CN101476699B - 彩色滤光器及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种彩色滤光器及其制造方法。本发明提出了一种用于照明目的(例如，舞台照明)的彩色滤光器(1)，其包括设置于其上的全表面的抗反射层(3)以及附加的多层构造的干涉滤光器层(4)。

Description

彩色滤光器及其制造方法

技术领域

本发明一般涉及具有干涉层系统的彩色滤光器，尤其涉及用于舞台照明系统中的彩色滤光器。

背景技术

EP0621495 A描述了一用于灯的彩色同时淡出或淡入系统，其包括滤光器，该滤光器可通过旋转而连续调节。该滤光器具有层系统，其被设计为边缘滤光器，且以光谱切断边缘(spectural cut off edge)沿着外围方向变化的方式被制造。

WO 9913267 A和EP 0583048 A描述了一种可通过旋转被调节的滤光器的原理。二向色滤光器涂层的层的层厚度沿着表面连续变化。

尽管此处的缺点是，在可以以任何期望的方式选择彩色色调时，不能对色彩饱和度进行调节。

US 4,914,556 A描述了一种探照灯，其具有数个串联旋转的二向色彩色滤光器，其中滤光器材料被施加为具有可变密度的图案。根据置于光路中的滤光器的区域的密度，被所考虑的滤光器过滤的色彩的色彩饱和度可被调节。

还可从WO 01/037032 A2知道一种用于产生用于舞台照明的彩色光场的类似的光学系统。该光学系统是基于减色法混合的。该系统的原理是基于一系列的反射某些光谱部分并透射其它光谱部分的二向色滤光器的。滤光器的串联产生期望的彩色色调。为了获得彩色色调和色彩饱和度的连续的调节，以这样的方式构造滤光器，即它们都具有滤光区域和非滤光的区域。白光从非滤光的区域出射，然后作为出射的白色部分影响色彩饱和度和/或可被出射侧滤光器过滤以改变彩色色调。

然而，在可从WO 01/037032 A2和US 4,914,556 A了解的系统中，在透射白光的滤光器的区域处发生反射是不利的，它减少了探照灯的亮度。此外，在依次放置的单独的滤光器中会发生多重反射，导致彩色失真。

如果希望使滤光器的衬底无反射，会引起另一个问题，也就是抗反射层和彩色滤光器层作为干涉层系统彼此相互影响。这会引起结合的抗反射和彩色层系统的色彩座标相对于彩色系统的算得的特性的位移。

为了防止这个问题，至今为止彩色层系统和抗反射层是以这样的方式构造的，即两个层系统都是在衬底表面的互补区域上彼此相邻设置的。

然而，这种制造方法需要进行多重掩模(masking)，且因此相对昂贵。

发明内容

因此，本发明是基于简化对照明目的的结构化的彩色滤光器的制造的问题的。该问题通过独立权利要求的目的得到解决。在相应的从属权利要求中示出了本发明的有利的实施例及变形。

因此，本发明提供一种制造用于产生用于表面的照明的彩色光场的彩色滤光器的方法，其中，

-在平坦的透明衬底的整个表面上，至少在一侧上，特别优选地在两侧上，生成抗反射层，该抗反射层此后也被称为抗反射层系统或AR层系统，

-接着在通过掩模涂敷了干涉抗反射层的一侧上提供衬底，其覆盖了该侧的一些区域，然后，

-在被掩模的一侧上沉积附加的多层干涉滤光器层，其交替包括第一层和第二层，其中第一层具有第一折射率，而第二层具有不同于第一层的第一折射率的第二折射率，其中，

-考虑到在下方的干涉抗反射层来设计附加的多层干涉滤光器层的层的层厚度，以使得附加的多层干涉滤光器层以及干涉抗反射层一起形成彩色滤光器层系统，其在可见光谱范围内的透射光谱中具有至少一个边缘，该边缘从通过彩色滤光器层系统透射光的波长范围中分离出反射波长范围，并且其中

-在对附加的多层干涉滤光器层进行分离后移除掩模，以使得附加的多层干涉滤光器层覆盖衬底的至少一个第一区域，并留下未覆盖的至少一个第二区域，且由于干涉抗反射层而使得第二区域是抗反射的。作为可见光谱范围，这里通常使用的是400到800nm的波长范围。

根据本发明，从而提供了一种彩色滤光器层系统，其中AR层系统恰位于彩色滤光器叠层本身下方，并且其中在考虑到其层顺序的情况下，计算被施加到该AR叠层的彩色滤光器叠层，以使得彩色滤光器叠层以及下方的AR叠层的层正好实现期望的彩色效应，即，获得期望的(x/y)或(u’/v’)色度坐标(chromatic coordinate)。在彩色滤光器的情况下，这通常通过透射实现。然而，也可以想到设计反射的滤光器。

这样的彩色滤光器优选被设计来仅仅过滤特定的颜色，或用于产生特定的彩色色调，但是具有沿着衬底表面在某些区域中变化的色彩饱和度。这样，该滤光器可以尤其以这样的方式设计，即，可通过滤光器的旋转调节色彩饱和度。

此处，该AR层系统位于彩色滤光器叠层的下方，即，首先施加AR层，仅在这之后才是彩色滤光器叠层的层顺序。

对于本发明重要的是彩色滤光器叠层并不是在后施加到衬底的所有部分，而是保留衬底的一些部分仅被提供有纯的抗反射层。出于这个目的，在应用了AR涂层之后，采用掩模处理，其覆盖了已经施加的AR涂层的一些部分。在顺序施加了彩色滤光器叠层以及分离掩模后，从而在衬底上保留了被提供有彩色滤光器叠层的部分区域，而衬底的其它区域是抗反射的。

在该处理中施加的彩色滤光器叠层通常不会在其自身上获得期望的色度坐标；相反，后者是通过在下方的AR层系统以精确的方式获得的。

根据本发明的顺序的结果是，在选择在下方的AR涂层方面是完全自由的。从而，可能以涂敷系统向衬底施加抗反射涂层，并在掩模处理后在另一个涂敷系统中顺序向它们提供彩色滤光器叠层。此处的一个很大的优点在于在一个大的系统中节省成本地进行AR涂敷(至少在一侧上，有利地在两侧上)。

