CN101586247A - 金属雾化片的二元电沉积加工方法 - Google Patents

金属雾化片的二元电沉积加工方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种金属雾化片的二元电沉积加工方法,其特征在于采用光电加工和二元电沉积技术,包括:设计金属雾化片的图形文件;采用不锈钢基板,将基板置于烘箱中烘烤;将光阻材料热压或印刷在基板上;按照设计好的金属雾化片的图形文件,制作负片光罩菲林,进行高精度曝光;将曝光后的基板在显影剂中清洗;将基板放入镍金电铸槽中进行二元电铸沉积加工;电铸沉积达到所需要的厚度后,将基板上的金属雾化片取下,放入超声波清洗机中进行清洗;抽样检查。本发明可以使金属雾化片的孔径达到2~10um的孔径要求,误差小,并满足雾化片2000~5000小时的使用寿命,使雾化片可以雾化液体颗粒达到5um以下的直径水平,降低了使用成本。

Description

金属雾化片的二元电沉积加工方法
技术领域
本发明涉及一种雾化片的加工方法,具体讲是涉及一种金属雾化片的二元电沉积加工方法,属于超高精密制造技术领域。
背景技术
随着人民生活水平的逐渐提高,对生活质量有更高的要求,以及医疗技术的不断发展,业界对雾化器的性能提出了更高的技术要求。传统蚀刻加工不锈钢工艺不能满足更高要求的技术规格,其加工的不锈钢雾化片微孔直径不小于20um,蚀刻工艺已经到了极限,不能满足更微小孔的加工要求。因此业界亟需一种微孔达到3~10um的雾化片,来满足国内雾化器的膨大需求,摆脱由国外供应高精度微孔雾化片的高价格供应格局。
发明内容
为解决现有蚀刻加工技术的不足,本发明的目的在于提供一种金属雾化片的二元电沉积加工方法,满足高性能雾化器对微孔雾化片的制造要求,降低使用成本。
为解决上述问题,本发明是通过以下的技术方案来实现的:
一种金属雾化片的二元电沉积加工方法,其特征在于采用光电加工和二元电沉积技术,具体包括以下步骤:
(1)、设计金属雾化片的图形文件;
(2)、采用304不锈钢基板,经表面研磨处理、外观检查符合要求后,将基板置于烘箱中烘烤30分钟,烘烤温度为70~80度;
(3)、将光阻材料热压或印刷在基板上;
(4)、按照设计好的金属雾化片的图形文件,制作2000DPI的负片光罩菲林,在平行光机上进行高精度曝光;
(5)、将曝光后的基板在1%的显影剂中进行清洗,使图形停留在基板上,并作图形尺寸及外观检查;
(6)、将基板放入镍金电铸槽中的电铸溶液中进行二元电铸沉积加工,所述的二元电铸沉积加工是利用一定的电流沉积厚度,分别在光阻材料四周及上面沉积两次而成;
(7)、电铸沉积达到所需要的厚度后,将基板上的金属雾化片取下,放入超声波清洗机中进行清洗;
(8)、抽样检查、包装。
前述的金属雾化片的二元电沉积加工方法,其特征在于所述的光阻材料为干膜、油膜或油墨。
前述的金属雾化片的二元电沉积加工方法,其特征在于所述的干膜、油膜或油墨,经由300~400nm的光照射后可以发生固化反应。
前述的金属雾化片的二元电沉积加工方法,其特征在于在所述的步骤(3)中,将光阻材料热压或印刷在基板上,是利用干膜机在温度110~130度、压力在1.2KG~1.5KG、速度在0.8~1.0m/S的条件下,将25um的干膜热压在304不锈钢基板上,保证外观达到要求;或采用油墨印刷的方法,将一定厚度的油墨在100~200目丝网印刷下,使油墨平均涂覆在304不锈钢基板上,厚度为20~25um。
前述的金属雾化片的二元电沉积加工方法,其特征在于所述的步骤(4)中的高精度曝光,曝光时UV光能量控制在3~5KW。
前述的金属雾化片的二元电沉积加工方法,其特征在于所述的电铸溶液为镍钴溶液或镍磷溶液。
前述的金属雾化片的二元电沉积加工方法,其特征在于所述的镍钴溶液的主要成分和含量如下:
氨基磺酸镍溶液:350~550g/L;
氨基磺酸钴溶液:50~300g/L;
氯化镍溶液:10~30g/L;
硼酸:20~45g/L;
光亮剂XS-L:1~5ml/L;
添加剂P900:2~10ml/L。
本发明的有益效果是:采用本发明的二元电沉积加工方法来制造微孔金属雾化片,可以使微孔金属雾化片的孔径达到2~10um的孔径要求,并满足雾化片2000~5000小时的使用寿命,使雾化片可以雾化液体颗粒达到5um以下的直径水平,降低了使用成本。并且,电铸沉积的镍金合金材料硬度达到450~550hv,厚度达到0.020~0.060mm,圆度误差达到1um。
附图说明
图1为本发明的工艺流程图。
具体实施方式
以下结合附图具体介绍本发明的方法。
本发明中的金属雾化片的二元电沉积加工方法,采用光电加工及二元电铸沉积技术,光阻材料采用干膜、油膜或油墨,电铸沉积基板采用304不锈钢基板,电铸溶液采用镍磷或镍钴溶液。所采用的干膜、湿膜或油墨,经由波长300~400nm的uv光照射后可以发生固化反应。
本发明的工艺过程为(如图1):
设计金属雾化片的图形文件;采用304不锈钢基板,经表面研磨处理,检查外观符合要求后,将基板置于烘箱中烘烤30分钟,温度70~80度;利用干膜机在温度110~130度,压力在1.2KG~1.5KG,速度在0.8~1.0m/S的参数下,将25um的干膜热压在不锈钢基板上,保证外观达到要求;或采用油墨印刷的办法,将一定厚度的油墨在100~200目丝网印刷下,使油墨平均涂覆在不锈钢板上面,使厚度在20~25um左右即可。按照设计好的金属雾化片的图形文件,制作2000DPI的负片光罩菲林,在平行光机上进行高精度曝光,UV光能量控制在3~5KW即可。曝光后的基板在1%的显影剂中进行清洗,使图形停留在基板上,并作图形尺寸及外观检查。然后将基板放入镍金电铸槽中的电铸溶液中进行二元电铸沉积加工,达到所需要的厚度后即可将基板上的金属雾化片取下,放入超声波清洗机上进行清洗,最后需要按照抽样频率检查金属雾化片的各项尺寸。
二元电沉积加工方法是利用一定电流沉积厚度,分别在光阻材料四周及上面沉积两次而成。
当采用镍钴电铸溶液时,所采用的镍钴电铸溶液主要成分及含量如下:
氨基磺酸镍溶液:350~550g/L;
氨基磺酸钴溶液:50~300g/L;
氯化镍溶液:10~30g/L;
硼酸:20~45g/L;
光亮剂XS-L:1~5ml/L;
添加剂P900:2~10ml/L。
电铸沉积的镍金合金材料硬度达到450~550hv,厚度为0.020~0.060mm,微孔直径可以达到2~10um,圆度误差为2um。孔径小,精度高,使用寿命长,满足金属雾化片2000~5000的使用寿命,使金属雾化片可以雾化液体颗粒达到5um以下的直径水平,并价格较低,降低了使用成本。
上述实施例不以任何形式限制本发明,凡采取等同替换或等效变换的方式所获得的技术方案,均落在本发明的保护范围内。

