CN101598694B - 用于测量超纯水的纯度的装置 - Google Patents
用于测量超纯水的纯度的装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101598694B CN101598694B CN2009101413975A CN200910141397A CN101598694B CN 101598694 B CN101598694 B CN 101598694B CN 2009101413975 A CN2009101413975 A CN 2009101413975A CN 200910141397 A CN200910141397 A CN 200910141397A CN 101598694 B CN101598694 B CN 101598694B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- exit
- resistivity
- valve
- water
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 13
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 title claims abstract description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 65
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 46
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 46
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims abstract description 25
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000004087 circulation Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 36
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 8
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 5
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000013213 extrapolation Methods 0.000 description 3
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 3
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000012886 linear function Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007123 defense Effects 0.000 description 1
- 230000029087 digestion Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- FBWNMEQMRUMQSO-UHFFFAOYSA-N tergitol NP-9 Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=C(OCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO)C=C1 FBWNMEQMRUMQSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/06—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a liquid
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/18—Water
- G01N33/1826—Organic contamination in water
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A20/00—Water conservation; Efficient water supply; Efficient water use
- Y02A20/20—Controlling water pollution; Waste water treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Filtration Of Liquid (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
本发明提供一种装置,用于分析净化装置的出口处的液体例如超纯水中存在的有机化合物的量,所述净化装置连续包括过滤装置(1)、氧化装置(2)和抛光装置(3),还包括用于测量水的电阻率以确定其纯度的装置,其特征在于,它包括仅一个电阻率测量传感器(4),并且所述过滤装置(1)和所述氧化装置(2)的出口点通过管道连接到所述电阻率测量传感器(4),所述管道设置有分析阀(6)和/或单向阀(5),所述阀选择性地使得所述液体在它们内部循环。
Description
技术领域
本发明涉及一种装置,用于分析在纯化处理之后获得的液体的纯度水平,并且特别涉及实现该方法的所谓超纯水(低于十亿分之十(ppb)的纯度。
背景技术
通常用于净化水或者任何其它液体的方法以穿过第一装置的通道开始,包括过滤和净化装置,类型是活性炭过滤,离子交换树脂过滤或者反渗透过滤。在第一处理装置的出口处,超纯水含有非常少的离子,并且特征是电阻率接近或者甚至等于18.2MΩ.cm,但是仍然含有有机化合物。它然后穿过第二装置,那些有机化合物在第二装置中被氧化,从而使它们离子化。在这个氧化过程中,有机化合物被降解(degraded),并且碳原子然后以二氧化碳气体的形式存在,其溶解于水中,从而形成碳酸氢盐离子HCO3-。这个氧化通过紫外线灯前面的通道或者通过增加过氧化氢而获得。
第三净化步骤包括抛光水(polishing the water),即使它穿过离子交换树脂,其阻塞在前面步骤中产生的离子,并且因此完成水的净化。在这个步骤中,在氧化阶段没有降解的有机化合物不受影响。
还需要确定这个过程结束时获得的水的纯度。通常使用的一种方法测量氧化装置的出口处它的电阻率(resistivity),其直接与溶解的二氧化碳气体的含量相关联,即与碳酸氢盐离子的数量相关联,并且然后确定如果氧化过程已经持续直到最后它将具有的电阻率,即如果它的有机化合物已经降解的话。这个过程,需要无限的时间段,显然不能使用,并且因此需要使用估算这个极限电阻率的方法。
特别是从Millipore公司的专利EP0581157已经知道一种装置和方法,用来分析水的纯度,其使用了氧化装置的上游侧和下游侧之间的水的电阻率的差来估算无限远处的这个电阻率。这种方法使用处于第一或者基难模式中的装置,从而在已经暴露到氧化装置持续不同时间的水试样上测量氧化装置的上游侧和下游侧之间的电阻率差。暴露时间通常是10、20、30、40、50和60秒的量级。通过根据获得的曲线外推,可以确定在无限长暴露时间之后获得的水的电阻率,即如果所有的碳原子被降解的话,水的电阻率。利用适合的模型程序,例如美国环境保护协会的公开文献EPA/600/3-91/021(1991)中描述的MINTEQA2程序,可以根据无限远处的电阻率来确定基准水中的总的有机碳(TOC)含量。
第二或者净化或者分析模式然后使用,该过程中,超纯水以给定的流速穿过氧化装置,以确定它的有机化合物杂质的含量,并且因此验证它的纯度保持为标称的(nominal)。氧化装置的上游侧和下游侧之间的电阻率差异被连续测量,并且有机化合物的总量根据它通过假定的线性关系被推断出来,即净化模式中测量的电阻率差和基准模式中估算的无限远处的电阻率差之间的线性关系。
发明内容
本发明目的是提供一种装置,用于分析净化装置的出口处液体中存在的有机化合物的量,该装置更廉价,并且使用更方便。
为此,本发明的装置,用于分析净化装置的出口处的液体例如超纯水中存在的有机化合物的量,包括一系列的过滤装置、氧化装置和抛光装置,还包括用于测量水的电阻率以确定其纯度的装置,特征在于,所述测量装置仅包括一个电阻率测量传感器,并且设置有连接装置和流体循环控制装置,适用于:
-防止流体在过滤装置的出口点和氧化装置的入口点之间循环,同时允许流体在过滤装置的出口点和电阻率测量传感器的入口点之间循环,或者
-允许流体在过滤装置的出口点和氧化装置的入口点之间循环,同时防止流体在过滤装置的出口点和电阻率测量传感器的入口点之间循环。
减少为单个传感器避免了发生不确定性的问题,特别是当计算过程使用了多个传感器之间的差值的时候,并且最重要的是降低了成本,因为给定它们的复杂度,这些传感器占到了装置总成本的大部分。
根据优选特征,为了简化液体回路的制造:
-所述电阻率测量传感器连续地定位在氧化装置的出口点和抛光装置的入口点之间的回路中;
-过滤装置的出口点通过支路回路连接到所述电阻率传感器,所述支路回路包括单向阀,仅当入口压力达到预定值时,该单向阀才开启;
-过滤装置的出口点通过简单的分析阀连接到氧化装置的入口点,该阀具有两个位置,开启和闭合;
-所述两位置阀设置在支路回路的起始点的下游侧上;
-分析阀和测量装置连接到控制和计算单元,该单元包括控制模块,适用于以预定的顺序命令所述分析阀开启和闭合;和计算模块,适用于从所述测量传感器采集电阻率值,以根据它实时推断出水的纯度。
附图说明
下面参考附图,通过非限制性说明给出的优选实施例的描述来继续公开本发明,附图中:
图1是现有技术水净化装置的示意图;
图2是本发明一个实施例的水净化装置的示意图;
图3的曲线表示了:利用现有技术的近似方法,在基准模式中,水的电阻率作为反应器中消耗的时间的函数从任何值减小;和
图4的曲线表示了:利用本发明的近似方法,在基准模式中,水的电阻率作为反应器中消耗的时间的函数从任何值的减小。
具体实施方式
图1示出了现有技术水净化装置,连续地包括:过滤装置1、氧化装置2和水抛光(water polishing)装置3。用于测量水的电阻率的两个传感器(cell)4插入到分别位于过滤装置1的出口处和氧化装置2的出口处的回路中。
这里,氧化装置2包括汞蒸气UV灯,在185到254纳米的范围内照射。流动穿过净化装置的水暴露到这种照射,持续2-120秒的时间。