从而能够将以节省成本的方式在连续系统中以大的工业规模使用被形成为抗反射的衬底，例如，用于使得显示框玻璃或商店展示窗抗反射。通过这样被形成为抗反射的并且在较大表面积(典型地是从1m×2m至3m×6m)上制成的玻璃，大量的衬底可被切割成期望的尺寸和形状，且已经被形成为抗反射(在两侧)的分离的衬底在其它涂敷系统中在后来的掩模步骤中被提供以彩色滤光器叠层。因此，还有利于对干涉抗反射层和附加的多层干涉滤光器层使用不同的分开的系统。此外，在本发明的该实施例中，这样将干涉抗反射层施加到初步衬底上，然后从其分离该衬底，其中仅仅在衬底被分离后才施加附加的多层干涉滤光器层。

或者，还可能用已经位于初步衬底上的彩色滤光器叠层进行涂敷。在本发明的这种变形中，干涉抗反射层以及还有附加的多层干涉滤光器层都被施加到初步衬底上，然后将该衬底分离出去。

通常，例如，在上述的连续系统中，使用液体涂敷来使大表面衬底抗反射。因此，还有利的是，通过浸没式涂敷(immersion coating)、或浸没式构图(immersion drawing)和/或以溶胶-凝胶(sol-gel)处理来制造干涉抗反射层。在浸没式涂敷中溶胶-凝胶分离允许对层厚度的良好控制；然而，假如层厚度可以用足够的精度进行调节，其它液体涂敷处理(例如溅射涂敷)也是可以的。

特别有利的是，尤其是在使用初步衬底的上述实施例中，使用不同的沉积过程施加干涉抗反射层和附加的多层干涉滤光器层。这是可能的，因为抗反射层可以在整个表面上并且在未结构化的状态下被施加。

对于涂敷附加的多层干涉滤光器层，优选真空沉积。这是有利的，因为该滤光器层通常具有比干涉抗反射层更多的层数，且色度坐标取决于对这些层的层厚度的敏感度。真空沉积在此处提供了对层厚度的非常精确的控制的优点。此处优选考虑溅射作为沉积方法。

此外，为了获得良好的色彩过滤，优选地考虑到干涉抗反射层，附加的多层干涉滤光器系统以这样的方式设计和应用，即平均起来至少75％、优选地平均起来至少90％、且更优选地平均起来高于95％的光在接近所述边缘的、光谱宽度至少为60nm的反射波长范围内被反射。为了获得这一反射值，该层系统是以相应多的层数制得的。出于这个目的，优选地，附加的多层干涉滤光器层(4)具有至少15层，优选至少20层，其中具有第一折射率的第一层与具有较高折射率的层交替设置。对于干涉抗反射层，至少三层、优选地至少四层、特别优选地六层是有利于获得有效的抗反射的。如果抗反射层是通过交替高折射率层和低折射率层制得的，则至少四层是有利的，其中高折射率层(就像低折射率层那样)在每种情况下具有相同的折射率。通过真空沉积(尤其是通过溅射)可以很好地形成这种层。通过液体层，也可以用简单的方式产生具有中间折射率(medium refractive index)的混合氧化物层。在这种情况下，甚至通过三层也可以产生良好的抗反射。

对于干涉抗反射层和附加的多层干涉滤光器层的具有较高折射率的层，优选使用钛氧化物(titanium oxide)、铌氧化物(niobium oxide)、锆氧化物(zirconium oxide)、钽氧化物(tantalum oxide)作为高折射率氧化物。这些材料也可以任选地以混合氧化物(即，与其它氧化物结合)而被沉积。对于具有第一折射率的层，尤其可以考虑使用硅氧化物(SiO₂)作为具有相对较低折射率的材料。

为了允许完全的色彩混合，优选地，根据本发明串联若干个彩色滤光器。通过适当地放置滤光器，通过在每种情况下的向后反射，可以滤除掉可见频率光谱的特定强度的部分。在可见光谱中具有两个边缘的滤光器对于色度坐标是非常重要的。如果仅一个边缘偏离了算得的光谱位置，色度坐标就会迅速发生明显的位移。靠近该边缘的反射波长范围的反射率的光谱轮廓(profile)的变化在此处是尤为重要的。已经发现，本发明不仅仅允许简化的制造；而且具有两个边缘和不变的彩色特性的滤光器也可以以技术上可靠的可控制造方法生产。在本发明的变形中，出于该目的，考虑到干涉抗反射层来计算附加的多层干涉层，并以获得如下彩色滤光器层系统的方式施加附加的多层干涉层，其中所述彩色滤光器层系统在可见光谱区域内在透射光谱中具有两个边缘，其中第一个边缘位于435-495nm的范围内，优选地位于440-460nm的范围内，而第二边缘位于600-640nm的波长范围内，优选地位于605-630nm的波长范围内，并且中彩色滤光器层系统在这些边缘之间的波长范围内进行反射，从而在通过以彩色滤光器层系统覆盖的区域进行透射之后，从白光获得品红色光(magenta colored light)。

就本发明来说，这些边缘位置表示透射率的50％的绝对测量值，如从光谱仪直接测量得到的那样。

然后，这样的滤光器可以与反射红光(从而透射青色(cyan))的滤光器以及反射蓝光(从而透射黄光)的滤光器结合使用，从而在照明系统中获得完全的颜色混合。

此外，已经发现，有利地，在具有第一折射率的层和具有较高折射率的层的每种情况下产生干涉抗反射层和附加的多层干涉滤光器层，其中附加的多层干涉滤光器层的具有较高折射率的层是由与干涉抗反射层的具有较高折射率的层不同的材料制成的。已经发现，这些具有不同的高折射率的材料导致层系统的某种干涉光学退耦合，从而整个涂敷系统的色度坐标较小敏感地受层厚度中的由于生产引起的偏差(variation)的影响。

因而，由此生成的、产生用于照明目的的彩色光场的彩色滤光器在平坦的透明衬底上，在其整个表面上，至少在一侧上，特别优选地在两侧上具有抗反射层，其中

-在至少一侧上，特别优选地在两侧上，在平坦的透明衬底的整个表面上施加抗反射层，其中

-在掩模侧上沉积交替包括第一和第二层的附加的多层干涉滤光器层，其中第一层具有第一折射率，而第二层具有高于第一层的第一折射率的第二折射率，并且其中，

-干涉抗反射层具有至少一个第一层和至少一个第二层，其中第二层的折射率高于第一层的折射率，并且其中，

-附加的多层干涉滤光器层的第二层的材料以及干涉抗反射层的第二层的材料彼此不同，并且其中

-考虑到在下方的干涉抗反射层，以如下方式对附加的多层干涉滤光器层的层厚度进行设计，即，附加的多层干涉滤光器层连同干涉抗反射层一起形成彩色滤光器层系统，其在可见光谱范围内的透射光谱中具有至少一个边缘，该边缘从彩色滤光器层系统透射光的波长范围中分离出反射波长范围，并且其中

