【发明内容】
本发明是提供一种液晶显示面板,其结构有助于减少液晶材料的使用量。
本发明另提供一种液晶显示面板的制作方法,其能制作出一种具不同高度的光间隙物(photo spacers)的结构,而具此结构的液晶显示面板能减少成本的花费。
本发明又提供一种光电装置,其制作成本较为低廉。
本发明更提供一种光电装置的制造方法,以在不增加制程复杂度的前提下,减少液晶分子的使用量而有助于降低成本。
本发明提出一种液晶显示面板,此液晶显示面板包括一第一基板、一第二基板、一黑矩阵、一液晶层、多个第一光间隙物及多个第二光间隙物。第一基板与第二基板平行,液晶层配置于第一基板以及第二基板之间。黑矩阵配置于第一基板上且围出多个显示区,而黑矩阵所在位置为一非显示区。第一光间隙物配置于黑矩阵上且与第二基板接触,第二光间隙物配置于黑矩阵上。第二光间隙物与第二光间隙物之间构成多个通道以使液晶层的液晶分子透过通道在显示区间流通。通道在两相邻的第二光间隙物之间的宽度实质上介于2μm~10μm之间,且第一光间隙物的尺寸实质上大于第二光间隙物的尺寸。
在本发明的一实施例中,上述的第二光间隙物在各通道的延伸方向上的长度实质上介于2μm~19μm之间。
在本发明的一实施例中,上述的第二光间隙物在任两相邻通道之间的宽度实质上介于2μm~19μm之间。
在本发明的一实施例中,上述的第二光间隙物在各通道的延伸方向上的长度实质上为7μm。
在本发明的一实施例中,上述的第二光间隙物在任两相邻的通道之间的宽度实质上为2μm。
在本发明的一实施例中,上述的第一光间隙物在第一基板上的平面形状实质上为一矩形,其中矩形的宽度实质上介于8μm~24μm之间,而长度实质上介于8μm~24μm之间。此外,矩形的宽度例如是实质上介于8μm~16μm之间,而长度例如是实质上介于17μm~24μm之间。
在本发明的一实施例中,上述的第一光间隙物的高度与第二光间隙物的高度的差值实质上大于0μm至实质上小于等于3μm。
在本发明的一实施例中,更包括一主动层,配置于第二基板上,此主动层具有多个薄膜晶体管、位于非显示区内的多条扫描线及多条数据线,其中扫描线与数据线交错,而薄膜晶体管电性连接对应的扫描线与数据线。
在本发明的一实施例中,更包括多个彩色滤光膜,配置于第一基板上,位于显示区内。
本发明另提出一种液晶显示面板的制作方法,其包括提供一第一基板,且第一基板上具有围出多个显示区的黑矩阵,而黑矩阵所在位置为非显示区。于第一基板上形成一光阻材料层。接着,进行一图案化制程,将光阻材料层图案化,以于黑矩阵上形成多个第一光间隙物以及多个第二光间隙物,其中第一光间隙物的尺寸大于第二光间隙物的尺寸。第二光间隙物之间构成多个通道,而通道在两相邻第二光间隙物之间的宽度实质上介于2μm~10μm之间。然后,提供一第二基板,并形成一液晶层于第一基板以及第二基板之间。液晶层的液晶分子在通道之间流通,且第一光间隙物接触第二基板。
在本发明的一实施例中,更包括于第一基板上形成多个彩色滤光膜,位于显示区内。
在本发明的一实施例中,更包括形成一主动层于第二基板上,主动层具有多个薄膜晶体管、位于非显示区内的多条扫描线及多条数据线,其中扫描线与数据线交错,而主动元件电性连接对应的扫描线与数据线。
在本发明的一实施例中,上述的进行图案化制程时使用一半透掩模。
在本发明的一实施例中,上述的形成液晶层的方法包括真空注入法。
在本发明的一实施例中,上述的形成液晶层的方法包括滴下式注入法。
本发明更提出一种光电装置,包含上述实施例的液晶显示面板。
本发明又提出一种光电装置的制造方法,包含上述实施例的液晶显示面板的制造方法。
综上所述,本发明配置多个第二光间隙物于液晶显示面板的非显示区中,这些第二光间隙物占据原本液晶分子所在的空间,而使所需的液晶使用量减少。此外,若本发明另一实施例的液晶显示面板在制程上使用半透掩模来替换本发明原实施例,而可同时形成不同尺寸的第一光间隙物与第二光间隙物。因此,本发明除了有助于减少液晶材料使用量,同时可缩短液晶显示面板制造不同尺寸光间隙物的制程时间与步骤,也就可达到降低成本以及制程简化的目的。
为让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举较佳实施例,并配合所附图式,作详细说明如下。
【具体实施方式】
图2A为本发明的液晶显示面板的局部俯视示意图,而图2B为沿图2A的剖线BB’所绘示的液晶显示面板的局部剖面图。请参考图2A及图2B,液晶显示面板200包括一第一基板210、一第二基板220、一黑矩阵212、一液晶层230、多个第一光间隙物214以及多个第二光间隙物216。第一基板210与第二基板220平行,且液晶层230设置于第一基板210与第二基板220之间。黑矩阵212配置于第一基板210上且围出多个显示区P1,而黑矩阵212所在位置为一非显示区P2。此外,显示区P1与非显示区P2定义为一画素区(未标注)。
多个第一光间隙物214与多个第二光间隙物216配置于黑矩阵212上。第一光间隙物214与第二基板220接触,其用以维持第一基板210与第二基板220的距离。两相邻的第二光间隙物216间构成多个通道CH以使液晶层230的液晶分子透过通道CH在各个显示区P1间流通。通道CH在两相邻的第二光间隙物216之间的宽度WCH,较佳地,实质上介于2μm~10μm之间,但不限于此。特别的是,第一光间隙物214的尺寸实质上大于第二光间隙物216的尺寸。
此外,液晶显示面板200更包括有其他元件。举例来说,第一基板210上形成有多个彩色滤光膜218,位于显示区P1中,其例如为红色、绿色及蓝色滤光膜,而第二基板220形成有一主动层222。主动层222包括位于非显示区P2内的多条扫描线、多条数据线及多个主动元件或者包含位于非显示区P2内的多条扫描线及多条数据线,与多个主动元件位于显示区P1内。多条扫描线、多条数据线及多个主动元件至少由多个导电层M1与M2所构成。扫描线与数据线交错,而主动元件电性连接对应的扫描线与数据线。主动层222也包括位于导电层M1(亦称为第一导电层)与导电层M2(亦称为第二导电层)间以及覆盖导电层M1及M2的多个介电层224、226。这些介电层例如为导电层M1与导电层M2间的栅极绝缘层、内层介电层以及覆盖导电层M2的保护层及/或平坦层。另外,介电层226上还配置有多个画素电极228,位于显示区P1中并与对应的主动元件电性连接为本发明的实施范例,但不限于此,多个画素电极228,可选择性地配置于第二基板220上,且位于显示区P1中并与对应的主动元件电性连接或配置于介电层224上,且位于显示区P1中并与对应的主动元件电性连接。第一基板210上则更配置有共用电极240。
液晶显示面板200中,设有导电层M1与导电层M2的区域无法呈现良好的显示效果,因此这些区域上需配置遮光的黑矩阵212,以维持良好的显示效果。所以,黑矩阵212所在位置皆定义为非显示区P2,也因此使用者无法看到非显示区P2中的光线。如此一来,位于非显示区P2中的液晶分子不能提供显示的功用,而可能造成浪费。
在本实施例中,多个第二光间隙物216位于第一基板210与第二基板220之间并排列于非显示区P2中,可以占据原本液晶分子所在的空间。因此,第二光间隙物216的配置有助于减少液晶显示面板200中液晶分子的使用量。当第二光间隙物216的尺寸越大且分布密度越高时,液晶显示面板200中液晶分子的使用量越少。然而,为了制程的考量,必须使液晶显示面板200中液晶分子在各个显示区P1间具有良好的流动性。所以,第二光间隙物216的尺寸及分布密度必须在一定适当的范围之内。
具体来说,本发明的实施例尽可能地满足下列其中至少一种设计条件,即可得到本发明所预获得的目的,例如:各通道CH的延伸方向上,第二光间隙物216的长度LPS2,较佳地,实质上介于2μm~19μm之间、第二光间隙物216在任两相邻的通道CH之间的宽度WPS2,较佳地,实质上介于2μm~19μm之间。换言之,当第二光间隙物216在第一基板110上的平面形状为矩形时,此矩形的一边长约介于2μm~19μm。另外,为了维持液晶分子于各显示区P1间良好的流通性,第二光间隙物216与第二基板220间可以保持一间隙,也就是第二光间隙物216不会接触第二基板220。实务上,第一光间隙物214的高度h1与第二光间隙物216的高度h2的差值范围,较佳地,大致为实质上大于0μm至实质上小于等于3μm,但不限于此。
此外,第一光间隙物214的尺寸也会随着不同的液晶显示面板200设计而有所改变。当第一光间隙物214在第一基板210上的平面形状如为一矩形时,此矩形的宽度WPS1,较佳地,实质上介于8μm~24μm之间,而长度LPS1,较佳地,实质上介于8μm~24μm之间。在其他实施例中,第一光间隙物214在第一基板210上的矩形的宽度WPS1也可以是介于8μm~16μm之间,而其长度LPS1介于17μm~24μm之间。
进一步而言,第一光间隙物214、第二光间隙物216以及通道CH的尺寸可以随着液晶显示面板200的尺寸改变。以19时的液晶显示面板200为例,通道CH在两相邻的第二光间隙物216之间的宽度WCH,较佳地,实质上可以为2μm,但不限于此。各通道CH的延伸方向上,第二光间隙物216的长度LPS2例如为7μm,而在任两相邻的通道CH之间第二光间隙物216的宽度WPS2,较佳地,可以为2μm,但不限于此。而此条件下的第一光间隙物214在第一基板210上的矩形面积约为14μm×16μm。当然,以上各数值仅为本发明的丨个实施范例,并非用以限定本发明。在其他实施例的19时液晶显示面板200或其它尺时液晶显示面板中,各第一光间隙物214、第二光间隙物216以及通道CH也可以是其他不同的尺时。
图2C为沿图2A的剖线CC’所绘示的液晶显示面板的局部剖面图。请参照图2C,假设各个非显示区P2的长度Ln约为27μm,而各个显示区P1的长度Ld为67.5μm。若配置于非显示区P2的第二光间隙物216的长度LPS2为19μm,则第二光间隙物216占整体剖面长度的比例约为:19/(27+67.5)=0.201=20%。进一步假设非显示区P2的晶穴间隙为S,而第二光间隙物216的高度h2为S/2,则第二光间隙物216的剖面面积占整体剖面面积的比例约为:20%×50%=10%。因此,在图2C剖面中,第二光间隙物216的配置约可减少10%的液晶使用量。
承上述,若制作一个习知结构的液晶显示面板100所使用的液晶量约需花费2元美元的液晶材料成本,则每一个本实施例的液晶显示面板200可节省约0.2元美元的花费,也就是约6.6元新台币(以汇率33新台币/美元计算)。若以每个月产量可达一百万个液晶显示面板200成品来计算,则本实施例每个月液晶显示面板200的制作成本约可减少6.6×1,000,000=6,600,000元新台币。由此可知,本发明的液晶显示面板200的设计可有效地节省生产成本。
当然,本发明的液晶显示面板200并不限于前述实施例中所提到的结构。举例来说,液晶显示面板200中共用电极240的配置方式可以有多种变化。图2D~图2F绘示为图2A的液晶显示面板中配置三种不同的第一基板的剖面示意图。请参照图2D,液晶显示面板200可以是使共用电极240包覆彩色滤光膜218以及第一基板210上,而黑矩阵218形成于共用电极240上。另外,第一光间隙物214与第二光间隙物216形成于黑矩阵212上。值得一提的是,黑矩阵212、第一光间隙物214以及第二光间隙物216的材质可以是相同或是不同。如果材质相同,则黑矩阵212、第一光间隙物214与第二光间隙物216的结构可以是一体成型(未绘示),也就是说,于制程实务上,一次的曝光显影即可形成上述的结构。换言之,便是以第一光间隙物214与第二光间隙物216的底部取代了原先黑矩阵212所在位置。因此,此制作方式可以减少原制程的步骤,亦可减少生产成本。当然,上述的一体成型结构的型态仅为一举例,并非用以限定本发明。
请参考图2E,液晶显示面板200也可以是在第一基板210上形成一共用电极240。彩色滤光膜218与黑矩阵212分别配置在共用电极240上。在黑矩阵212上形成有第一光间隙物214与第二光间隙物216。另外,如上所述,若黑矩阵212、第一光间隙物214与第二光间隙物216材质相同,则可制作一体成型的结构。其结构的型态与上述的型态相同,在此便不再赘述。
请参考图2F,除了上述提及的共用电极240配置于第一基板210的形式外,液晶显示面板200更可以是使共用电极240包覆黑矩阵212、彩色滤光膜218、第一光间隙物214与第二光间隙物216。也就是说,共用电极240是在黑矩阵212、彩色滤光膜218、第一光间隙物214与第二光间隙物216都制作完成的后,才形成于第一基板210上的。当然,以上所述的共用电极240配置于第一基板210上的形式仅为本发明的一实施例,并非用以限定本发明。
进一步来说,图3A~3C为本发明一实施例的液晶显示面板的第一基板的制作方法。请参考图3A,首先提供一第一基板310,第一基板310上形成有一黑矩阵312、一彩色滤光膜318、一共用电极340。黑矩阵312围出多个显示区P1。彩色滤光膜318位于显示区P1中,而黑矩阵312所在位置则为非显示区P2,则显示区P1与非显示区P2亦可定义画素区域(未标示)。彩色滤光膜318的形成方法例如是利用微影制程、印刷制程、喷墨制程或是涂布制程等方式以将彩色滤光材料形成于显示区P1中,且彩色滤光膜318例如为红色、绿色、蓝色滤光膜或其它于色彩座标上的彩色。共用电极340则覆盖于彩色滤光膜318与黑矩阵312的上。另外,第一基板310上更可配置有平坦层(未绘示),其形成于共用电极340的上及/或共用电极340之下。
接着,请参考图3B以及图3C,于第一基板310上形成一光阻材料层320并进行一图案化制程,以形成第一光间隙物314以及多个第二光间隙物316。形成光阻材料层320的方法例如是旋转涂布法、喷墨制程或是印刷制程,而光阻材料层320的材质可以是一负光阻材料或是一正光阻材料。当然,其它感光性材料或有机材料层亦可被使用于此发明的实施例中。图案化制程的方法,较佳地,例如是使用一多阶透光度的掩模,如:半透掩模、灰阶掩模、狭缝掩模、绕射掩模、或其它掩模,进行一曝光显影制程或是利用一般仅具一透光区与一遮光区的掩模进行多次曝光显影制程。此步骤所制成的第一光间隙物314以及第二光间隙物316位于黑矩阵312上。实务上,第一光间隙物314的尺寸实质上大于第二光间隙物316的尺寸。
以一半透掩模330为多阶透光度的掩模的丨举例。由于,半透掩模330具有多个不同透光度的区域,可使对应于不同区域中的光阻材料层320接收不同程度的能量。因此,一次的图案化制程就可以产生不同尺寸的第一光间隙物314以及第二光间隙物316。此外,通过改变半透掩模330上不同透光度区域的分布,可以调整第一光间隙物314以及第二光间隙物316的分布情形。因此,本实施例的制作步骤有助于使第二光间隙物316之间间隔有特定的距离。换言之,本实施例的第一基板310上的第一光间隙物314以及第二光间隙物316可以随着不同设计需求而具有各种不同的尺寸以及分布情形。
以下将举例说明使用半透掩模以进行图案化制程的情形。图4A为一种半透掩模的示意图,半透掩模400具有完全透光区42、半透光区域44以及遮光区(未图示)。图4B为使用图4A的半透掩模进行图案化制程后所产生的光阻图案。请同时参照图4A与图4B,当以负型光阻材料进行此图案化制程时,对应于完全透光区42的光阻材料完全被曝光,使得光阻材料内的成份产生联结,而形成第一光阻图案48,且不易被显影液溶解及移除。另外,对应于半透光区44的光阻材料仅部分被曝光,使得光阻材料内的成份产生部份联结,而形成第二光阻图案46,且产生部份联结的成分不易被显影液溶解及移除。若使用正型光阻材料进行此图案化制程时,完全透光区42就必需要变更为完全遮光区,而对应于完全遮光区的光阻材料就不被曝光,使得光阻材料内的成份不会产生解离或游离形成光酸,而形成第一光阻图案48,且不易被显影液溶解及移除。另外,对应于半透光区44的光阻材料仅部分被曝光,使得光阻材料内的成份产生部份解离或游离形成光酸,而形成第二光阻图案46,且产生部份解离或游离形成光酸易被显影液溶解及移除。
根据实际量测的结果,第一光阻图案48的高度hsp1例如实质上为3.83μm,而第二光阻图案46的高度hsp2例如实质上为3.37μm。第一光阻图案48与第二光阻图案46的高度差值实质上为0.46μm。换言之,本实施例通过一次的图案化制程就可形成图4B的不同高度的光阻图案。在此,上述的高度值及高度差值仅为本发明的丨个实施范例,并非用以限定本发明。在其他实施例中,曝光能量不同或半透掩模的透光度不同下,第一光阻图案48与第二光阻图案46的高度值也可以是其他不同的数值。当然,第一光阻图案48与第二光阻图案46的分布情形及外型也会随着半透掩模400中不同区域的分布情形而改变。同理可知,通过半透掩模400的使用可以仅进行一次的图案化制程步骤,以形成本发明的第一光间隙物314以及第二光间隙物316为较佳实施例。当然,通过一般掩模的使用进行多次的图案化制程步骤,亦可形成本发明的第一光间隙物314以及第二光间隙物316,但较浪费制程时间及制程成本。
接着,图5为利用图3C的第一基板以制作液晶显示面板的示意图。请参照图5,提供一第二基板350,并于第一基板310与第二基板350之间形成一液晶层360。如此一来,第一基板310、第二基板350与液晶层360即构成一液晶显示面板300。在本实施例中,形成液晶层360的方法包括真空注入法或滴下式注入法(One DropFilling,ODF)。此外,第一基板310与第二基板350之间可形成有一框胶(未绘示),以将液晶层360密封。
真空注入法例如是使第一基板310与第二基板350间的压力小于外部压力,以通过外部压力将液晶分子注入于液晶显示面板300内部。滴下式注入法则是在组立第一基板310与第二基板350的前,将液晶分子以滴下的方式填入形成有框胶(未绘示)的第一基板310或是第二基板350上。随后,将第一基板310与第二基板350通过框胶(未绘示)贴合。
以本实施例而言,配置于第一基板310上的第一光间隙物314会接触第二基板350以维持此两基板间的距离。高度较小的第二光间隙物316则未接触第二基板350,且各个第二光间隙物316之间间隔有一定的距离。所以,进行真空注入法时,液晶分子在第二光间隙物316之间以及第二光间隙物316与第二基板350之间都有足够的空间可以流动。因此,液晶分子可以均匀地分布于第一基板310与第二基板350之间。同样地,进行滴下式注入法后,贴合第一基板310与第二基板350时,液晶分子也具良好的流动性。因此,本实施例的第二光间隙物316的配置不会影响到液晶分子的流动性,而使液晶显示面板300具有良好的品质。
值得一提的是,液晶显示面板300中,第一光间隙物314与第二光间隙物316的分布及尺寸大小例如可采用与上述实施例中液晶显示面板200中相似的规格,但不限于此。因此,液晶显示面板300的第二光间隙物316的配置有助于节省液晶使用量,而达到降低生产成本的目的。此外,本发明上述实施例所述的第一光间隙物与第二光间隙物其中至少一者于第一基板上的平面形状皆为矩形来当作实施范例,但不限于此,亦选择性地为其它形状,如多边形、三角形、四边形、菱形、楕圆形、圆形、梯形、五边形、六边形、星形、花形等。
再者,本发明上述的实施例皆以曝光显影制程形成第一光间隙物与第二光间隙物为范例,但不限于此,亦可选用不需使用掩模的喷墨制程、网版印刷制程等。此外,本发明上述的实施例皆以第一光间隙物与第二光间隙物设置于第一基板上及彩色滤光膜设置于第一基板上为实施范例,但不限于此,彩色滤光膜可选择设置于第二基板上,且位于主动层的上/下及第一光间隙物与第二光间隙物设置于第一基板与第二基板其中至少一者的上。又,本发明上述的实施例皆以第一光间隙物对应于非显示区的扫描线及第二光间隙物对应于非显示区的数据线为实施范例,但不限于此,第一光间隙物及第二光间隙物可任意选择非显示区的位置,仅要符合本发明所述的规则,亦即第一光间隙物及第二光间隙物同时对应于扫描线的非显示区上、第一光间隙物及第二光间隙物同时对应于数据线的非显示区上、第一光间隙物同时对应于扫描线与数据线的非显示区上,而第二光间隙物对应于扫描线及/或数据线的非显示区上、第一光间隙物同时对应于扫描线及/或数据线的非显示区上,而第二光间隙物对应于扫描线及数据线的非显示区上、或其它非显示区所对应的位置。
另外,如图6所绘示为本发明的丨实施例的光电装置的示意图。请参照图6,光电装置600包括液晶显示面板610及与其电性连接的电子元件612。液晶显示面板610可以为上述实施例中所述的任何一种配置有第一光间隙物与第二光间隙物的液晶显示面板200、300或是其他相同设计概念的液晶显示面板。由于,液晶显示面板610所需液晶使用量较少,所以光电装置600可具有较低的制作成本。
依照不同的显示模式以及膜层设计作为区分,液晶显示面板610包括如穿透型显示面板、半穿透型显示面板、反射型显示面板、彩色滤光片于主动层上(color filteron array)的显示面板、主动层于彩色滤光片上(array on color filter)的显示面板、垂直配向型(VA) 显示面板、水平切换型(IPS)显示面板、多域垂直配向型(MVA)显示面板、扭曲向列型(TN) 显示面板、超扭曲向列型(STN) 显示面板、图案垂直配向型(PVA)显示面板、超级图案垂直配向型(S-PVA)显示面板、先进大视角型(ASV)显示面板、边缘电场切换型(FFS)显示面板、连续焰火状排列型(CPA)显示面板、轴对称排列微胞型(ASM)显示面板、光学补偿弯曲排列型(OCB)显示面板、超级水平切换型(S-IPS)显示面板、先进超级水平切换型(AS-IPS)显示面板、极端边缘电场切换型(UFFS)显示面板、高分子稳定配向型显示面板、双视角型(dual-view)显示面板、三视角型(triple-view)显示面板、三维显示面板(three-dimensional)或其它型面板、或上述的组合。
另外,电子元件612包括如控制元件、操作元件、处理元件、输入元件、存储元件、驱动元件、发光元件、保护元件、感测元件、检测元件、或其它功能元件、或前述的组合。整体而言,光电装置600的类型包括可携式产品(如手机、摄影机、照相机、笔记型电脑、游戏机、手表、音乐播放器、电子信件收发器、地图导航器、数位相片、或类似的产品)、影音产品(如影音放映器或类似的产品)、屏幕、电视、看板、投影机内的面板等。
综上所述,本发明的液晶显示面板至少具有下列优点。首先,本发明的第二光间隙物的配置,使得液晶材料使用量缩减,以降低生产成本。另外,本发明的第二光间隙物的高度设计及其分布情形,使得液晶分子维持良好的流动性。因此,本发明的液晶显示面板具有良好的品质。再者,若本发明的另一实施例的液晶显示面板在制程上使用半透掩模来替换本发明的原实施例,来制造不同尺寸光间隙物,因而缩短液晶显示面板的制程时间与步骤。
虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然其并非用以限定本发明,任何熟习此技艺者,在不脱离本发明的精神和范围内,当可作些许的更动与润饰,因此本发明的保护范围当视后附的申请专利范围所界定者为准。