水抛光装置3通常包括离子交换树脂,并且产生的水的最终纯度为1-5ppb的量级。
水穿过过滤装置的入口点11进入装置。过滤装置的出口点12通过管道连接到第一电阻率传感器(cell)4的入口点41,其出口连接到三通阀16。这个三通阀16一方面连接到氧化装置的入口点21,另一方面连接到排空回路(未示出)。它使得离开过滤装置的水进入氧化装置2,或者将它从回路排出。
氧化装置22的出口点通过管道连接到第二电阻率传感器4的入口点41,它的出口点42本身连接到水抛光装置的入口点31。获得的超纯水然后在水抛光装置的出口点32处可以获得。
图2示出了本发明一个实施例的水净化装置,与上面一样连续地包括过滤装置1、氧化装置2和水抛光装置3。这个回路与现有技术的回路的区别在于:它仅包括一个测量传感器4,连续地置于氧化装置2的出口点22和水抛光装置3的入口点31之间,并且三通阀16被简单的分析阀(analysis valve)6代替,其具有两个位置,即开启和闭合位置,分析阀6价格便宜并且易于使用。
过滤装置出口处的水被分隔到两个管道中,其中一个延伸到分析阀6,与上面一样,第二个形成了旁路回路,通过单向阀5直接延伸到电阻率测量传感器4,单向阀5被校准成在一定值以上开启。
来自过滤装置1的水完全通过分析阀6上的作用被引导到氧化装置2或者通过支路回路被直接引导到测量传感器4,支路回路装配有单向阀5。当分析阀6处于开启位置时,它允许液体到达氧化装置;支路回路中的压力下降,并且单向阀5保持闭合。如果分析阀6闭合,那么支路回路中的压力升高,并且单向阀5开启,允许水到达电阻率测量传感器4。
图2还示出了用于水净化装置的控制装置,其包括控制和计算单元7以及显示装置8,适于实时地为操作者提供关于获得的纯度等级的信息。这个控制和计算单元7通过控制模块9控制着分析阀6的位置,并且在计算模块10中处理所述电阻率测量传感器4提供的信息。计算模块10执行水纯度计算方法,并且将获得的结果传递给显示装置8。
与现有技术一样,用于测量水纯度的方法包括:过滤装置的出口处的水的电阻率的第一测量,之后,使用净化装置的两个不同的操作模式,即基准模式和分析模式。为了评定过滤装置1提供的水的电阻率,分析阀6闭合,并且单向阀上游侧上的压力增加;当压力达到名义开启值时阀开启,并且流体流在支路回路中通过单向阀5循环。在分析模式或者基准模式中,当分析阀开启时,单向阀5阻止液体在支路回路中循环,它的入口处的压力保持低于标称开启压力。分析阀在分析模式中连续开启。然而在基准模式,在预定时间段中它保持闭合,在该时间段中,位于氧化装置中的水持续暴露到UV照射。分析阀然后开启从而将照射过的水送到测量传感器4。由于显著不同的时间段,基准模块将水的电阻率的演变(evolution)作为它在氧化装置中经历的时间的函数而确定。
具有单向阀5和分析阀6的结构意味着:单个测量传感器4可以用于测量过滤装置1的出口处和氧化装置2的出口处的电阻率。这首先反映为主要节省了制造该装置的成本,并且其次极大地便于使用,现有技术的三通阀在装置的液压操作状态下使用复杂。
图3示出了多个点,表示氧化装置2出口处的水的电阻率,作为它在那些装置中消耗的时间的函数。图3还给出了通过ρ(t)=ρ∞+(ρ0-ρ∞)e-t/T类型的指数函数对那些点进行近似的曲线。图4给出了相同的点的电阻率值以及通过混合的(指数和线性)函数产生的近似曲线,其可以表示如下:ρ(t)=ρ∞+(ρ0-ρ∞)e-t/T+ρslopet+ρintercept).ustart,length(t),其中,ρslope和ρintercept是线性函数的起点处的斜率和坐标,并且ustart,length(t)是一个函数,其在与纯指数函数相对应的横坐标轴的第一部分上具有数值0,并且在该函数可以作为指数函数和线性函数之和被处理的横坐标轴线的其它部分上具有数值1。
图4的曲线是电阻率的演变作为UV照射时间的函数的更好的近似,尤其是如果UV反应器具有塑料材料部件,该部件与水接触,并且受到这种照射。该曲线的线性部分考虑了水中有机化合物的存在,该化合物通过这些材料的光化电离或者通过来自大气的二氧化碳气体的溶解而产生。这种新的近似曲线将利用最小二乘法实现的平差(adjustment)降低了50%。
下面描述在穿过净化装置之后获得的水的纯度的测量的过程。
第一操作是通过闭合所述分析阀6测量过滤装置1的出口处水的电阻率。水然后通过支路回路和单向阀5直接流动到电阻率测量传感器4中,该传感器给出了过滤装置1的出口处的水的电阻率值。这个值ρUPW在整个净化操作过程中保持既定的(priori)恒定,因为它仅取决于净化之前液体的特性。
接下来,所谓的基准模式中的一系列操作开始。这个模式的目的是确定水的无穷处电阻率ρ∞REF,其将用作对于剩余测量的基准流体。分析阀6暂时开启,持续一定时间,以利用来自过滤装置的新的水代替氧化装置中存在的水,之后,这个分析阀6闭合。这个阀保持闭合持续特定的第一时间段,并且然后开启,从而保持在氧化装置中的水进入电阻率测量传感器4;这个水的电阻率值被记录,并且然后再次开始相同的操作,改变水在氧化装置中消耗的时间。这样获得了作为时间的函数的一系列的电阻率测量,并且在将电阻率作为时间函数给出的图中,回归(regression)技术用于推断出穿过这些点的最近似的曲线。然后获得了函数ρ(t)=ρ∞REF+(ρ0-ρ∞REF)e-t/T+ρslopet+ρintercept).ustart,length(t)的参数的解(resolution),其是未知的,直到现在,即参数ρ∞REF,ρ0,T,ρslope,ρint ercept,和函数ustart,length的分界点(cut-off)。具有六个未知参数的这个函数使得需要以至少六个不同时长来执行实验。这特别确定了参数ρ∞REF,其给出了如果水在氧化装置中保持无限长时间时将具有的电阻率值,换句话说,如果它的有机成分已经被降解成碳酸氢盐离子。
这两个值的知识(过滤装置出口处的电阻率值ρUPW和完全氧化之后无限远处的电阻率值ρ∞REF)规定了开始这样的阶段,即分析来自净化装置的水,并且时刻了解它的碳原子的浓度,即它的纯度水平。为此,分析阀持续保持开启。
已经穿过过滤装置的水以给定的流速经过氧化装置,在其处,它经历它的有机组分的部分降解,并且由于这种方式产生的二氧化碳气体的溶解,它的电阻率发生演变。在氧化装置的出口处,它的电阻率ρ通过测量传感器4测量,并且是停留时间t的函数,该时间内,它持续暴露到氧化装置2的照射。
对于电阻率演变模型,采用单指数曲线,我们可以写下ρ(t)=ρ∞+(ρUPW-ρ∞)e-t/T。这里应用的近似,仅保留作为时间函数的电阻率演变的曲线的指数部分,并且对于包括塑料材料部件的反应器,其没有被考虑到基准模式中,这种近似在这里是可接受的,因为水在UV反应器中的暴露时间保持较短,其并不是在基准模式中的情况。
接下来待确定的值是数值ρ∞,该数值用于获得净化装置出口处的水的纯度。这个参数通过下面解释的分析外推(extrapolation)方法计算。
通过ka表示项ρ(t)和ρ∞之间的比率,并且通过e-a表示公式e-t/T,为了简单,我们获得了:
1/ka=1+(ρUPW/ρ∞-1)e-a
通过说明这个公式同样应用到基准模式中,在对于相同停留时间的它的曲线(ustart,length(t)=0)的左侧部分中,我们获得:
KREF=ρ(t)REF /ρ∞REF,以及
e-a=(1-KREF)/KREF×ρ∞REF/(ρUPW-ρ∞REF)。
然后可以将ka表示为ρ∞和利用基准模式可获知的参数(KREF,ρUPW,ρ∞REF)的函数。
将停留时间t用作趋向于无穷的工作参数,可以利用标准迭代法,使得ka和ρ∞连续演化,直到后者参数收敛。
这样获得了如果氧化装置中的水在氧化装置中停留无限长时间将具有的电阻率值,即如果它的有机化合物的氧化持续到完全进行。
例如MINTEQA2程序使用的标准方法然后根据无穷远处的电阻率值反向计算水的总的有机碳含量,即ppb表示的它的纯度。
许多变形根据实际情况是可行的,并且在这点上,必须指出,本发明不限于所述和所示的实例。
Claims (7)
1.一种用于分析净化装置的出口处的液体中存在的有机化合物的量的装置,其连续地包括过滤装置(1)、氧化装置(2)和抛光装置(3),还包括用于测量水的电阻率以确定其纯度的装置(4),其特征在于,所述测量装置仅包括一个电阻率测量传感器(4),并且设置有连接装置和流体循环控制装置,适用于:
-防止流体在过滤装置(1)的出口点(12)和氧化装置(2)的入口点(21)之间循环,同时允许流体在过滤装置(1)的出口点(12)和电阻率测量传感器(4)的入口点(41)之间循环,或者
-允许流体在过滤装置(1)的出口点(12)和氧化装置(2)的入口点(21)之间循环,同时阻止流体在过滤装置(1)的出口点(12)和电阻率测量传感器(4)的入口点(41)之间循环。
2.如权利要求1所述的用于分析净化装置的出口处的液体中存在的有机化合物的量的装置,其特征在于,所述电阻率测量传感器(4)连续定位在氧化装置(2)的出口点(12)和抛光装置(3)的入口点(31)之间的流路中。
3.如权利要求1或2所述的用于分析净化装置的出口处的液体中存在的有机化合物的量的装置,其特征在于,过滤装置的出口点(12)通过支路回路连接到所述电阻率测量传感器(4),支路回路包括单向阀(5),仅当入口处的压力达到预定值时,所述单向阀才开启。
4.如权利要求1或2所述的用于分析净化装置的出口处的液体中存在的有机化合物的量的装置,其特征在于,过滤装置(1)的出口点(12)通过简单的分析阀(6)连接到氧化装置(2)的入口点(21),所述分析阀具有开启和闭合两个位置。
5.如权利要求3所述的用于分析净化装置的出口处的液体中存在的有机化合物的量的装置,其特征在于,过滤装置(1)的出口点(12)通过简单的分析阀(6)连接到氧化装置(2)的入口点(21),所述分析阀具有开启和闭合两个位置,所述分析阀设置在支路回路的起始点的下游侧上。
6.如权利要求1或2所述的用于分析净化装置的出口处的液体中存在的有机化合物的量的装置,其特征在于,分析阀(6)和测量装置(4)连接到控制和计算单元(7),所述控制和计算单元包括控制模块(9)和计算模块(10),控制模块适用于以预定的顺序命令所述分析阀(6)开启和闭合,所述计算模块适用于从所述测量传感器(4)采集电阻率值,以根据它实时地推断出水的纯度。
7.如权利要求1所述的用于分析净化装置的出口处的液体中存在的有机化合物的量的装置,其特征在于,所述液体是超纯水。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0853787 | 2008-06-06 | ||