-附加的多层干涉滤光器层覆盖衬底的至少一个第一区域，并留下至少一个第二区域未覆盖，且由于干涉抗反射层而使得第二区域是抗反射的。

在具有这样的彩色滤光器的照明系统中，或者在根据本发明的方法获得的彩色滤光器中，数个(优选三个)这样的彩色滤光器于是沿着光路被串联放置，在每种情况下，该彩色滤光器在可见光谱范围的不同位置具有边缘。使用该彩色滤光器，于是可以为每种不同的颜色改变色彩饱和度，从而可以以期望的色彩饱和度调节任何期望的颜色。

根据该实施例的一个变形，应用了具有拥有较高折射率的包含锆氧化物或者钛氧化物的层的干涉抗反射层，以及应用了具有铌氧化物的附加的多层干涉滤光器层，尤其是具有拥有较高折射率的含五氧化二铌的层的多层干涉滤光器层。在品红色滤光器的情况下，能检测到色度坐标或者边缘的光谱位置对层厚度偏差的敏感度明显减少。

为了通过滤光器允许有可变的色彩饱和度，还可将彩色滤光器层系统在衬底上安制在相邻齿形区域中，这些齿形区域在纵向方向上变窄，从而作为相邻区域变窄的结果，提供有抗反射层的区域具有在沿齿的方向可变的宽度。该衬底可另外具有切口(cut-out)，以便能够在照明系统的光路中以光至少部分地通过该切口的方式调节彩色滤光器。

该齿形区域可以以圆形图案或者以具有绕旋转点的曲率的螺旋图案延伸。这允许很容易地通过旋转滤光器而设置期望的色彩饱和度。此处尤其有利的是，衬底具有圆形基底图案。或者，也可以进行平移运动来调节色彩饱和度。在这种情况下，齿形区域可以例如沿着一直线延伸。在所有的情况下有利的是，齿形区域的纵向方向上的至少一个部分在调节色彩饱和度期间位于衬底移动的方向。

为了获得整个层系统的色度坐标相对于单个层的厚度的单独的、与制造相关的偏差的最高不敏感性，可以针对层的设计计算第一阶(first order)层厚度敏感度。如果该敏感度是负的且对于特定层相对较高，如果它们的层厚度偏离了算得的层厚度，则这些层对色度坐标具有不相称的影响。

为了计算彩色滤光器层系统的层厚度，更有利的是使用多层抗反射层的预定的层厚度，且保持其固定，以计算剩下的层的层厚度，或者是附加的多层干涉滤光器层的层的层厚度。于是，这使得能利用可用的抗反射衬底作为起始点以及使用已经尝试并被证明的制造工艺用于抗反射层。

附图说明

下面将使用实例并参照附图对本发明进行详细描述。这里，在附图中相同的附图标记表示相同的部分或者相应的部分。在附图中：

图1示出了根据本发明制得的彩色滤光器的示意性的截面图，

图2示出了具有结构化的抗反射层的彩色滤光器以用于进行对比，

图3示出了具有圆形基底图案(circular base pattern)的彩色滤光器的顶视图，

图4示出了具有一组可调滤光器的探照灯的图，

图5示出了品红色彩色滤光器以及下方的抗反射层的透射的不同光谱轮廓，该滤光器被设计为具有作为高折射率材料的Nb₂O₅，该抗反射层也具有作为高折射率材料的Nb₂O₅，

图6示出了彩色层系统的各个层相对于层厚度的偏差的相对敏感度的计算值，其中具有下方的六层的抗反射层，

图7示出了相应的彩色层系统的各个层相对于层厚度的变量的相对敏感度的计算值，其中具有置于上方的六层的抗反射层，

图8示出了彩色层系统的各个层与层厚度的偏差相比的相对敏感度的计算值，其中具有下方的六层抗反射层，其中抗反射层和附加的多层干涉层的高折射率层的材料彼此不同，

图9示出了彩色层系统的各个层相对于层厚度的偏差的相对敏感度的计算值以便与图8进行对比，其中具有置于上方的六层抗反射层，其中抗反射层和附加的多层干涉滤光器层的高折射率层的材料彼此不同，

图10示出了在不具有抗反射层的情况下附加的多层干涉滤光器层的各个层的相对敏感度的计算值，

图11示出了与图5中的表示类似的光谱曲线，但是在抗反射层中使用了ZrO₂代替Nb₂O₅作为高反射材料，

图12示出了从根据本发明的具有在下方的抗反射层的两个彩色层系统的色度坐标中的200个单独偏差计算值得到的结果，其中，所述彩色层系统在一种情况下具有基于铌的层，而在另一种情况下具有基于锆的层，以及

图13示出了具有相应的在上方的抗反射层的彩色层系统的相同的计算值以便进行对比。

具体实施方式

根据本发明生成的具有抗反射衬底2的彩色滤光器1的原理如图1所示。此处，衬底2首先被制成在其至少一侧的整个表面上是抗反射的，但是优选地在两侧上都是抗反射的，然后在掩模处理后将彩色滤光器层系统施加于被掩模预先确定的位置。

在图1所示的示例中，作为一个示例，干涉抗反射层3仅在一侧22上被施加于具有两侧21、22的盘形衬底2。该干涉抗反射层3包括数个交替放置的第一和第二层31、32。此处，层32具有比第一层31高的折射率。对于第一层31，例如可以使用二氧化硅作为低折射率层的材料。

在该侧22上，接着对衬底2提供掩模，其覆盖该侧22的区域7。然后，将附加的多层干涉滤光器层4沉积于被掩模的侧22上，以及附加的多层干涉滤光器层4交替包含第一和第二层41、42，其中第一层41具有第一折射率而第二层42具有不同于第一层41的第一折射率的第二折射率。此处，第二层42的折射率也高于第一层41的折射率。

考虑到在下方的干涉抗反射层(3)，附加的多层干涉滤光器层4的折射层的层厚以这样一种方式被设计，即附加的多层干涉滤光器层4与干涉抗反射层3一起生成彩色滤光器层系统5。该彩色滤光器层系统5包括位于可见光谱区域中的透射光谱中的边缘，该边缘从由该彩色滤光器层系统透射光的波长范围中分离反射波长范围。为了能产生具有可变颜色饱和度的可见光的所有颜色，可然后将数个这种彩色滤光器1一个接一个的相连，其中在每种情况下彩色滤光器滤出不同的颜色。

