866598A (zh) * 2012-10-12 2013-01-09 上海华力微电子有限公司 用于步进式重复曝光光刻机的镜头结构及光刻机
CN103645756A (zh) * 2013-11-22 2014-03-19 北京空间机电研究所 一种可展开遮光罩
CN103792790A (zh) * 2012-10-30 2014-05-14 沈阳芯源微电子设备有限公司 光刻胶与显影液的恒温控制系统
CN103838274A (zh) * 2012-11-22 2014-06-04 上海微电子装备有限公司 一种多路水冷温度控制系统及控制方法
CN104316104A (zh) * 2014-09-28 2015-01-28 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种光刻投影物镜内部腔室高精度气体测量装置
CN104808448A (zh) * 2014-01-29 2015-07-29 上海微电子装备有限公司 冷却装置及应用该冷却装置的光刻机
CN106197738A (zh) * 2015-05-24 2016-12-07 上海微电子装备有限公司 一种物镜内部温度分布和应变测量系统及其测量方法
CN106933048A (zh) * 2015-12-30 2017-07-07 上海微电子装备有限公司 一种光刻机物镜冷却装置
CN107665006A (zh) * 2016-07-29 2018-02-06 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种温度控制系统及控制方法
CN108958309A (zh) * 2018-05-31 2018-12-07 中国科学院国家空间科学中心 一种宽量程变低温黑体
CN110044958A (zh) * 2019-05-03 2019-07-23 吴祥初 一种建筑外窗节能性能检测装置及其控制方法
CN113311670A (zh) * 2021-04-25 2021-08-27 上海图双精密装备有限公司 一种光刻机的温度变频调节系统
CN114594810A (zh) * 2022-03-03 2022-06-07 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所) 一种温度控制方法、装置及电子设备
CN116859683A (zh) * 2023-08-31 2023-10-10 光科芯图(北京)科技有限公司 显微镜物镜热稳定性的控制装置及方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1039510A4 (en) * 1997-11-14 2003-11-12 Nikon Corp EXPOSURE DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND EXPOSURE METHOD
CN2432594Y (zh) * 2000-07-26 2001-05-30 中国科学院光电技术研究所 亚半微米光刻物镜的恒温水套
US7375794B2 (en) * 2004-08-04 2008-05-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102866598A (zh) * 2012-10-12 2013-01-09 上海华力微电子有限公司 用于步进式重复曝光光刻机的镜头结构及光刻机
CN103792790A (zh) * 2012-10-30 2014-05-14 沈阳芯源微电子设备有限公司 光刻胶与显影液的恒温控制系统
CN103838274A (zh) * 2012-11-22 2014-06-04 上海微电子装备有限公司 一种多路水冷温度控制系统及控制方法
CN103838274B (zh) * 2012-11-22 2016-06-01 上海微电子装备有限公司 一种多路水冷温度控制系统及控制方法
CN103645756A (zh) * 2013-11-22 2014-03-19 北京空间机电研究所 一种可展开遮光罩
CN103645756B (zh) * 2013-11-22 2016-01-13 北京空间机电研究所 一种可展开遮光罩
CN104808448B (zh) * 2014-01-29 2017-08-29 上海微电子装备(集团)股份有限公司 冷却装置及应用该冷却装置的光刻机
CN104808448A (zh) * 2014-01-29 2015-07-29 上海微电子装备有限公司 冷却装置及应用该冷却装置的光刻机
CN104316104A (zh) * 2014-09-28 2015-01-28 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种光刻投影物镜内部腔室高精度气体测量装置
CN106197738A (zh) * 2015-05-24 2016-12-07 上海微电子装备有限公司 一种物镜内部温度分布和应变测量系统及其测量方法
CN106933048A (zh) * 2015-12-30 2017-07-07 上海微电子装备有限公司 一种光刻机物镜冷却装置
CN107665006A (zh) * 2016-07-29 2018-02-06 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种温度控制系统及控制方法
CN107665006B (zh) * 2016-07-29 2020-04-10 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种温度控制系统及控制方法
CN108958309A (zh) * 2018-05-31 2018-12-07 中国科学院国家空间科学中心 一种宽量程变低温黑体
CN110044958A (zh) * 2019-05-03 2019-07-23 吴祥初 一种建筑外窗节能性能检测装置及其控制方法
CN113311670A (zh) * 2021-04-25 2021-08-27 上海图双精密装备有限公司 一种光刻机的温度变频调节系统
CN114594810A (zh) * 2022-03-03 2022-06-07 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所) 一种温度控制方法、装置及电子设备
CN116859683A (zh) * 2023-08-31 2023-10-10 光科芯图(北京)科技有限公司 显微镜物镜热稳定性的控制装置及方法
CN116859683B (zh) * 2023-08-31 2023-11-28 光科芯图(北京)科技有限公司 显微镜物镜热稳定性的控制装置及方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN101609262B (zh) 2011-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101609262B (zh) 光刻机投影物镜的温度控制装置
JP2020188254A (ja) ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
US11169582B2 (en) Immersion cooling tank and cooling system
US8330935B2 (en) Exposure apparatus and measuring device for a projection lens
CN101207010A (zh) 使用二次工艺平面快速传导冷却
CN105637629A (zh) 具有可变像素化加热的静电夹具
TW201009506A (en) Lithographic apparatus and method
CN101364116B (zh) 一种恒温控制装置
CN102194529A (zh) 带有主动冷却的贴片式散热装置
KR20020063200A (ko) 반도체 제조 장치 및 반도체 제조 방법
US20190219935A1 (en) Projection exposure apparatus for semiconductor lithography with reduce thermal deformation
JPH0845827A (ja) 投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
US11815253B2 (en) Light source device, cooling method, and manufacturing method for product
KR100532322B1 (ko) 웨이퍼 베이킹 플레이트의 냉각 장치
CN1692018A (zh) 恒温的方法,以及用于恒温的调节装置和恒温装置
JPH10209125A (ja) 流体温度の制御装置及びその方法
CN104808448B (zh) 冷却装置及应用该冷却装置的光刻机
CN106933048A (zh) 一种光刻机物镜冷却装置
US10877383B2 (en) Temperature controlled heat transfer frame for pellicle
CN111941847A (zh) 一种综合散热的lcd光固化3d打印光投影装置
CN116859683B (zh) 显微镜物镜热稳定性的控制装置及方法
KR100653455B1 (ko) 고온용 및 저온용 열교환기를 구비한 반도체 공정용 칠러
KR20090113250A (ko) 기판의 열처리 방법 및 장치
CN106933057B (zh) 拼接物镜温度控制装置及拼接物镜温度控制方法
CN104866680B (zh) 一种极紫外收集系统中镜体背侧冷却管道的最优间距求取方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: No. 1525 Zhangjiang Road, Zhangjiang, Shanghai, Shanghai

Patentee after: Shanghai microelectronics equipment (Group) Limited by Share Ltd

Address before: No. 1525 Zhangjiang Road, Zhangjiang, Shanghai, Shanghai

Patentee before: Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd.