CN101482667B - 显示面板及其制造方法、光电装置及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种显示面板及其制造方法、光电装置及其制造方法。其中，一种显示面板，其包括一第一基板、一第二基板、多条信号线、多个子画素以及至少一厚度调整层。第二基板配置于第一基板上方，且第二基板上具有一透明电极层。多条信号线配置于第一基板上。多个子画素排列于第一基板与第二基板之间。子画素与信号线电性连接，且部份子画素具有至少一穿透区及至少一反射区。穿透区具有一穿透电极，且反射区具有一反射电极。厚度调整层配置于反射电极的上方，且位于部份子画素中的反射区中。

Description

显示面板及其制造方法、光电装置及其制造方法

【技术领域】

本发明是有关于一种显示面板及其制造方法、光电装置及其制造方法，且特别是有关于一种具有半穿透半反射式(transflective)画素结构的显示面板及其制造方法、光电装置及其制造方法。

【背景技术】

一般薄膜晶体管液晶显示器可分为穿透式、反射式，以及半穿透半反射式三大类，其分类的依据在于光源的利用以及数组基板(array)的设计。一般而言，穿透式的薄膜晶体管液晶显示器(transmissive TFT-LCD)主要是以背光源(backlight)作为光源，其薄膜晶体管数组基板上的画素电极为透明电极，以利于背光源所发出的光线穿透。反射式薄膜晶体管液晶显示器(reflective TFT-LCD)主要是以前光源(front-light)或是外界光源作为光源，其薄膜晶体管数组基板上的画素电极为金属或其它具有良好反射特性材质的反射电极，适于将前光源或是外界光源反射。另外，半穿透半反射式薄膜晶体管液晶显示器则可视为穿透式薄膜晶体管液晶显示器与反射式薄膜晶体管液晶显示器的整合架构，其可以同时利用背光源以及前光源或外界光源以进行显示。

在现有的半穿透半反射式多域垂直配向液晶显示面板中，其彩色滤光基板上仅会设置有多个配向凸起物而无其它膜层或组件，且这些配向凸起物会分布于薄膜晶体管数组基板上的反射电极以及穿透电极上方。另外，通常于同一子画素内，反射电极与穿透电极之间会有主狭缝(main slit)的设计，意即，反射电极与穿透电极之间会存在间隔(gap)，使得反射电极与穿透电极相互分隔开来，其目的是使穿透电极与反射电极边缘的液晶分子往配向凸起物倾倒。必需说明的是，于同一子画素内的穿透电极的全部边缘与相邻的反射电极的全部边缘完全不会有彼此相连接的处，因此在穿透电极与相邻的反射电极两者之间会存在间隔(gap)。也就是说，于同一子画素内的穿透电极与反射电极形状对应于各区域T、R的形状，且穿透电极与反射电极邻接的整个边缘和反射电极与穿透电极邻接的整个边缘之间存在间隔(gap)。由于主狭缝是设置于反射电极与穿透电极之间，其能够改变电力线的分布，因而能使液晶分子往配向凸起物方向倾倒，以达到广视角的目的。此外，于同一子画素内的反射电极与穿透电极之间也会有连接电极，且连接电极仅会遮蔽或位于很少部份的主狭缝，约小于10％，以使反射电极与穿透电极彼此电性连接，此连接电极可与反射电极或穿透电极相同的电极材料。此时，于同一子画素内的反射电极与相邻的穿透电极之间仍存在间隔。另外，两相邻不同的子画素中，其中一子画素的穿透电极与另一子画素的反射电极之间存在一空隙或间隔，而让上述电极分隔开来。

但是，上述半穿透半反射式多域垂直配向液晶显示面板中于反射电极与穿透电极之间的主狭缝以及对应配置于穿透电极上方的配向凸起物的设计虽然可改变其附近的液晶层中的电场，使得液晶分子未如预期的配向方向倾倒。但是，主狭缝以及对应配置于穿透电极上方的配向凸起物的存在同时也会造成液晶显示面板开口率(aperture ratio)的损失。

【发明内容】

本发明提供一种显示面板，以解决传统半穿透半反射式多域垂直配向液晶显示面板中因主狭缝以及穿透电极上的配向凸起物的存在会造成液晶显示面板开口率(aperture ratio)的损失的问题。

本发明更提供一种显示面板的制造方法，其可制作出上述的显示面板。

本发明更提供一种光电装置，其具有上述的显示面板。

本发明更提供一种上述的光电装置的制造方法。

本发明提出一种显示面板，其包括一第一基板、一第二基板、多条信号线、多个子画素、至少一厚度调整层以及一液晶层。第二基板配置于第一基板上方，且第二基板上具有一透明电极层。多条信号线配置于第一基板上。多个子画素排列于第一基板与第二基板之间。上述子画素与信号线电性连接，且部份子画素具有至少一穿透区及至少一反射区。穿透区具有一穿透电极，且反射区具有一反射电极，其中位于穿透电极与反射电极连接处的穿透电极边缘与反射电极边缘是完全覆盖的，以构成一画素电极。厚度调整层配置在反射电极之上方，且位于部份子画素中的反射区中。液晶层位于第一基板与第二基板之间。

在本发明的一实施例中，上述的显示面板更包括一彩色滤光数组设置于第一基板及第二基板其中一者之上。

本发明提出一种显示面板的制造方法。首先，提供一第一基板以及一第二基板。第二基板配置于第一基板上方，且第二基板上具有一透明电极层。接着，配置多条信号线于第一基板上，并提供多个子画素排列于第一基板与第二基板之间。上述子画素与信号线电性连接，且部份子画素具有至少一穿透区及至少一反射区。穿透区具有一穿透电极，且反射区具有一反射电极，其中位于穿透电极与反射电极连接处的穿透电极边缘与反射电极边缘是完全覆盖的，以构成一画素电极。配置至少一厚度调整层于在反射电极之上方，且位于部份子画素中的反射区中。之后，设置一液晶层于第一基板与第二基板之间。

本发明提出一种光电装置的制造方法，包含如上述所述的显示面板的制造方法。

本发明提出一种光电装置，包含如上述所述的显示面板。

基于上述，由于本发明的显示面板采用的子画素中，穿透电极与反射电极连接处的穿透电极边缘与反射电极边缘是完全覆盖的，也就是该处不存在有主狭缝的设计，因此本发明相较于现有显示面板而言具有较高的开口率。另外，本发明的厚度调整层是位于反射电极之上方或位于反射电极之上方且延伸至邻接反射电极的部份穿透电极边缘上，厚度调整层同时具有配向图案的作用，因而本发明不需在第二基板上再设置配向凸起物，因此可提高显示面板的开口率。

为让本发明之上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。

【附图说明】

图1为本发明的一实施例的显示面板的剖面示意图。

图2为本发明的一实施例的显示面板中的画素数组基板之上视示意图。

图3为显示面板的液晶层中液晶分子的配向示意图。

图4为本发明的另一实施例的显示面板的剖面示意图。

图5为本发明的另一实施例的显示面板的剖面示意图。

图6为本发明的另一实施例的显示面板中的画素数组基板之上视示意图。

图7为显示面板的液晶层中液晶分子的配向示意图。

图8~图11分别为显示面板中使用表一至表四所列的厚度调整层厚度与反射区的液晶层厚度之后所测得的显示面板穿透率与驱动电压的曲线图。

图12为本发明的一实施例的光电装置的示意图。

【主要组件符号说明】

100、210：基板

170：主动组件

180：保护层

180P：凸起图案

190：画素电极

190a：反射电极

190b：穿透电极

190P：反射凸块

200、200b、200c、300：显示面板

220、220b、220c：子画素

211：彩色滤光层

212：平坦层

230：透明电极层

240、240b：厚度调整层

250：信号线

260：液晶层

270：画素数组基板

280：彩色滤光基板

400：光电装置

410：电子组件

COM：共享电极线

D1：厚度

Dr：间距

DL：资料线

H：接触开口

LC：液晶分子

R：反射区

T、T1、T2：穿透区

S：配向狭缝

S1：第一配向狭缝

S2：第二配向狭缝

【具体实施方式】

图1为本发明一实施例的由画素数组基板及其对应的彩色滤光基板构成的显示面板的剖面示意图。图2为图1的画素数组基板中的一个子画素单元之上视示意图。请同时参照图1及图2，本实施例的显示面板200主要由一画素数组基板270、一位于画素数组基板270的对向的彩色滤光基板280以及一位于彩色滤光基板280与画素数组基板270之间的液晶层260所构成。

详言之，画素数组基板270包含一基板100、多条信号线250、多条共享电极线COM、多个子画素220及多个主动组件170。多条信号线250配置于基板100上，信号线250例如是数据线DL或是与扫描线SL。多个子画素220排列于基板100与彩色滤光基板280之间，且子画素220与信号线250电性连接。

在本实施例中，基板100的材质是包含无机透明材质(如：玻璃、石英、或其它合适材料、或上述的组合)、有机透明材质(如：聚烯类、聚酼类、聚醇类、聚酯类、橡胶、热塑性聚合物、热固性聚合物、聚芳香烃类、聚甲基丙醯酸甲酯类、聚碳酸酯类、或其它合适材料、或上述的衍生物、或上述的组合)、无机不透明材质(如：硅片、陶瓷、或其它合适材料、或上述的组合)、或上述的组合。

主动组件170与信号线250电性连接。在本实施例中，主动组件170可为一顶栅极薄膜晶体管、一底栅极薄膜晶体管、或是其它合适的晶体管。

另外，于主动组件170上形成有一保护层180，且保护层180具有暴露出主动组件170的接触开口H。较佳地，部份保护层180上形成有多个凸起图案180P，但不限于此。于其它实施例中，保护层180上亦可不形成多个凸起图案180P，可于制造画素数组基板270时，由各膜层来产生类似于凸起图案180P的架构。本实施例以反射区R中的保护层180上有凸起图案180P为范例来详细说明，而在穿透区T中的保护层180则没有凸起图案180P的设计。通过保护层180的保护可以避免主动组件170受到水气的侵入而影响组件特性。在本实施例中，保护层180可为单层或多层结构，且其材质为有机材质(例如：光阻、苯并环丁烯、环烯类、聚醯亚胺类、聚醯胺类、聚酯类、聚醇类、聚环氧乙烷类、聚苯类、树脂类、聚醚类、聚酮类、或其它材料、或上述的组合)、无机材质(例如是氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、其它适合的材质或上述的组合)、或上述的组合。

请继续参照图1，在本实施例中，子画素220具有至少一穿透区T及至少一反射区R，意即，穿透区T及反射区R位于同一个子画素中，而构成一个子画素220。穿透区T上具有一穿透电极190b，而反射区R具有一反射电极1 90a，其中位于穿透电极190b与反射电极190a连接处的穿透电极边缘与反射电极边缘是完全覆盖的，以构成一画素电极190，使本实施例的子画素结构为半穿透半反射式子画素结构。必需说明的是，穿透电极边缘与反射电极边缘是完全覆盖的意是指穿透电极的全部边缘覆盖反射电极的全部边缘或是反射电极的全部边缘覆盖穿透电极的全部边缘。若制程条件(如：黄光蚀刻制程(photolithographic and etching process))控制得宜，可使得穿透电极的全部边缘完全抵接于反射电极的全部边缘，二者之间并无空隙(gap)存在，则本发明范围亦包含的。也就是说，穿透电极与反射电极形状对应于各区域T、R的形状，且穿透电极的宽度与反射电极的宽度全部抵接或全部覆盖。另外，由于本发明实施例以反射区R的保护层180上具有凸起图案180P为范例说明，但不限于此，因此于形成反射电极190a后，其表面具有多个反射凸块190P。此外，反射电极190a透过接触开口H连接至主动组件170。

更详细而言，于同一子画素中的画素电极190的穿透电极190b与反射电极190a之间不存在空隙，且依据制程上的不同，穿透电极190b与反射电极190a的连接处亦可有部分重叠，例如是反射电极190a在上而与部份在下的穿透电极190b重叠，反的亦可以是穿透电极190b在上而与部份在下的穿透电极1 90a重叠。但是两相邻不同的子画素中，其中一子画素的穿透电极与另一子画素的反射电极之间存在一空隙，因此彼此并不连接或相互分隔开来的。举例而言，上一个子画素的穿透电极与下一个子画素的反射电极之间是不连接的，同理下一个子画素的穿透电极与再次一子画素的反射电极之间是不连接的。另外，共享电极线COM的部分位于穿透区T与反射区R连接处，但并不用来限定本发明。也就是，共享电极线COM可依设计的需要，来选择性的采用或不采用。

在本实施例中，反射电极190a的材质可以是铝、铝合金、银或是其它具有高反射率的金属，其可为单层或多层结构。穿透电极190b可以为单层或多层结构，且其材质可以是由透明导电材质制成例如是铟锡氧化物、铟锌氧化物、铟锡锌氧化物、氧化铪、氧化锌、氧化铝、铝锡氧化物、铝锌氧化物、镉锡氧化物、镉锌氧化物或上述的组合。

在一较佳实施例中，由图2可知，穿透电极190b具有多条配向狭缝S以使液晶分子呈多方向排列。举例而言，穿透电极190b分别具有多个条纹电极图案，而条纹电极图案与条纹电极图案之间构成多个配向狭缝S。这些配向狭缝S用以控制液晶显示面板中液晶分子的排列方向。

一般来说，各个配向区中配向狭缝S的延伸方向与共享电极线COM延伸方向的夹角皆相等，以在各个观看方向上得到一致的显示效果以及范围大致相同的显示视角。特别是，在显示面板200的设计中，可以调整配向狭缝S的延伸方向使液晶分子倒向接近这些特定的方向，以在这些方向上得到较大的视角范围。另外，本实施例的配向狭缝S的延伸方向、数目以及与共享电极线COM延伸方向的夹角皆不用来限定本发明。

请继续参照图1，彩色滤光基板280包括一基板210、一彩色滤光数组(图中仅绘示一个彩色滤光层211为例)、一透明电极层230以及至少一厚度调整层240。特别是，本实施例的基板210上未设置有现有的配向图案(如配向突起物)，也就是说，反射电极190a以及穿透电极190b上方并没有配向突起物分布。较佳地，彩色滤光基板280更包括一平坦层212，其中平坦层212覆盖彩色滤光层211，且透明电极层230共形地覆盖厚度调整层240及部份的平坦层212。于其它实施例中，若不需要考虑地形轮廓问题，则可不使用平坦层212。

基板210的材质是包含无机透明材质(如：玻璃、石英、或其它合适材料、或上述的组合)、有机透明材质(如：聚烯类、聚酼类、聚醇类、聚酯类、橡胶、热塑性聚合物、热固性聚合物、聚芳香烃类、聚甲基丙醯酸甲酯类、聚碳酸酯类、或其它合适材料、或上述的衍生物、或上述的组合)、无机不透明材质(如：硅片、陶瓷、或其它合适材料、或上述的组合)、或上述的组合。

彩色滤光层211例如是由多个红色滤光区块(R)、多个绿色滤光区块(G)、多个蓝色滤光区块(B)以及位于各子画素之间的遮光图案(未绘示)所构成。于其它实施例中，亦可使用色坐标上的其它颜色的彩色滤光层，且一次所呈现的彩色滤光区块可包含三种、四种、五种、六种、或其它合适的数目，以获得较佳色度的表现。彩色滤光层211形成方法例如可通过旋转涂布制程(spincoating)以及烘烤制程等步骤，依序在不同的子画素区内形成图案化的红色光阻层(未绘示)、绿色光阻层(未绘示)以及蓝色光阻层(未绘示)，之后在形成遮光图案，或者是先形成遮光图案之后再形成红、绿、蓝色光阻层。当然，在其它实施例中，可通过喷墨法或其它适用的制程来制作彩色滤光层211。

另外，在其它实施例中，彩色滤光层211亦可形成基板100上。例如，彩色滤光层211配置于电极190a、190b与画素数组(未绘示)之间，亦即是彩色滤光层211直接整合于画素数组(Color Filter on Array，COA)之上，其中，画素数组代表着用来构成多个主动组件170所需的膜层。另外，彩色滤光层211也可以配置于画素数组(未绘示)之下。亦即是，画素数组在彩色滤光层211上方(Array on Color Filter，AOC)。也就是说，彩色滤光层211夹设于液晶层260与基板100之间。

平坦层212可为单层或多层结构，且其材质例如是聚醇类、树脂类、聚酯类、或其它合适的材料。之后，配置一厚度调整层240于平坦层212之上，且厚度调整层240于基板结构100及210组立之后是对应配置于子画素的反射区R中。在本实施例中，厚度调整层240可为单层或多层结构，且其材质包括光阻、苯并环丁烯、环烯类、聚醯亚胺类、聚醯胺类、聚酯类、聚醇类、聚环氧乙烷类、聚苯类、树脂类、聚醚类、聚酮类、或其它材料、或上述的组合。

透明电极层230可以为单层或多层结构，且其材质可以是由透明导电材质制成例如是铟锡氧化物、铟锌氧化物、铟锡锌氧化物、氧化铪、氧化锌、氧化铝、铝锡氧化物、铝锌氧化物、镉锡氧化物、镉锌氧化物或上述的组合。

在完成上述画素数组基板270与彩色滤光基板280的制作之后，在两基板之间270、280注入液晶材料，以形成液晶层260，完成如图1所示的本实施例的显示面板200。

值得注意的是，厚度调整层240位于反射区R的反射电极190a上方或位于反射电极之上方且延伸至邻接反射电极的部份穿透电极边缘上。由于在反射区R的厚度调整层240的存在使得反射区R中电场与穿透区T的电场不同，再加上搭配穿透区T的透明电极层230上的配向狭缝S，因而可使液晶层260中的液晶分子呈多方向排列，而得到数个不同的配向领域。

举例而言，图3为图1的显示面板中的液晶分子的配向示意图。请同时参照图1与图3，在反射区R中液晶分子LC受厚度调整层240的影响，液晶分子LC会往厚度调整层240的方向倾倒。因此，通过配置于反射电极190a上方的厚度调整层240，可改变反射区R中液晶层260之间距(cell-gap)，使本实施例的半穿透半反射式显示面板为双间距(Dual cell-gap)结构。也就是说，穿透区T与反射区R分别具有不同厚度的液晶层260。如图1所示，在配置厚度为D1的厚度调整层240之后，反射区R的液晶层厚度为Dr。由于反射电极190a的表面具有多个反射凸块190P，因此反射区R的液晶层厚度Dr可为对应于反射凸块190P波峰处的液晶层厚度、或是对应于反射凸块190P波谷处的液晶层厚度、或是对应于反射凸块190P的波峰处的液晶层厚度与对应反射凸块190P的波谷处的液晶层厚度的平均。

图4为本发明的另一实施例的显示面板的丨子画素剖面示意图。本实施例的液晶显示面板200b与上述图1所示的液晶显示面板200相似，惟二者主要差异的处在于：在液晶显示面板200b的反射区R中，厚度调整层240a是配置于基板100上，而不是配置于基板210上。本实施例以厚度调整层240a设置于反射电极190a上为范例，但不限于此。于其它实施例，厚度调整层240a较佳地设置于反射电极190a之下，可使得厚度调整层240a不受液晶层260中的溶剂干扰。另外，厚度调整层240位于反射区R的反射电极190a上方或位于反射电极190a之上方且延伸至邻接反射电极的部份穿透电极190b边缘上。

另外，若厚度调整层240b是配置于反射电极190a上时，则液晶显示面板200b的彩色滤光层211较佳的实施方式为将彩色滤光层211设置于彩色滤光基板280上。

图5为本发明另一实施例的画素数组基板及其对应的彩色滤光基板的剖面示意图。图6为图5的画素数组基板中的其中一个子画素单元之上视示意图。请同时参照图5及图6，本实施例的液晶显示面板200c与上述实施例的液晶显示面板200相似，惟二者主要差异的处在于：在液晶显示面板200c中，于同一子画素220c内包含两个穿透区T1、T2与至少一个反射区R，其中反射区R位于两穿透区T1、T2之间。另外，位于穿透电极190b与反射电极190a连接处的穿透电极边缘与反射电极边缘是完全覆盖的，以构成一画素电极190。比较特别的是，本发明上述实施例图2中的子画素是由信号线250所区分出来的，而本实施例图6是以信号线250与共享电极线COM所区分出来的。

由图6可知，在本实施例中，两个穿透区T1、T2中的穿透电极190b中分别具有多条第一配向狭缝S1以及多条第二配向狭缝S2，其中第一配向狭缝S1的延伸方向与第二配向狭缝S2的延伸方向不同。也就是说，穿透电极190b分别具有多个条纹电极图案，而条纹电极图案与条纹电极图案之间分别构成多个第一配向狭缝S1与第二配向狭缝S2。这些配向狭缝S1、S2用以控制液晶层260中液晶分子的排列方向，以形成四个配向方向。必需说明的是，两相邻的不同子画素内的穿透区T1或T2之间具有空隙，也就是两相邻的不同子画素内的穿透区T1或T2之间彼此并不连接或是相互分隔开来的。

图7为图5的显示面板的液晶层中液晶分子的配向示意图。请同时参照图5与图7，类似地，在反射区R中液晶分子LC受厚度调整层240的影响，液晶分子LC会往厚度调整层240的方向倾倒。

以下将举出几个实例以说明显示面板的厚度调整层的厚度D1与反射区的液晶层厚度Dr的关系。需注意的是，下述的表一至表五所列的数据数据分别对应图8至图11的曲线图，且上述的数据数据并非用以限定本发明，任何所属技术领域中具有通常知识者在参照本发明之后，当可对其参数或设定作适当的更动，惟其仍应属于本发明的范畴内。

表一

在表一中，D1/Dr表示厚度调整层的厚度D1与反射区R的液晶层间距Dr的比值，而厚度调整层240的厚度D1与反射区的液晶层间距Dr以微米(micrometer)为单位。图8为显示面板中使用表一所列的厚度调整层厚度D1与反射区的液晶层厚度Dr之后所测得的显示面板穿透率与驱动电压的曲线图。由图8及表一可知，D1/Dr为16.7％与20.0％时，显示面板在驱动电压，例如：接近5伏特时仍具有设计上所需要的适当或基本穿透率，例如以实质上大于30％以上的穿透率为范例。

类似地，图9为显示面板中使用表二所列的厚度调整层厚度D1与反射区的液晶层厚度Dr之后所测得的显示面板穿透率与驱动电压的曲线图。

表二

由图9及表二可知，D1/Dr约为28.6％与33.3％时，显示面板在驱动电压，例如：接近5伏特时仍具有设计上所需要的适当或基本穿透率，例如以实质上大于30％以上的穿透率为范例。

图10为显示面板中使用表三所列的厚度调整层厚度D1与反射区的液晶层厚度Dr之后所测得的显示面板穿透率与驱动电压的曲线图。

表三

由图10及表三可知，D1/Dr约为37.5％与42.9％时，显示面板在驱动电压，例如：接近5伏特时仍具有设计上所需要的适当或基本穿透率，例如以实质上大于30％以上的穿透率为范例。

图11为显示面板中使用表四所列的厚度调整层厚度D1与反射区的液晶层厚度Dr之后所测得的显示面板穿透率与驱动电压的曲线图。

表四

由图11及表四可知，D1/Dr约为44.4％与50.0％时，显示面板在驱动电压，例如：接近5伏特时仍具有设计上所需要的适当或基本穿透率，例如以实质上大于30％以上的穿透率为范例。

承上所述，可以知道D1+Dr类等于穿透区的液晶层厚度，即液晶间隙(cellgap)，假设为D，则D值可由设计上的要求来变动之，例如为了加快反应时间(response time)，则D值下降。反之，反应时间降低。而且D值皆实质上大于D1及Dr。一般D值约为小于或等于10微米(um)且大于0微米(um)；较常用的D值约小于或等于7微米(um)且大于0微米(um)；现今较常用的D值约小于或等于4微米(um)且大于0微米(um)。而且，D1与Dr皆约为大于零的正自然数。当D1变大时，则Dr变小。当D1变小时，则Dr变大。然而，在某些特殊情况下，D1约等于Dr。所以，由图8至图11及表一至表四可知，实质上当D1/Dr的比值约为大于或等于15％至等于或小于50％，且Dr＝A+D1，其中A约为大于零的正自然数。本发明上述实施例的A值，次佳地，约大于或等于1至约等于或小于4.5；次较佳地，约大于或等于1.5至约等于或小于3.5、或者是约大于或等于1至约等于或小于3.5、或者是约大于或等于2至约等于或小于3.5；较佳地，约大于或等于2至约等于或小于3；更较佳地，约大于或等于2至约等于或小于2.5，最佳的是A为2或2.5，可以使显示面板在相同电压下得到最适当的穿透率。表五为表一至表四的数据资料的综合整理。

表五

因此，利用厚度调整层的厚度D1与反射区的液晶层间距Dr的搭配，可调整前光源(front-light)或是外界光源被反射区R所反射的光线的相位延迟(phase retardation)，以进一步提升半穿透半反射式液晶显示面板的显示品质。

图12为本发明的一实施例的一种光电装置的示意图。请参考图12，显示面板300可以跟电子组件410电连接而组合成一光电装置400，而显示面板300例如是上述实施例的显示面板200、200b或200c其中之一。显示面板300制造方法包含如上所述的显示面板200、200b或200c的制造方法，再依照各种光电装置400的制造程序并组装所得显示器，以获得光电装置400。在本实施例中，由于显示面板300是采用上述的显示面板200、200b或200c，因此采用显示面板300的光电装置400可提升其开口率。

另外，电子组件410包括如：控制组件、操作组件、处理组件、输入组件、存储元件、驱动组件、发光组件、保护组件、感测组件、侦测组件、或其它功能组件、或前述的组合。而光电装置400的类型包括可携式产品(如手机、摄影机、照相机、笔记型计算机、游戏机、手表、音乐播放器、电子信件收发器、地图导航器、数字相片、或类似的产品)、影音产品(如影音放映器或类似的产品)、屏幕、电视、看板、投影机内的面板等。

综合以上所述，由于本发明的显示面板采用的子画素中，穿透电极与反射电极连接处的穿透电极边缘与反射电极边缘是完全覆盖的，也就是该处不存在有主狭缝的设计，因此本发明相较于现有显示面板而言具有较高的开口率。必需说明的是，穿透电极边缘与反射电极边缘是完全覆盖的意是指穿透电极的全部边缘覆盖反射电极的全部边缘或是反射电极的全部边缘覆盖穿透电极的全部边缘。若制程条件(如：黄光蚀刻制程(photolithographic and etchingprocess))控制得宜，可使得穿透电极的全部边缘完全抵接于反射电极的全部边缘，二者之间并无空隙(gap)存在，则本发明范围亦包含的。也就是说，穿透电极与反射电极形状对应于各区域T、R的形状，且穿透电极的宽度与反射电极的宽度全部抵接或全部覆盖。

另外，本发明的厚度调整层是覆盖在反射电极上或覆盖在反射电极上且延伸至邻接反射电极的部份穿透电极边缘上，厚度调整层同时具有配向图案的作用，因而本发明不需在穿透电极与反射电极上方的第二基板上再设置配向凸起物，因此可提高显示面板的开口率。

虽然本发明已以实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视后附的申请专利范围所界定者为准。

Claims (18)

1.一种显示面板，包含：

一第一基板；

一第二基板，配置于该第一基板上方，且该第二基板上具有一透明电极层；

多条信号线，配置于该第一基板上；

多个子画素，排列于该第一基板与该第二基板之间，所述子画素与所述信号线电性连接，且部份所述子画素具有至少一穿透区及至少一反射区，该穿透区具有一穿透电极，该反射区具有一反射电极，其中位于该穿透电极与反射电极连接处的该穿透电极边缘与该反射电极边缘是完全覆盖的，以构成一画素电极；

至少一厚度调整层，配置于反射电极之上方，且位于部份所述子画素中的该反射区中，该厚度调整层具有一厚度D1，而位于该反射区中的该液晶层具有一厚度Dr，D1/Dr的比值为15％～50％，且Dr＝A+D1，其中A为大于零的正自然数；以及

一液晶层，位于该第一基板与该第二基板之间。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，该穿透电极中具有多条配向狭缝。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，该第二基板上未设置有配向图案。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，该显示单元具有两个穿透区以及一个反射区，且该反射区位于两个穿透区之间。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，在所述两个穿透区中的该穿透电极中分别具有多条第一配向狭缝以及多条第二配向狭缝，其中所述第一配向狭缝的延伸方向与该第二配向狭缝的延伸方向不同。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，该第一基板上更包括设置有至少一共享电极线。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，该反射电极包括有多个反射凸块。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，更包括一彩色滤光数组设置于该第一基板及第二基板其中一者之上。

9.一种显示面板的制造方法，包含：

提供一第一基板；

提供一第二基板，其配置于该第一基板上方，且该第二基板上具有一透明电极层；

配置多条信号线于该第一基板上；

提供多个子画素，排列于该第一基板与该第二基板之间，所述子画素与所述信号线电性连接，且部份所述子画素具有至少一穿透区及至少一反射区，该穿透区具有一穿透电极，该反射区具有一反射电极，其中位于该穿透电极与反射电极连接处的该穿透电极边缘与该反射电极边缘是完全覆盖的，以构成一画素电极；

配置至少一厚度调整层于反射电极之上方，且位于部份所述子画素中的该反射区中，该厚度调整层具有一厚度D1，而位于该反射区中的该液晶层具有一厚度Dr，D1/Dr的比值为15％～50％，且Dr＝A+D1，其中A为大于零的正自然数；以及

配置一液晶层于该第一基板与该第二基板之间。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，该穿透电极中具有多条配向狭缝。

11.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，该第二基板上未设置有配向图案。

12.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，该显示单元具有两个穿透区以及一个反射区，且该反射区位于两个穿透区之间。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，在所述两个穿透区中的该穿透电极中分别具有多条第一配向狭缝以及多条第二配向狭缝，其中所述第一配向狭缝的延伸方向与该第二配向狭缝的延伸方向不同。

14.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，于该第一基板上设置多条信号线时，更包括设置有至少一共享电极线。

15.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，该反射电极包括有多个反射凸块。

16.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，更包括设置一彩色滤光数组于该第一基板及第二基板其中一者之上。

17.一种光电装置，其包括根据权利要求1所述的显示面板。

18.一种光电装置的制造方法，其包括根据权利要求9所述的显示面板的制造方法。

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