Claims (8)

1、一种金属雾化片的二元电沉积加工方法,其特征在于采用光电加工和二元电沉积技术,具体包括以下步骤:
(1)、设计金属雾化片的图形文件;
(2)、采用304不锈钢基板,经表面研磨处理、外观检查符合要求后,将基板置于烘箱中烘烤;
(3)、将光阻材料热压或印刷在基板上;
(4)、按照设计好的金属雾化片的图形文件,制作2000DPI的负片光罩菲林,在平行光机上进行高精度曝光;
(5)、将曝光后的基板在1%的显影剂中进行清洗,使图形停留在基板上,并作图形尺寸及外观检查;
(6)、将基板放入镍金电铸槽中的电铸溶液中进行二元电铸沉积加工,所述的二元电铸沉积加工是利用一定的电流沉积厚度,分别在光阻材料四周及上面沉积两次而成;
(7)、电铸沉积达到所需要的厚度后,将基板上的金属雾化片取下,放入超声波清洗机中进行清洗;
(8)、抽样检查、包装。
2、根据权利要求1所述的金属雾化片的二元电沉积加工方法,其特征在于所述的光阻材料为干膜、油膜或油墨。
3、根据权利要求2所述的金属雾化片的二元电沉积加工方法,其特征在于所述的干膜、油膜或油墨,经由300~400nm的光照射后可以发生固化反应。
4、根据权利要求1所述的金属雾化片的二元电沉积加工方法,其特征在于在所述的步骤(2)中,所述的基板在烘箱中烘烤30分钟,烘烤温度为70~80度。
5、根据权利要求1所述的金属雾化片的二元电沉积加工方法,其特征在于在所述的步骤(3)中,将光阻材料热压或印刷在基板上,是利用干膜机在温度110~130度、压力在1.2KG~1.5KG、速度在0.8~1.0m/S的条件下,将25um的干膜热压在304不锈钢基板上,保证外观达到要求;或采用油墨印刷的方法,将一定厚度的油墨在100~200目丝网印刷下,使油墨平均涂覆在304不锈钢基板上,厚度为20~25um。
6、根据权利要求1所述的金属雾化片的二元电沉积加工方法,其特征在于所述的步骤(4)中的高精度曝光,曝光时UV光能量控制在3~5KW。
7、根据权利要求1所述的金属雾化片的二元电沉积加工方法,其特征在于所述的电铸溶液为镍钴溶液或镍磷溶液。
8、根据权利要求7所述的金属雾化片的二元电沉积加工方法,其特征在于所述的镍钴溶液的主要成分和含量如下:
氨基磺酸镍溶液:350~550g/L;
氨基磺酸钴溶液:50~300g/L;
氯化镍溶液:10~30g/L;
硼酸:20~45g/L;
光亮剂XS-L:1~5ml/L;
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