FR0853787A FR2932271B1 (fr) | 2008-06-06 | 2008-06-06 | Dispositif pour la mesure de la purete d'une eau ultrapure |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101598694A CN101598694A (zh) | 2009-12-09 |
CN101598694B true CN101598694B (zh) | 2013-11-06 |
Family
ID=40206236
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2009101413975A Active CN101598694B (zh) | 2008-06-06 | 2009-06-04 | 用于测量超纯水的纯度的装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8483973B2 (zh) |
EP (1) | EP2131186B1 (zh) |
JP (1) | JP5158524B2 (zh) |
CN (1) | CN101598694B (zh) |
BR (1) | BRPI0901632B1 (zh) |
ES (1) | ES2623477T3 (zh) |
FR (1) | FR2932271B1 (zh) |
SG (1) | SG157337A1 (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2932271B1 (fr) * | 2008-06-06 | 2010-06-11 | Millipore Corp | Dispositif pour la mesure de la purete d'une eau ultrapure |
FR2932270B1 (fr) * | 2008-06-06 | 2010-07-30 | Millipore Corp | Methode et dispositif de mesure de la purete d'une eau ultrapure |
JP5453878B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2014-03-26 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造設備及び超純水のモニタリング方法 |
KR101136824B1 (ko) * | 2010-07-16 | 2012-04-19 | (주)케이엠앤아이 | 차량용 시트트랙 로킹 시스템 |
GB201210456D0 (en) * | 2012-06-13 | 2012-07-25 | Vws Uk Ltd | Method and system for providing purified water |
US20170144448A1 (en) * | 2015-11-25 | 2017-05-25 | Videojet Technologies, Inc. | Ink quality sensor and a condition monitoring system for an inkjet printer |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0581157A1 (en) * | 1992-07-27 | 1994-02-02 | Millipore Corporation | Water purification method and apparatus |
CN101014542A (zh) * | 2004-05-27 | 2007-08-08 | 西门子水处理技术控股公司 | 水处理系统及工艺 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4691168A (en) * | 1985-10-24 | 1987-09-01 | Beckman Industrial Corporation | High purity water calibrating device |
JPS63104696A (ja) * | 1986-10-22 | 1988-05-10 | アクアフアイン・コ−ポレイシヨン | 水のコンデイシヨニングを行なうための装置及び方法 |
WO1991006848A1 (en) * | 1989-11-04 | 1991-05-16 | Nihon Millipore Kogyo Kabushiki Kaisha | Method of measuring total quantity of organic substances in ultrapure water and ultrapure water treating system utilizing said method in preparation of ultrapure water |
JPH03262588A (ja) * | 1990-03-13 | 1991-11-22 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 純水製造装置 |
