CN101551527B - 光学基片隐形图案的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种光学基片隐形图案的制备方法，属于光学镜片上设置图案类制造技术领域。本发明是将光学基片镀隐形图案的制备方法，基片清洁后，将所需要的镂空图案模板贴于基片上，基片固定于治具然后放置于真空度抽至至少5*10-5Torr的高真空机台内；通过离子束轰击镂空部分的基片表层(轰击时间大约3-15分钟)，使镂空部分基片表层变薄，基片变薄部分比其他部分的折射率低，从而形成基片上隐形图案。此镂空部分基片由于折射率低，而且厚度相对较薄，因而不易被肉眼所看到，而当遇到蒸汽时，图案部分就会出现雾状，呈现出来图案。

Description

光学基片隐形图案的制备方法
技术领域
本发明公开一种光学基片隐形图案的制备方法，属于基片材质附加图案类制造技术领域。
背景技术
目前光学镜片上设置图案的方法，一般通过镀膜层实现，其镀膜一般是在基片上镀上先镀上铬粉(Cr)，再镀上一层氧化硅SiO，干涉形成图案.但是因铬是金属材料会有底色，会显现图案出来，不可能隐形，此外铬是金属材质，对环境会造成污染。
然，目前市场上还没有出现带隐形图案的光学镜片，隐形图案的创新无疑是本领域技术人员所攻之技术。本发明人经过多年的研究和实验，终于创作出带隐形图案的光学镜片，故，才有本发明的提出。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明提供了一种设计合理光学基片隐形图案的制备方法。
本发明是通过以下技术方案实现的：
光学基片隐形图案的制备方法，
一)、基片清洁后，将所需要的镂空图案模板贴于基片上，放置于真空度抽至至少5*10-5Torr的高真空机台内；
二)、通过离子束轰击镂空部分的基片表层，使镂空部分基片表层变薄，基片变薄部分比其他部分的折射率低，从而形成基片上隐形图案。
所述步骤二)中，所述的离子束是由离子枪发射，该离子束轰击时间为3-15分钟，工作电压为220V。
所述的基片为压克力(AC)基片、聚碳酸酯(Polycarbonate)基片、尼龙(Nylon)基片、CR-39基片、玻璃基片中的任意一种。
本发明具有如下有益的效果：
本发明的光学基片在正常温度条件下，图案不易被肉眼所看到。镂空部分由于较低的折射率而不会被肉眼所看到，当此加工过的基片遇到水蒸气时基片表层较薄部分的图案就会显现出来。又或在冬天，眼镜佩带者在室外进入室内，由于佩带的镜片受冷热温差刺激，所轰击基片而形成的图案部分会呈现雾状而使图案呈现出来。但就太阳镜片而言，增加一个这种隐形图案效果，新增其创新点。同时，这种隐形图案的效果还可以用在其他一些产品，从而起到作防伪标志的功能。并且，上述眼镜镜片(基片)因为图案呈现只是瞬间，所以不会影响视力效果。
附图说明
图1是本发明工艺流程图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步说明：
实施例：结构如图1所示，光学基片隐形图案的制备方法，基片清洁后，将所需要的镂空图案模板贴于基片上，基片固定于治具(此为固定基片的支架)然后放置于真空度抽至至少5*10-5Torr的高真空机台内；通过离子束轰击镂空部分的基片表层，使镂空部分基片表层变薄，轰击时间为3-15分钟，基片变薄部分比其他部分的折射率低，从而形成基片上隐形图案。
离子束是由离子枪发射，轰击时间为3-15分钟，工作电流是三相，电压为220v。
基片为压克力(AC)基片、聚碳酸酯(Polycarbonate)基片、尼龙(Nylon)基片、CR-39基片、玻璃基片中的任意一种。
根据上述步骤可制得带隐形图案的光学基片。
优点：此产品在正常温度条件下，镂空部分的较低的折射率，故图案不易被肉眼所看到。而当此产品遇到蒸汽时，由于眼镜片上不同的折射率，故图案部分就会出现雾状，呈现出来图案。又或在冬天，眼睛佩带者在室外进入室内，由于佩带的镜片受冷热温差刺激，镂空图案部分会呈现雾状而使图案呈现出来。上述眼镜镜片(基片)因为图案呈现只是瞬间，所以不会影响视力效果。
以上所记载，仅为利用本创作技术内容的实施例，任何熟悉本项技艺者运用本创作所为做的修饰、变化，皆属本创作主张的专利范围，而不限于实施例所揭示者。

Claims (4)

1.光学基片隐形图案的制备方法，其特征在于包括如下步骤：
一)、基片清洁后，将所需要的镂空图案模板贴于基片上，基片固定于治具然后放置于真空度抽至1x10-5Torr到5x10-5Torr的高真空机台内；
二)、通过离子束轰击镂空部分的基片表层，使镂空部分基片表层变薄，基片变薄部分比其他部分的折射率低，从而形成基片上隐形的图案。
2.根据权利要求1所述的光学基片隐形图案的制备方法，其特征在于：所述步骤二)中，所述的离子束是由离子枪发射，该离子束轰击基片的时间为3-15分钟，工作电流为三相，电压为220V。
3.根据权利要求1所述的光学基片隐形图案的制备方法，其特征在于：所述步骤一)中，所述的基片为压克力AC基片、聚碳酸酯Polycarbonate基片、尼龙Nylon基片、CR-39基片、玻璃基片中的任意一种。
4.根据权利要求1至3任一项光学基片隐形图案的制备方法制备的光学基片，其特征在于：所述的基片表层设有变薄部分，与其他部分的基片折射率不同，从而形成基片上隐形的图案。
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