CN101526760B - 基板处理系统及显影方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种基板处理系统及显影方法，包含水洗管路装置、喷洒装置及气体管路装置。水洗管路装置用以控制水的通入。喷洒装置经由输送管路连接水洗管路装置，并用以对基板喷洒液态物质。气体管路装置与水洗管路装置并联相接，且经由输送管路连接喷洒装置，并用以控制气体的通入，将输送管路以及喷洒装置中残余的物体喷出。

Description

基板处理系统及显影方法
技术领域
本发明涉及一种基板处理系统，且尤其涉及一种应用于微影工艺中的基板处理系统。
背景技术
一般在半导体或液晶显示器的基板进行微影工艺时，现有技术的作法是将基板上先显影的部分，对其先进行水洗的步骤，如此即可平衡基板上左右部分具有显影时间差的问题。
然而，由于机台是处于连续运作的状态，亦即，在生产的过程中，对基板的处理是一片接着一片的连续动作。因此，当以上述方法(即对先显影的部分先进行水洗)处理基板时，在基板进行显影步骤的过程中，水洗喷头中残余的水汽，可能会因为机台的运作而产生震动，造成漏出的情况，进而导致基板上有显影不良的问题发生。
发明内容
本发明的目的是在提供一种基板处理系统，借以解决基板上显影不良的问题。
本发明的另一目的是在提供一种显影方法，借以改善基板的显影工艺及其显影品质。
为实现上述目的，本发明的一技术样态是关于一种基板处理系统，其包含一水洗管路装置、一喷洒装置以及一气体管路装置。水洗管路装置用以控制水的通入。喷洒装置经由一输送管路连接水洗管路装置，并用以对基板喷洒液态物质。气体管路装置与水洗管路装置并联相接，且经由输送管路连接喷洒装置，并用以控制气体的通入，将输送管路以及喷洒装置中残余的物体喷出。
而且，为实现上述目的，本发明的另一技术样态是关于一种显影方法，其包含：通过一喷洒装置对一基板喷洒显影剂；通过一输送管路通入水至喷洒装置；通过喷洒装置对基板喷洒水；在喷洒装置对基板喷洒水之后，通过输送管路通入气体至喷洒装置；以及通过通入的气体将输送管路以及喷洒装置中残余的物体喷出。
根据本发明的技术内容，应用前述基板处理系统或显影方法，可解决产品在黄光工艺中因漏水所造成显影不良的问题，改善显影的质量，以提升产品的特性。
附图说明
图1为依照本发明的实施例绘示一种基板处理系统的示意图；
图2和图3为依照本发明的实施例绘示一种显影工艺中基板处理系统作动的示意图；
图4为依照本发明的实施例绘示一种显影方法的流程图。
其中，附图标记：
100：基板处理系统            102：水洗管路装置
104：气体管路装置            106：喷洒装置
108：输送管路                110：基板
112：控制阀                  116：水喷洒器
120：检测装置                126：显影剂喷洒器
402～412：步骤
具体实施方式
图1为依照本发明的实施例绘示一种基板处理系统的示意图。基板处理系统100包括水洗管路装置102、气体管路装置104、喷洒装置106以及输送管路108。其中，水洗管路装置102用以控制水(如：纯水或去离子水)的通入与否，喷洒装置106经由输送管路108与水洗管路装置102连接，并经由喷嘴对基板110喷洒液态物质(例如：去离子水或显影剂等)，而气体管路装置104则是与水洗管路装置102并联相接，且经由输送管路108与喷洒装置106连接，并用以控制气体(例如：干空气)的通入与否，通过通入的气体将输送管路108以及喷洒装置106中残余的物体(例如：残余水汽)喷出。在本实施例中，气体管路装置104可通过交换阀或控制阀112与水洗管路装置102并联相接，且气体管路装置104和水洗管路装置102均与输送管路108连接，而喷洒装置106为自基板110的一侧朝基板110相对的另一侧移动，而对基板110喷洒经水洗管路装置102通入的去离子水，或者对基板110喷洒显影剂。
此外，喷洒装置106可包含水喷洒器116，其用以自基板110的一侧朝基板110相对的另一侧移动，对基板110喷洒水洗管路装置102所控制而通入的纯水或去离子水(DI water)。另外，喷洒装置106中也可包括显影剂喷洒器126，其用以自基板110的一侧朝基板110相对的另一侧移动，对基板110喷洒显影剂。
再者，基板处理系统100还可包括检测装置120，其直接或间接地与气体管路装置104电性连接。在一实施例中，检测装置120可用以检测喷洒装置106对基板110喷洒去离子水之后所在的位置，并在检测喷洒装置106所在位置之后，驱动气体管路装置104，以通过干空气将输送管路108以及喷洒装置106中残余的去离子水喷出。在另一实施例中，检测装置120则是可用以检测喷洒装置106是否完成对基板110喷洒去离子水的动作，并在喷洒装置106完成对基板110喷洒去离子水的动作后，控制气体管路装置104，以通过干空气将输送管路108和喷洒装置106中残余的去离子水喷出。
图2和图3为依照本发明的实施例绘示一种显影工艺中基板处理系统作动的示意图。在本实施例中，在喷洒装置106自基板110的一侧朝基板110相对的另一侧移动，而对基板110喷洒显影剂之后，喷洒装置106会回到基板110原先的一侧，接续对先显影的部分进行水洗。此时，水洗管路装置102控制去离子水的通入，使其经由输送管路108传输至喷洒装置106中，然后喷洒装置106再自基板110的一侧朝基板110相对的另一侧移动，对基板110进行水洗的动作(如图2所示)。
接着，当喷洒装置106移动至基板110相对的另一侧时，水洗管路装置102会关闭去离子水的通入。此时，检测装置120会检测喷洒装置106所在的位置或是其所完成的喷洒动作，然后直接或间接地将检测信号传送至气体管路装置104，驱动气体管路装置104而使干空气通入，借以将输送管路108和喷洒装置106中残余的去离子水喷出。
图4为依照本发明的实施例绘示一种显影方法的流程图。请同时参照图1和图4。首先，自基板110的一侧朝基板110相对的另一侧移动喷洒装置106，通过喷洒装置106对基板110喷洒显影剂，以进行显影步骤(步骤402)。接着，通过输送管路108通入纯水或去离子水至喷洒装置106中(步骤404)。再者，自基板110的一侧朝基板110相对的另一侧移动喷洒装置106，通过喷洒装置106对基板110喷洒纯水或去离子水，以进行水洗步骤(步骤406)。
然后，当喷洒装置106移动至基板110相对的另一侧，且完成对基板110喷洒纯水或去离子水的动作后，对喷洒装置106所在的位置进行检测(步骤408)。接着，根据检测的结果通过输送管路108通入气体(如：干空气)至喷洒装置106中(步骤410)。之后，再通过通入的气体将输送管路108和喷洒装置106中残余的纯水或去离子水喷出(步骤412)，以防止喷洒装置106对下一片基板喷洒显影剂而进行显影步骤时，喷洒装置106因机构作动的震动造成漏水，而造成显影不良。在另一实施例中，更可检测喷洒装置106是否完成对基板水洗的步骤，若喷洒装置106完成对基板水洗的步骤，则通过输送管路108通入气体至喷洒装置106中。
由上述本发明的实施例可知，应用前述的基板处理系统或显影方法，可解决产品在黄光工艺中因漏水所造成显影不良的问题，改善显影的质量，以提升产品的特性。。
当然，本发明还可有其它多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。

Claims (15)

1.一种基板处理系统，其特征在于，包含：
一水洗管路装置，用以控制水的通入；
一喷洒装置，经由一输送管路连接该水洗管路装置，并用以对该基板喷洒液态物质；以及
一气体管路装置，与该水洗管路装置并联相接，且经由该输送管路连接该喷洒装置，并用以控制气体的通入，将该输送管路以及该喷洒装置中残余的物体喷出。
2.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，还包含：一检测装置，直接或间接地电性连接于该气体管路装置。
3.根据权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于，该检测装置用以检测该喷洒装置对该基板喷洒液态物质之后所在位置。
4.根据权利要求3所述的基板处理系统，其特征在于，该检测装置在检测该喷洒装置所在位置之后，驱动该气体管路装置将该输送管路以及该喷洒装置中残余的物体喷出。
5.根据权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于，该检测装置用以检测该喷洒装置是否完成对该基板喷洒液态物质的动作。
6.根据权利要求5所述的基板处理系统，其特征在于，当该喷洒装置完成对该基板喷洒液态物质的动作后，该检测装置控制该气体管路装置将该输送管路以及该喷洒装置中残余的物体喷出。
7.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，该喷洒装置还包含：一水喷洒器，用以对该基板喷洒水。
8.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，该喷洒装置还包含：一水喷洒器，用以自该基板的一侧朝该基板相对的另一侧移动以对该基板喷洒该水洗管路装置所控制而通入的水。
9.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，该喷洒装置还包含：一显影剂喷洒器，用以对该基板喷洒显影剂。
10.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，该喷洒装置还包含：一显影剂喷洒器，用以自该基板的一侧朝该基板相对的另一侧移动以对该基板喷洒显影剂。
11.一种显影方法，其特征在于，包含：
通过一喷洒装置对一基板喷洒显影剂；
通过一输送管路通入水至该喷洒装置；
通过该喷洒装置对该基板喷洒水；
在该喷洒装置对该基板喷洒水之后，通过该输送管路通入气体至该喷洒装置；以及
通过通入的气体将该输送管路以及该喷洒装置中残余的物体喷出。
12.根据权利要求11所述的显影方法，其特征在于，还包含：
检测该喷洒装置对该基板喷洒水之后所在位置；以及
根据检测结果通入气体至该喷洒装置。
13.根据权利要求11所述的显影方法，其特征在于，还包含：
检测该喷洒装置是否完成对该基板喷洒水的动作；以及
当该喷洒装置完成对该基板喷洒水的动作后，通入气体至该喷洒装置。
14.根据权利要求11所述的显影方法，其特征在于，对该基板喷洒显影剂的步骤还包含：
自该基板的一侧朝该基板相对的另一侧移动该喷洒装置以对该基板喷洒显影剂。
15.根据权利要求11所述的显影方法，其特征在于，对该基板喷洒水的步骤还包含：
自该基板的一侧朝该基板相对的另一侧移动该喷洒装置以对该基板喷洒水。
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