JPH05138196A (ja) * | 1991-11-20 | 1993-06-01 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 高純度超純水製造装置と水質制御法 |
US5518608A (en) * | 1994-01-18 | 1996-05-21 | Chubachi; Hiroshi | Water purity determining device and system for producing ultrapure water using such devices |
US5868924A (en) * | 1997-02-14 | 1999-02-09 | Barnstead/Thermolyne Corporation | Water purifier |
JP3491666B2 (ja) * | 1997-08-19 | 2004-01-26 | オルガノ株式会社 | Toc成分除去の制御方法及び装置 |
US20050165575A1 (en) | 2003-09-23 | 2005-07-28 | Jacob Mettes | Automated regression analysis and its applications such as water analysis |
WO2004028974A2 (en) * | 2002-09-24 | 2004-04-08 | Advanced Aeration Control, Llc | Controlling wastewater treatment processes |
FR2870346B1 (fr) | 2004-05-17 | 2006-09-08 | Millipore Corp | Cellule de mesure de conductivite d'un fluide |
WO2007053515A1 (en) | 2005-10-31 | 2007-05-10 | Ge Analytical Instruments, Inc. | Carbon algorithm selection based on standard conductivity |
FR2932271B1 (fr) | 2008-06-06 | 2010-06-11 | Millipore Corp | Dispositif pour la mesure de la purete d'une eau ultrapure |
FR2932270B1 (fr) | 2008-06-06 | 2010-07-30 | Millipore Corp | Methode et dispositif de mesure de la purete d'une eau ultrapure |
FR2932893B1 (fr) | 2008-06-23 | 2010-12-10 | Millipore Corp | Procede et dispositif de mesure de conductivite d'un liquide pur ou ultrapur. |
-
2008
- 2008-06-06 FR FR0853787A patent/FR2932271B1/fr active Active
-
2009
- 2009-05-22 JP JP2009123842A patent/JP5158524B2/ja active Active
- 2009-05-28 SG SG200903608-8A patent/SG157337A1/en unknown
- 2009-05-29 BR BRPI0901632-5A patent/BRPI0901632B1/pt active IP Right Grant
- 2009-06-02 US US12/455,418 patent/US8483973B2/en active Active
- 2009-06-04 EP EP09290412.7A patent/EP2131186B1/en active Active
- 2009-06-04 ES ES09290412.7T patent/ES2623477T3/es active Active
- 2009-06-04 CN CN2009101413975A patent/CN101598694B/zh active Active
-
2013
- 2013-06-11 US US13/914,880 patent/US8793076B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0581157A1 (en) * | 1992-07-27 | 1994-02-02 | Millipore Corporation | Water purification method and apparatus |
CN101014542A (zh) * | 2004-05-27 | 2007-08-08 | 西门子水处理技术控股公司 | 水处理系统及工艺 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130269425A1 (en) | 2013-10-17 |
US8793076B2 (en) | 2014-07-29 |
FR2932271B1 (fr) | 2010-06-11 |