在沉积了附加的多层干涉滤光器层4后，接着将掩模(mask)和位于掩模上的沉积的多层涂层的一部分一起移除。从而，获得结构化的滤光器层4，其覆盖衬底2的第一区域6，并留下第二区域7未覆盖。然后，由于干涉抗反射层3，被留下未覆盖的第二区域变成为抗反射的。

作为层32和42的层材料，除了其它化合物之外，还可以考虑使用如钛氧化物、铌氧化物、锆氧化物、钽氧化物及它们的混合氧化物。此处，这些层32也可在它们的成分上与层42不同，也如图1中以不同的交叉网线表示出的那样。从而，例如，还可以在AR涂层中将TiO₂用作高折射率材料，而在层系统4中则是ZrO₂和/或Nb₂O₅，如果这具有处理技术或成本优势。此外，在抗反射层3中也可使用ZrO₂，而在彩色滤光器叠层4中使用TiO₂和/或Nb₂O₅。

干涉抗反射层3可以以大的生产规模在第一涂层系统中被制成是抗反射的。此处所用的涂敷处理可以与在施加彩色滤光器层的第二系统中所用的类型相同。从而，例如，对于所述两个干涉层系统，可以使用溅射系统，以使得附加的多层干涉层也可通过溅射到溅射抗反射层上而被施加。

在这两种情况下，也可将汽相沉积系统用于电子束汽化或用于热汽化或者用作离子辅助涂敷。也可以设想使用CVD处理或溶胶-凝胶(sol-gel)处理，例如浸没式构图。

还可能以不同于彩色滤光器叠层的后面的涂敷处理的涂敷处理的类型实现抗反射。从而在原理上有可能将上述涂敷方法中的每个与所提及的方法中的另一个结合。

在图2中，为了进行对比，在衬底2上示意性地表示了传统生成的彩色滤光器1，其中衬底被制成抗反射的。此处，在第一掩模处理后，首先将抗反射层3施加到衬底上的区域7上，该区域被留下未被掩模覆盖。在移除第一掩模后，进行第二掩模步骤，其具有与第一掩模互补的形状，以及从而仅仅覆盖在第一掩模步骤中留下未被覆盖的区域7。通过掩模的方式，可以实现施加期望的原始彩色滤光器设计的第二涂敷处理。从而，已经被制成抗反射的且已经涂敷有彩色滤光器的区域7和区域6落在衬底2上的预定位置处，彼此完全分离。此处，在每种情况下，两个涂敷处理和相关的掩模处理的顺序可以是相反的，因为与根据本发明涂敷的衬底相反，这两个涂敷处理是彼此完全独立的。然而，出于这个目的，必须进行两次掩模处理，而在根据本发明的结合的掩模和涂敷方法中，仅仅需要一个掩模处理。

图3示出了具有圆形衬底2的彩色滤光器1的一个示例。该衬底2具有位于中间的开口201，通过该开口，彩色滤光器在绕其中点的轴上被保持为可旋转的。在盘形衬底2的边缘处，还有切口202。于是，可以以照明光源的光穿过该切口的方式定位该彩色滤光器1。在要产生完全白光的情况下这是有利的。

该彩色滤光器层系统5覆盖衬底表面的区域6，该区域具有齿形的、邻接延伸的局部区域61、62、63，该局部区域沿着其纵向方向变窄。由于邻接延伸的区域61、62、63的变窄，仅被提供有抗反射层的区域7的局部区域71、72在沿着齿的方向上具有可变的宽度。局部区域61、62、63和局部区域71、72以具有围绕开口210的中点(即滤光器的枢轴点)的曲率的螺旋图案延伸。沿着绕中点的外围的方向，作为齿形区域61、62、63变窄的结果，区域6和7的表面比例发生变化。衬底的区域91由探照灯照明。通过彩色滤光器绕中点的旋转，于是根据在区域91中给出的区域6和7的部分可以获得期望的饱和度。例如，在图3中所示的位置中，可以得到约50％的色彩饱和度。在旋转180°的情况下，照明区域91与切口202一致，从而该光不被过滤。

作为额外的说明，图4示出了具有数个彩色滤光器101、102、103的探照灯11的一部分的视图，其中所述滤光器根据本发明被制成在两侧都是抗反射的。使用聚光透镜112，从例如高压放电灯的照明光源111发出的光产生平行光束113。彩色滤光器101、102、103以在每种情形下平行光束照射在位于轴105、106、107和彩色滤光器101、102、103边缘之间的区域上的方式被设置。彩色滤光器101、102、103通过轴105、106、107分别被可旋转地连接，从而可在每个情况下调节期望的色彩饱和度。色彩中的每一种都反射可见光谱的特定的、不同的部分，或者产生与其它彩色滤光器不同的色调。此处，适当的彩色滤光器集合是将滤光器设计成青色、品红色和黄色滤光器的集合。

完整的计算结果的例子表明，如果AR层系统包含与彩色滤光器叠层不同的高折射率材料，那么从处理技术的观点来看是具有优势的。出于这个目的，与舞台探照灯的色轮的形式类似，品红色滤光器的设计被用作起始点。此处选择Nb₂O₅作为该品红色滤光器中的高折射率材料。

图5示出了该品红色的设计的光谱轮廓15，其被选择作为示例。

在这种原始的彩色滤光器设计下，在用于光学薄膜的竞争程序(competition program)中(在这种情况下是TFCalc，尽管也可以使用其它薄膜程序，例如Essential Macleod)，在也以Nb₂O₅作为高折射率材料所考虑的第一种情况下，于是放置被选择作为示例的抗反射设计。

在公共层结构中具有位于其下的AR层的原始彩色滤光器设计不再能达到以前存在的原始品红色设计的色度坐标，因为现在位于底部位置的AR层与原始的品红色设计的置于上方的层顺序发生干涉，以及，结果，公共层组的色度坐标相对于初始值移动。这可以从原始的品红色设计的光谱轮廓12中看出，也被示于图5中，该原始的品红色设计与下方的AR层一起被保持在固定的位置中，因为，在这种情况下，光谱曲线轮廓与不具有AR层的原始品红色设计(光谱曲线15)是明显不同的。

为了即使在AR层位于下方的情况下也能达到原始的品红色设计的原始期望的色度坐标，待施加的彩色滤光器叠层的层必须被调整。出于这个目的，在薄膜程序中以层厚度顺序使AR层系统的层保持固定，而待施加的彩色滤光器的层(即，原始品红色设计的层)未被覆盖以用于优化。

在进行了优化之后，位于原始AR系统上的是修改的彩色滤光器叠层，其对应于优化的附加的多层干涉滤光器层，此时，如果适当地设置优化程序中的设定点，该修改的彩色滤光器叠层与在下方的抗反射层的层再次精确地达到期望的原始色度坐标。

假设已经在优化例程中适当地设置目标条件，则在优化之后，至少在与人眼相关的光谱的可见区域的部分中，光谱曲线将再次接近地类似原始彩色滤光器设计的原始形状。在进行过优化以后得到的光谱曲线13如图5所示。

图5还示出了优化的彩色滤光器叠层的光谱轮廓在不存在位于下方的AR层的情况下是怎样的(光谱轮廓14)。如果被施加到未进行抗反射涂敷的衬底上，该彩色滤光器叠层单独也不能达到期望的色度坐标，因为可以从光谱轮廓的强烈波动察觉到这一点。仅仅在与在先施加的预定的抗反射设计结合时，在后施加的彩色滤光器叠层能够实现期望的色度坐标。从而，施加彩色滤光器设计是本发明的重要组成部分，其中该滤光器设计特别针对在每种情况下使用的位于下方的抗反射设计而被调整。

然而，技术地执行整个处理并不足以达到公共层组的原始期望的色度坐标。除了在理想情况下理论校正色度坐标以外，还重要的是，所有单独的层以精确的理论上正确的层厚度而被沉积，即使在整个层组5中，其不具有色度坐标相对于层厚度的单独偏差的过高的敏感度。出于这个目的，重要的是，另外施加的AR设计的层与顺序施加的彩色滤光器叠层的层相互作用。

为了确定层组的单个层的敏感度，从而有可能计算所谓的“一阶层敏感度”(first-order layer sensitivity)。层组的单个层的这种性质说明所考虑的单个层的层厚度的能被发现的最小改变的情况下(在最优的情况下)目标值偏离目标函数的程度(所谓的“价值函数”(merit function))。

此处，目标函数包括为优化所预定的单独目标，例如，诸如对于特定波长范围或色度坐标目标(用于特定照明光源的色度坐标)的光谱透射或反射值的目标值。

然而，在应用到固定的预定AR层组的彩色滤光器叠层的情况下，整个层组并不是位于目标函数的整体最小值中的，因为在优化处理过程中作为抗反射的一部分的第一层未被覆盖用于优化。相反，多层抗反射层的层厚度是预定的且被保持固定，并且于是，其它层或者附加的多层干涉滤光器层的层厚度是计算得到的。

从而，仅仅计算第一阶层厚度敏感度(“第一阶层敏感度”)而不是第二阶层厚度敏感度(“第二阶层敏感度”)，这可能仅仅在完全优化的层设计中是有意义的，在完全优化的层设计中所有的层最终都被成功地完全优化。

此处第一阶层厚度敏感度的绝对数据的值不具有直接意义，因为其取决于设定的各个目标的数量和“硬度”(容限)。只有各个层的该值相对于彼此的相对水平具有意义，且它表示层组中的各个层的“相对敏感度”相对于该设定目标的整体的水平。此处，高的正值表示质量或性能(“价值函数”)的相对强的恶化，而高的负值表示性能函数的相对改善。

然而，大的负值并不表示该层系统可以在生产过程中以稳定的方式运行，而这仅仅意味着如果对于所考虑的这些层发生单独的偏差，偏移不会灾难性地导致错误的方向，即，特别偏离期望的色度坐标。然而，大的值(即使是大的负值)总是表示目标值的强烈偏差，并且因而尤其是预定色度坐标的强烈偏差。然而，通常，仅仅希望对于整个层系统中在优化处理中未被覆盖的层，即，在本发明的AR叠层的层的情形中，具有非常大的负值。

图6示出了相对敏感度的值，对于位于衬底上且在附加的多层干涉滤光器层下方的给定的基于Nb的干涉抗反射层(具有整个层系统的索引1～6的层，或者具有一共30层的彩色滤光器层系统的层)的各个层厚度，以这样的方式计算该值。此处，具有索引1的层是最底下的层，且置于衬底上，而具有最高索引的层(即，具有数字30的层)是彩色滤光器层系统的最上方的层。

可以看到这些值多半是负的，但是它们的绝对值与彩色滤光器叠层(具有索引7～30的层)的平均起来的较低值相比相对大。从而，尽管该整体系统不是非常敏感的，但是对于层厚度的单独偏差，尤其是对于抗反射设计的前六层的层厚度的单独偏差，也不是非常不敏感的。

为了对比，图7示出了品红色设计的相对层厚度敏感度，与本发明相反，在其上抗反射设计的六层随后被施加。这是与图6的情形中相同的基于Nb的AR层设计。

然而，在这种情况下，AR层组的层#25-30是通过进行优化而保持固定的，而层#1-24因此而未被覆盖。图7示出了，也在这种情形下，AR层的层厚度敏感度与在整体层系统中的彩色滤光器叠层的层的敏感度相比是相对高的；然而，这次，AR叠层的单独层具有平均非常高的正值。从而，对于这样的整体层系统，可以预期该AR叠层的单独层对小的单独偏差起非常不利的反应，从而特别地，仅仅在很高的难度下才能保持整个层系统的窄的预定色度坐标。

因此，本发明示出了：与稍后沉积到多层干涉滤光器层上的抗反射层相比，首先被施加的干涉抗反射层相对于未改变的产品质量具有明显的优点。

迄今为止所考虑的这两种情形作为起点使用具有作为高折射率材料的Nb₂O₅的抗反射设计，其与同样基于Nb₂O₅构造的彩色滤光器叠层结合。此处的低折射率材料是SiO₂，这是常用的情形。

图8示出了基于ZrO₂作为高折射率材料的抗反射设计的层厚度敏感度的计算结果。此处的设计也是6层抗反射设计，如早先的具有Nb₂O₅作为高折射率材料的情形一样。具有高折射率的层的材料(即，层7-30的层叠层)也是Nb₂O₅，如图6和7的示例中的一样。从而，在图8中所示的示例中，每种情形中的干涉抗反射层和附加的多层干涉滤光器层有具有第一折射率的层和具有较高折射率的层，然而，附加的多层干涉滤光器层的具有较高折射率的层是由与干涉抗反射层的具有高折射率的层不同的材料生成的。

如未期望地观察到的那样，就高度而言的值远比早先的两种情况中的值低，且这些值趋向于是负的而不是正值。初略的估算显示，在这种情况下的“第一阶层敏感度”值的高度值仅仅约为其它两种情况下的平均高度的三分之一。从而，在实践中以及在狭窄地给出整个层系统的设定点的情况下，尤其是在狭窄的色度坐标要求的情况下，这种设计可以以明显比图6是7的前面的两种情况中的基于铌的设计更稳定的方式生成。

图6和8示出了下面的特性，其是通常在附图中所示的特别有利的变形中在不对根据本发明的层设计的示例作出任何限制的情况下给出的：

-多层抗反射层的所有层的第一阶层厚度敏感度的最大值小于附加的多层干涉滤光器层的所有层的第一阶层厚度敏感度的最大值。在所示的实施例中，具有索引2的层在干涉抗反射层的层1至6中具有最高的第一阶层厚度敏感度。例如，该值小于层18和20的值。至于其它层，干涉抗反射层的层厚度敏感度的幅度甚至小于附加的多层干涉滤光器层的层厚度敏感度的最大数量。

-干涉抗反射层的层的平均第一阶层厚度敏感度也小于附加的多层干涉滤光器层的层的平均第一阶层厚度敏感度。这应用于图6所示的具有同样的高折射率材料的例子，以及应用于图8所示的例子。

对于在如图8所示的抗反射层和附加的多层干涉层中具有不同的高折射率材料的示例，这也同样应用于平均值。

因此，考虑到这些特征，本发明还提供了一种彩色滤光器1，用于为照明目的产生彩色光场，其具有：

-在平坦的透明衬底2上至少在一侧21、22上、特别优选地在两侧上在整个表面上的干涉抗反射层3，，其中

-在被掩模的一侧22上沉积有附加的多层干涉滤光器层4，其交替包括第一和第二层41、42，其中第一层41具有第一折射率，而第二层42具有高于第一层41的第一折射率的第二折射率，并且其中，

-干涉抗反射层3具有至少一个第一层31和至少一个第二层32，其中第二层32的折射率高于第一层31的折射率，并且其中，

-在考虑下方的干涉抗反射层3的情况下，附加的多层干涉滤光器层4的层厚度以附加的多层干涉滤光器层4以及干涉抗反射层3生成彩色滤光器层系统5的方式而被设计，彩色滤光器层系统5具有在可见光谱范围内的透射光谱中的至少一个边缘，该边缘从由彩色滤光器层系统透射光的波长范围中分离反射波长范围，并且其中

-附加的多层干涉滤光器层4覆盖衬底2的至少一个第一区域6，并留下至少一个第二区域7未覆盖，且作为干涉抗反射层3的结果使得第二区域是抗反射的，其中满足下面的特性中的至少一个：

a)多层抗反射层的所有层的第一阶层厚度敏感度的最大值小于附加的多层干涉滤光器层的所有层的第一阶的层厚度敏感度的最大值，

b)多层抗反射层的所有层的第一阶层厚度敏感度的最大值的量小于附加的多层干涉滤光器层的所有层的第一阶层厚度敏感度的最大值的量，

c)多层抗反射层的所有层的第一阶的层厚度敏感度的平均值小于附加的多层干涉滤光器层的所有层的第一阶的层厚度敏感度的平均值，

d)多层抗反射层的所有层的第一阶的层厚度敏感度的平均值的大小小于附加的多层干涉滤光器层的所有层的第一阶的层厚度敏感度的平均值的量。

与图8相比，图9示出了在不是像第三个实施例所示的那样在彩色滤光器叠层的下方，而是在品红色滤光器上稍后施加同样的基于ZrO₂的抗反射设计的情形。从而，根据图9实现优化的程序对应于第二实施例的情形(图7)。

如可以从图9看出的那样，在这种情况下的层厚度敏感度近似与第二种情况一样高。从而，不会在这两种情况之间识别基本区别，其中抗反射设计稍后被施加到彩色滤光器叠层的上方。在这种情况下，抗反射层的期望的层厚度敏感度在整个层设计中相对高，且不能预期有在窄的目标设定点的情况下的稳定产品。

图10示出了原始的品红色层设计的层厚度敏感度。该设计不包含具有AR层的叠层，且所有的层因此可不被覆盖以用于优化。

附加的多层干涉滤光器层的单独层的层厚度敏感度的高度和分布与具有在下方的AR叠层或者稍后被施加到上方的叠层的四个所指示的示例中相关层的敏感度的分布非常类似，而且是如下指示，该指示即：由于优化算法，彩色滤光器叠层的未覆盖的层在发生优化期间，就它们的基本层顺序而言基本上未被改变。

在图11中，与图5中所示的类似地示出了光谱曲线；但是这次是针对以ZrO₂作为高折射率材料的所选抗反射设计的情况，即，根据参照图8解释的示例。

从图11中具有基于Zr的下方的AR叠层的优化的品红色彩色滤光器设计的的光谱曲线13的进展，不能一眼看出，就色度坐标而言，光谱轮廓与图5中具有基于Nb的下方的AR叠层的相应光谱曲线13相比是否更敏感地对AR叠层的单独层厚度的小的单独偏差作出反应。

然而，通过薄膜厚度计算程序所用的“TFCalc”，在原理上有可能计算单独层的层厚度敏感度是多么强烈地影响整个层系统5的色度坐标的稳定性的。出于这个目的，最初的指示表明单独层的期望的偏差有多大以及这些偏差的相对分布是什么。

在这点上所进行的分析中，开始的假设是最大为2nm的层设计中的单独层厚度的偏差(向着较厚的层以及较薄的层)。该假设应用于所考虑的所有层，无论它们的额定的起始厚度是怎样的。此外，假设最大为2nm厚的高度的层厚度偏差分布在该最大值附近的常规分布中进行分布。对于该分析，在每种情况下进行200个步骤。此处，对于具有5500K的标称色温的假定的黑体辐射器计算色度座标。

然而，理论分析中仅包括给定AR叠层的六层，因为其目的仅仅是为了关于整个层系统中的AR层的层厚度敏感度进行说明。

图12示出了两种情况中的200个单独的计算的结果，其中抗反射层是首先被施加的，且因此位于彩色滤光器叠层下方。这两种情况对应于图6(基于Nb的)或图8(基于Zr的)的情况。可以清楚地观察到，色度坐标上的平均的预期偏差在基于Zr的设计的情况中被观察到明显比在基于Nb的抗反射设计的情况中小。

很容易从图中估算到，在基于Zr的AR设计的情况中的色度坐标的平均偏差仅仅约为基于Nb的AR设计的平均偏差的三分之一，就像已从图6和图8中层厚度敏感度的高度的对比中所期望的一样。

图13示出了抗反射层在后被施加到在预先施加的彩色滤光器叠层上的两种情况中的200个单独计算的结果。这两种情况对应于图7(基于Nb)或图9(基于Zr)的情况。在这两种情况中，在每种情况中发生的色度坐标偏差与较小的平均的偏差相比相对较大，如从图12(对于基于Zr的抗反射设计)中可以看出的那样，即，在根据图8的设计的情况中。图13所示的这两种情况中的平均偏差近似对应于根据依照图6的层设计的图12的基于Nb的设计的情况中的平均偏差的高度。

由此，可得出下面的计算：

基于所进行的分析可以期望更稳定的产品，尤其是对于彩色滤光器叠层或者附加的多层干涉滤光器层在后被施加到已涂敷的AR叠层上的情况。

令人惊讶的是，如果对在抗反射设计中的高折射率材料选择与彩色滤光器叠层中所使用的高折射率材料不同的材料，则在选定的示例中的整个系统中的AR叠层的层的理论期望的层厚度敏感度明显较低。

由此，可以得出结论，如果对于AR叠层和彩色滤光器叠层的两种高折射率材料使用不同的材料，将存在技术优势。如果在大工业规模系统中在一侧或两侧被制成抗反射的衬底通过与在其它涂敷系统中在后施加的彩色滤光器叠层不同的高折射率材料来制备，则该技术优势可以特别有利地与序言中所表明的经济优点相结合。

此处，该涂敷系统不必是不同的，相反，它可以是相同的涂敷系统，通过该系统以节省成本的方式，首先例如在较大的衬底上进行一侧或两侧抗反射处理，之后根据单独彩色滤光器的期望的几何形状分离这些较大的衬底，然后单独的衬底通过掩模处理，以及该被掩模的衬底接着在相同的系统中被提供经过计算的彩色滤光器叠层。此处，也有可能在相同的系统中为该第二涂敷处理采用其它高折射率材料。

Claims (39)

1.一种制造用于为照明目的产生彩色光场的彩色滤光器的方法，在该方法中：

-在平坦的透明衬底(2)上，至少在一侧(21、22)上，在整个表面上生成干涉抗反射层(3)，

-接着在涂敷有干涉抗反射层(3)的一侧(22)上给衬底(2)提供掩模，该掩模覆盖该侧(22)的区域，以及其中，接着

-在被掩模的一侧(22)上沉积附加的多层干涉滤光器层(4)，该附加的多层干涉滤光器层交替地包括第一和第二层(41，42)，其中第一层(41)具有第一折射率，而第二层(42)具有不同于第一层(41)的第一折射率的第二折射率，以及其中，

-在考虑下方的干涉抗反射层(3)的情况下，以附加的多层干涉滤光器层(4)连同干涉抗反射层(3)一起生成彩色滤光器层系统(5)的方式设计附加的多层干涉滤光器层(4)的层(41，42)的层厚度，该彩色滤光器层系统(5)包括在可见光谱范围内的透射光谱中的至少一个边缘，该边缘从通过彩色滤光器层系统透射光的波长范围中分离反射波长范围，以及其中

-在对附加的多层干涉滤光器层(4)进行沉积之后移除掩模，以使得附加的多层干涉滤光器层(4)覆盖衬底(2)的至少一个第一区域(6)并留下至少一个第二区域(7)未覆盖，以及第二区域被提供有作为干涉抗反射层(3)的结果的抗反射涂层。

2.根据权利要求1的方法，其特征在于，在所述平坦的透明衬底(2)上，在两侧上，在整个表面上生成干涉抗反射层(3)。

3.根据权利要求1的方法，其特征在于，

-将干涉抗反射层(3)施加到初步衬底上，从该初步衬底

-然后分离衬底(2)，以及其中

-将附加的多层干涉滤光器层(4)施加到已分离的衬底(2)上。

4.根据权利要求1的方法，其特征在于，

-干涉抗反射层(3)以及附加的多层干涉滤光器层(4)都被施加到初步衬底上，以及

-接着分离衬底(2)。

5.根据权利要求1-4之一所述的方法，其特征在于，以不同的沉积方法施加干涉抗反射层(3)和附加的多层干涉滤光器层(4)。

6.根据权利要求1-4之一所述的方法，其特征在于，以不同的沉积系统施加干涉抗反射层(3)和附加的多层干涉滤光器层(4)。

7.根据权利要求1-4之一所述的方法，其特征在于，通过浸没式涂敷制造干涉抗反射层(3)。

8.根据权利要求1-4之一所述的方法，其特和在于，以溶胶-凝胶方法沉积干涉抗反射层(3)。

9.根据权利要求1-4之一所述的方法，其特征在于，通过真空沉积来沉积附加的多层干涉滤光器层(4)。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，通过溅射施加附加的多层干涉滤光器层(4)。

11.根据权利要求1-4之一所述的方法，其特征在于，在考虑干涉抗反射层(3)的情况下，以如下方式来设计和施加附加的多层干涉滤光器层(4)，所述方式即：平均起来至少75％的光在接近所述边缘的、光谱宽度至少为60nm的反射波长范围内被反射。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述方式即：平均起来至少90％的光在接近所述边缘的、光谱宽度至少为60nm的反射波长范围内被反射。

13.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述方式即：平均起来高于95％的光在接近所述边缘的、光谱宽度至少为60nm的反射波长范围内被反射。

14.根据权利要求1-4之一所述的方法，其特征在于，在考虑干涉抗反射层(3)的情况下，以如下方式来计算和施加附加的多层干涉滤光器层(4)，所述方式即：获得在可见光谱范围内的透射光谱中具有两个边缘的彩色滤光器系统(5)，其中第一边缘位于435-495nm的范围内，而第二边缘位于600-640nm的范围内，并且中彩色滤光器层系统(5)在这些边缘之间的波长范围内进行反射，以使在通过以彩色滤光器层系统覆盖的区域的透射之后，从白光获得品红色的光。

15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述第一边缘位于440-460nm的范围内。

16.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述第二边缘位于605-630nm的波长范围内。

17.根据权利要求1-4之一所述的方法，其特和在于，沉积干涉抗反射层(3)，其具有至少三个层。

18.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述干涉抗反射层(3)具有至少四个层(31，32)。

19.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述干涉抗反射层(3)具有六个层(31，32)。

20.根据权利要求1-4之一所述的方法，其特征在于，干涉抗反射层(3)和附加的多层干涉滤光器层(4)各自具有拥有第一折射率的层(31，41)以及拥有较高折射率的层(32，42)，其特征在于，具有较高折射率的层(32，42)是通过钛氧化物、铌氧化物、锆氧化物、钽氧化物中的至少一种氧化物生成的。

21.根据权利要求1-4之一所述的方法，其中干涉抗反射层(3)和附加的多层干涉滤光器层(4)各自通过具有第一折射率的层(31，41)和具有较高折射率的层(32、42)生成，其特征在于，附加的多层干涉滤光器层(4)的具有较高折射率的层(42)是由与干涉抗反射层(3)的具有较高折射率的层(32)不同的材料生成的。

22.根据权利要求21所述的方法，其特征在于，施加具有拥有较高折射率的含有锆氧化物或钛氧化物的层(32)的干涉抗反射层(3)以及具有拥有较高折射率的含有铌氧化物的层(42)的附加的多层干涉滤光器层(4)。

23.一种用于为照明目的产生彩色光场的彩色滤光器(1)，其具有：

-在平坦的透明衬底(2)上至少在一侧(21，22)上、在整个表面上的干涉抗反射层(3)，其中在涂敷有干涉抗反射层(3)的一侧(22)上，衬底(2)被提供有掩模，该掩模覆盖该侧(22)的区域，其中

-在被掩模的一侧(22)上沉积附加的多层干涉滤光器层(4)，其交替包括第一层和第二层(41，42)，其中该第一层(41)具有第一折射率，而该第二层(42)具有高于所述第一层(41)的第一折射率的第二折射率，并且其中，

-干涉抗反射层具有至少一个第一层和至少一个第二层(31，32)，其中该第二层(32)的折射率高于所述第一层(31)的折射率，并且其中，

-在考虑下方的干涉抗反射层(3)的情况下，附加的多层干涉滤光器层(4)的层厚度以如下方式被设计，所述方式即：附加的多层干涉滤光器层(4)连同干涉抗反射层(3)一起生成彩色滤光器层系统(5)，其具有在可见光谱范围内的透射光谱中的至少一个边缘，该边缘从通过彩色滤光器层系统透射光的波长范围中分离反射波长范围，并且其中

-附加的多层干涉滤光器层(4)覆盖衬底(2)的至少一个第一区域(6)并留下至少一个第二区域(7)未覆盖，以及作为干涉抗反射层(3)的结果使得该第二区域是抗反射的。

24.根据权利要求23所述的彩色滤光器，其特征在于，干涉抗反射层(3)位于所述平坦的透明衬底(2)上、在两侧上在整个表面上。

25.根据权利要求23所述的彩色滤光器，其特征在于，附加的多层干涉滤光器层(4)的第二层(42)以及干涉抗反射层(3)的至少一个第二层(32)的材料彼此不同。

26.根据权利要求23-25中的一个所述的彩色滤光器，其特征在于，在考虑干涉抗反射层(3)的情况下，附加的多层干涉滤光器层(4)以如下方式被设计，所述方式即：平均起来至少75％的光在接近所述边缘的、光谱宽度至少为60nm的反射波长范围内被反射。

27.根据权利要求26所述的彩色滤光器，其特征在于，所述方式即：平均起来至少90％的光在接近所述边缘的、光谱宽度至少为60nm的反射波长范围内被反射。

28.根据权利要求26所述的彩色滤光器，其特征在于，所述方式即：平均起来高于95％的光在接近所述边缘的、光谱宽度至少为60nm的反射波长范围内被反射。

29.根据权利要求23-25之一所述的彩色滤光器，其特征在于，附加的多层干涉滤光器层(4)具有至少15层。

30.根据权利要求29所述的彩色滤光器，其特征在于，所述附加的多层干涉滤光器层(4)具有至少20层。

31.根据权利要求23-25之一所述的彩色滤光器，其特征在于，彩色滤光器层系统在衬底(2)上被置于沿着纵向方向变窄的相邻的齿形区域(6)上，以使得作为相邻区域变窄的结果，仅被提供有抗反射层的区域(7)在沿着齿的方向上具有可变宽度。

32.根据权利要求31所述的彩色滤光器，其特征在于，齿形区域(6)以圆形图案或具有围绕旋转点的曲率的螺旋图案延伸。

33.根据权利要求23-25之一所述的彩色滤光器，其特征在于，衬底(2)具有切口，从而以光至少部分地穿过切口的方式在照明设备的光路中设置彩色滤光器(1)。

34.根据权利要求23-25之一所述的彩色滤光器，其特征在于，多层抗反射层的所有层的第一阶层厚度敏感度的最大值小于附加的多层干涉滤光器层(4)的所有层的第一阶层厚度敏感度的最大值。

35.根据权利要求34所述的彩色滤光器，其特征在于，多层抗反射层的所有层的第一阶层厚度敏感度的最大值的绝对值小于附加的多层干涉滤光器层(4)的所有层的第一阶层厚度敏感度的最大值的绝对值。

36.根据权利要求23-25之一所述的彩色滤光器，其特征在于，

-多层抗反射层的所有层的第一阶的层厚度敏感度的平均值小于附加的多层干涉滤光器层(4)的所有层的第一阶的层厚度敏感度的平均值，或者其中

-多层抗反射层的所有层的第一阶的层厚度敏感度的平均值的绝对值小于附加的多层干涉滤光器层(4)的所有层的第一阶的层厚度敏感度的平均值的绝对值。

37.一种照明设备，具有至少一个根据权利要求23-36之一所述的彩色滤光器(1)，其中所述至少一个彩色滤光器是可活动的、能可变调整的。

38.根据权利要求37的照明设备，其特征在于，数介彩色滤光器(1)一个接一个地沿着光路被设置，以及在每种情况下，它们的边缘具有在可见光谱范围的不同位置的边缘。

39.根据权利要求38的照明设备，其特征在于，三个彩色滤光器(1)一个接一个地沿着光路被设置，以及在每种情况下，它们的边缘具有在可见光谱范围的不同位置的边缘。

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