CN101566700A - 光圈片、光圈片的制造方法及使用该光圈片的镜头模组 - Google Patents

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Abstract

一种光圈片，该光圈片具有中心透光区和围绕该中心透光区的遮光区，该遮光区的材料为黑化的聚二甲基硅氧烷。本发明还涉及一种光圈片的制造方法，该制造方法包括以下步骤：一种光圈片的制造方法，该制造方法包括以下步骤：提供一个基底，该基底具有一个表面；垂直于该基底表面形成若干个圆柱体；于该若干个圆柱体之间均匀填满黑化的聚二甲基硅氧烷材料；固化该聚二甲基硅氧烷材料；翻模，使该聚二甲基硅氧烷材料与该基底、该若干个圆柱体分离；切割该聚二甲基硅氧烷材料层，得到若干个光圈片。本发明还涉及一种使用该光圈片的镜头模组。

Description

光圈片、光圈片的制造方法及使用该光圈片的镜头模组
技术领域
本发明涉及一种光圈片及其制造方法，尤其涉及一种采用微机电制程制造的光圈片及制造方法。本发明还涉及一种使用该光圈片的镜头模组。
背景技术
目前，小型化镜头模组采用的光圈片为固定光圈片，光圈片采用的材料有金属、薄膜或塑料等。现在有通过聚对苯二甲酸乙二醇酯属线型饱和聚酯(PET)生产的光圈片，但其厚度相对于目前的小型化镜头模组而言还是较厚，而且光圈片形状分辨率不高，大批量生产时均一性较差。
发明内容
有鉴于此，提供一种薄型的适用于小型化镜头模组的光圈片以及制造该光圈片的方法十分必要。
一种光圈片，该光圈片具有中心透光区和围绕该中心透光区的遮光区，该遮光区的材料为黑化的聚二甲基硅氧烷。
一种光圈片的制造方法，该制造方法包括以下步骤：一种光圈片的制造方法，该制造方法包括以下步骤：提供一个基底，该基底具有一个表面；垂直于该基底表面形成若干个圆柱体；于该若干个圆柱体之间均匀填满黑化的聚二甲基硅氧烷材料；固化该聚二甲基硅氧烷材料；翻模，使该聚二甲基硅氧烷材料与该基底、该若干个圆柱体分离；切割该聚二甲基硅氧烷材料层，得到若干个光圈片。
进一步地，本发明利用旋转涂布法将该聚二甲基硅氧烷材料均匀填满至该若干个圆柱体之间。
一种镜头模组，其包括光圈片，该光圈片具有中心透光区和围绕该中心透光区的遮光区，该遮光区的材料为黑化的聚二甲基硅氧烷。
相较于现有技术，本发明采用黑化的聚二甲基硅氧烷材料制造光圈片，原材料成本低，在制造过程中，旋转涂布法可以有效地控制聚二甲基硅氧烷材料的厚度，从而降低光圈片厚度；由于光圈片厚度降低，本发明提供的镜头模组的体积也随之小型化。
附图说明
图1是本发明第一实施例提供的光圈片示意图。
图2是本发明第二实施例提供的光圈片的制造方法流程示意图。
图3是本发明第二实施例提供的涂布了负光阻的基底示意图。
图4是本发明第二实施例提供的曝光示意图。
图5是本发明第二实施例提供的显影示意图。
图6是本发明第二实施例提供的在基底上涂布聚二甲基硅氧烷材料后的示意图。
图7是本发明第二实施例提供的翻模后的聚二甲基硅氧烷材料层。
图8是本发明第二实施例提供的切割效果示意图。
图9是本发明第三实施例提供的镜头模组示意图。
具体实施方式
下面将结合附图，对本发明作进一步详细说明。
请参阅图1，本发明第一实施例提供的光圈片10包括中心透光区101和围绕中心透光区101的遮光区102。遮光区102的材料为聚二甲基硅氧烷，一般称PDMS。遮光区102的边缘形状不限于图中所示的正方形，还可以是圆形、三角形等适合小型化镜头模组装配的各种形状。
请参阅图2，本发明第二实施例提供的制作光圈片的步骤包括：
提供一个基底，该基底具有一个表面；
垂直于该基底表面形成若干个圆柱体；
于该若干个圆柱体之间均匀填满黑化的聚二甲基硅氧烷材料；
固化该聚二甲基硅氧烷材料；
翻模，使该聚二甲基硅氧烷材料与该基底、该若干个圆柱体分离；
切割该聚二甲基硅氧烷材料层，得到若干个光圈。
请参阅图3，本发明第二实施例提供的基底30具有一个表面302，在表面302涂布光阻层304。
其中，基底30的材料为硅，在硅片上涂布光阻之前，需要先对硅片表面进行烘烤、清洗。通过烘烤将硅片表面吸收的水分去除，通过清洗使硅片表面更容易与光阻结合。
光阻层304为负光阻，负光阻的特点为曝光后，其感光部分不与显影液发生反应因而得以保留，未感光部分被显影液去除。本实施例采用的负光阻是环氧基紫外负性光刻胶(一般称SU-8光刻胶)，因为此种负光阻能够符合一定的厚度要求。
请参阅图4，光罩40具有预定图案，紫外光通过光罩40照射到负光阻层304上。
光圈片的透光区一般为圆形孔，因此光罩40的图案是一个圆形孔阵列。
曝光完成后，要对负光阻层304进行曝后烤，其作用在于使被曝光的光阻分子加速键结，增加被曝光光阻和基板的附着性。
请参阅图5，使用显影剂与负光阻层发生反应，使得未曝光的部分被显影液洗掉，使负光阻呈现预定的图案，即，成为一个圆柱体阵列306。每个圆柱体的的直径及高度相同，本实施例要求在此时圆柱体的高度大于等于50微米小于等于100微米。
请参阅图6，在基底表面302及圆柱体阵列306中涂布聚二甲基硅氧烷材料308。
由于聚二甲基硅氧烷本身为具有良好弹性的透明材料，不具有遮光功能，因此要在聚二甲基硅氧烷的前驱物中添加黑化剂使其黑化。黑化剂包括碳黑和甲苯。另外，还可以根据需要添加硬化剂，使得聚二甲基硅氧烷材料容易硬化。
为了使光圈片的厚度尽可能地降低，本实施例采用的涂布法为旋转涂布法，基底30将被置于旋转台上，旋转台转速越快，聚二甲基硅氧烷材料308涂布得越薄越均匀。因此，可通过控制旋转台的转速来控制聚二甲基硅氧烷材料的厚度。
将聚二甲基硅氧烷材料308涂布均匀后，对其进行固化处理。可采用热固化的方式。
请参阅图7，接着进行翻模，将固化后的聚二甲基硅氧烷材料层308从基底30上剥离。由于聚二甲基硅氧烷材料固化后仍具有良好的弹性，剥离不会对聚二甲基硅氧烷材料层造成结构上的破坏。
请参阅图8，最后一步是对聚二甲基硅氧烷材料层308进行切割，从而得到若干个光圈片20。光圈片20的周边也可以在进行适当的处理后形成如本发明第一实施例所示形状的光圈片10。
请参阅图9，本发明第三实施例提供的镜头模组90包括镜筒902，第一透镜904，第二透镜906和光圈片10。
其中，镜筒902收容第一透镜904和第二透镜906。光圈片10置于第一透镜904和第二透镜906之间，其中心透光区101的中心与第一透镜904和第二透镜906的中心对准。
另外，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思做出其他各种相应的变化，而所有这些变化都应包含在本发明所要求保护的范围之内。

Claims (10)

1.一种光圈片，该光圈片具有中心透光区和围绕该中心透光区的遮光区，其特征在于：该遮光区的材料为黑化的聚二甲基硅氧烷材料。
2.一种镜头模组，其包括光圈片，该光圈片具有中心透光区和围绕该中心透光区的遮光区，其特征在于：该遮光区的材料为黑化的聚二甲基硅氧烷材料。
3.一种光圈片的制造方法，其特征在于：该制造方法包括以下步骤：
提供一个基底，该基底具有一个表面；
垂直于该基底表面形成若干个圆柱体；
于该若干个圆柱体之间均匀填满黑化的聚二甲基硅氧烷材料；
固化该聚二甲基硅氧烷材料；
翻模，使该聚二甲基硅氧烷材料与该基底、该若干个圆柱体分离；
切割该聚二甲基硅氧烷材料，得到若干个光圈片。
4.如权利要求3所述的一种光圈片的制造方法，其特征在于：该聚二甲基硅氧烷材料的高度低于该圆柱体的高度。
5.如权利要求3所述的一种制造光圈片的方法，其特征在于：该若干个圆柱体的形成包括以下步骤：
于该基底表面涂布一负光阻层；
对该负光阻层进行软烤；
于该负光阻层上方加光罩，紫外光通过该光罩所限定的透光区域对该负光阻曝光，其中，该光罩所限定的透光区域为一个圆形阵列；
对该负光阻层进行曝后烤；
对该负光阻层进行显影，去除未曝光区域的负光阻，形成若干个圆柱体。
6.如权利要求5所述的一种制造光圈片的方法，其特征在于：该负光阻为环氧基紫外负性光刻胶。
7.如权利要求5所述的一种制造光圈片的方法，其特征在于：该若干个圆柱体的高度大于等于50微米小于等于100微米。
8.如权利要求3所述的一种制造光圈片的方法，其特征在于：利用旋转涂布法将该聚二甲基硅氧烷材料均匀填满至该若干个圆柱体之间。
9.如权利要求3、4、8中任一项所述的一种制造光圈片的方法，其特征在于：该聚二甲基硅氧烷材料包括黑化剂和硬化剂。
10.如权利要求9所述的一种制造光圈片的方法，其特征在于：该黑化剂包括碳黑和甲苯。
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