CN101598694A (zh) | 2009-12-09 |
FR2932271A1 (fr) | 2009-12-11 |
BRPI0901632B1 (pt) | 2019-04-02 |
BRPI0901632A2 (pt) | 2010-05-11 |
EP2131186B1 (en) | 2017-02-01 |
JP5158524B2 (ja) | 2013-03-06 |
SG157337A1 (en) | 2009-12-29 |
US8483973B2 (en) | 2013-07-09 |
EP2131186A1 (en) | 2009-12-09 |
JP2009294206A (ja) | 2009-12-17 |
ES2623477T3 (es) | 2017-07-11 |
US20090319194A1 (en) | 2009-12-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101598694B (zh) | 用于测量超纯水的纯度的装置 | |
CN109086517B (zh) | 一种小流域河流污染物最大负荷量超标快速应急计算方法 | |
CN103645292B (zh) | 一种水质监测预处理装置及水质监测系统 | |
US8650935B2 (en) | Method of TOC monitoring | |
CN102057270B (zh) | 用于测量超纯水的纯净度的方法与设备 | |
WO2011061310A1 (en) | Method and arrangement for monitoring water quality | |
JP3475513B2 (ja) | 取水水質管理装置 | |
US20200024154A1 (en) | Water quality measurement device | |
CN204945153U (zh) | 污水cod在线监测装置 | |
DE102007054115B4 (de) | Verfahren zur Reduzierung von Geruchsbelästigungen in Abwässern | |
CN207313286U (zh) | 一种污水处理系统 | |
DE202007019512U1 (de) | Vorrichtung zur Reduzierung von Geruchsbelästigungen in Abwässern | |
CN111356655A (zh) | 确定用于处理原水的凝结剂的剂量的方法 | |
CN205103143U (zh) | 一种在线测量装置 | |
JPH05293468A (ja) | 造水機構 | |
JP4153893B2 (ja) | 水処理方法および水処理システム | |
Seyfried et al. | Determination of sulfate in seawater and natural brines by 133Ba and membrane dialysis | |
US20150246834A1 (en) | Method and system for control of an addition rate of a hexavalent chromium control chemical to water | |
JP3120531B2 (ja) | 嫌気性消化槽のモニター装置 | |
JP4350466B2 (ja) | 下水消毒剤注入量制御装置 | |
DE102013114601A1 (de) | Verfahren und Messzelle zur Detektion des Sauerstoffbedarfs einer Flüssigkeitsprobe | |
Blakeley et al. | Instrumentation for water pollution monitoring | |
JP2004298720A (ja) | 汚染水の有害金属除去システム | |
JPH06182398A (ja) | 消化槽モニター装置の誤差データ除去方法 | |
JPH05212400A (ja) | 嫌気性消化槽モニター用制御装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C53 | Correction of patent of invention or patent application | ||
CB02 | Change of applicant information |
Address after: Massachusetts, USA Applicant after: Millipore Corp. Address before: Massachusetts, USA Applicant before: Millipore Corp. |
|
COR | Change of bibliographic data |
Free format text: CORRECT: APPLICANT; FROM: MILLIPORE CORP. TO: EMD MILLIPORE CORPORATION |
|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |