CN101458211A - 多缝滤波双缝干涉仪 - Google Patents
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Abstract
本发明多缝滤波双缝干涉仪是基于对杨氏双缝干涉仪的改进,将杨氏双缝干涉仪中的单缝滤波改为多缝滤波,利用多缝将非相干光源分割成多个相互独立的相干缝光源,其中每一条缝都能独立进行双缝干涉实验;当多缝、双缝和干涉条纹位置之间满足一定的几何关系时,各个缝光源产生的双缝干涉条纹位置就会重合,获得的双缝干涉条纹衬度远高于杨氏双缝干涉条纹。本发明多缝滤波双缝干涉仪,可以使利用普通可见光源进行双缝干涉实验变得简单易行,降低双缝干涉实验的成本,还可测量材料的折射率。
Description
技术领域
本发明涉及光学干涉技术领域,是以多缝滤波取代单缝滤波,使获得的双缝干涉条纹衬度远高于杨氏双缝干涉条纹衬度。
背景技术
1801年,托马斯·杨提出了在物理学史上有着重要地位的杨氏实验,即分波前双缝(孔)干涉实验。图1为杨氏干涉实验的原理示意图,利用单缝S从非相干光中,滤出一些步调一致的相干光,双缝S1和S2位于S的波前上,根据惠更斯原理,S1和S2可看作两个新的波源。由于S1和S2是由同一点光源S发出的柱面波面上的两个次级光源,因此S1和S2是一对有着固定相位差的相干光源,它们发出的子波叠加形成干涉场,在垂直于轴线放置的接收屏上生成一组稳定的明暗相间的条纹。
图5为杨氏双缝干涉实验光路图。S位于S1和S2连线的中垂线上,以单色光照明屏ΣS,透过屏上的缝S的柱面波分别经S1,S2到达接受屏上任意一点P(x′,y′)。来自S1,S2的波形成的光程差为
Δr=r2-r1
相应的相位差为
其中Z为屏∏与屏Σ的距离,d为双缝S1和S2的间距。在傍轴近似条件下,即满足
d2<<Z2,
式中ρM为观测区域的最大横向半径,则依据|a|<1时的二项式展开式
可以略去r1、r2展开式中自变量x′、y′的二次方以上的高次项,从而得到近似式
这样有
当P点的位置满足
Δr=r2-r1=mλ或Δφ=2mπ (m=0,±1,±2,…)(7)
时,两次波在该点满足干涉相长条件,产生干涉极大,从而形成亮纹;反之,当P点位置满足
时,两次波在该点满足干涉相消条件,产生干涉极小,从而形成暗纹。屏∏上的光强分布为
由上式可以得出,干涉条纹的形状是一族与y′轴平行的等距直线。零级亮纹位于S1,S2的中垂面上,正负级条纹在其两侧对称排列,越向外侧干涉条纹的级别越高。干涉条纹的间距,即两相邻亮纹或两相邻暗纹之间的距离皆为
在实际上,利用普通可见光源进行杨氏双缝干涉实验几乎看不到干涉条纹。这是因为在实验中,虽然可以利用单缝从非相干光中获得相干光,但是这种方法要把大部分步调不一致的光滤除,获得的相干光强度非常弱,从而由此得到的干涉条纹也非常弱,需要较长时间曝光,才能记录到双缝干涉条纹。因此,希望能找到一种能提高干涉条纹强度的方法,使得用可见光进行杨氏双缝干涉实验成为可能,从而降低实验的难度和成本。
发明内容
本发明的目的是公开一种多缝滤波双缝干涉仪,是基于对杨氏双缝干涉仪的改进,以特定间距的多缝滤波取代杨氏干涉仪中的单缝滤波,从而获得衬度增强的干涉条纹,其衬度增强倍数与多缝的条数成正比。由于干涉条纹亮度得以大幅度增强,使得利用普通可见光源进行双缝干涉实验变得简单易行,降低双缝干涉实验的成本。
为达到上述目的,本发明的技术解决方案是:
一种多缝滤波双缝干涉仪,是基于对杨氏双缝干涉仪的改进,大幅度增强双缝干涉条纹衬度,其以多缝滤波屏取代单缝滤波屏,多缝滤波屏上等间距相互平行的窄缝至少有两条;当多缝、双缝和接收屏位置之间满足一定的几何关系时,获得的双缝干涉条纹衬度远高于杨氏双缝干涉条纹衬度。
所述的多缝滤波双缝干涉仪,其所述多缝、双缝和接收屏位置之间一定的几何关系,是由两种方法确定:
a)移动法:
(1)在杨氏实验装置中,移动单缝滤波屏的位置,使干涉条纹在接收屏上移动一个周期的整数倍;
(2)记录下在(1)步状况下这些单缝滤波屏上单缝的位置,并按照这些位置设置多缝滤波屏上的窄缝;
b)计算法:
通过下式计算的结果确定多缝滤波屏上的多缝的位置:
其中,t为多缝滤波屏上等间距相互平行的窄缝之间的间距,d为双缝滤波屏上两条窄缝之间的间距,Zs是多缝滤波屏和双缝滤波屏之间的距离,λ为照明单色光的波长,n为干涉的级数;
所述的多缝滤波双缝干涉仪,其所述多缝滤波屏上等间距相互平行的窄缝,缝越多所得干涉条纹强度越强;实际应用时以能清楚观察到干涉条纹的衬度来确定多缝的数量。
所述的多缝滤波双缝干涉仪,其利用多缝滤波屏将非相干光源分割成多个相互独立的相干缝光源,其中每条缝都能独立进行双缝干涉实验;
由于多缝、双缝和干涉条纹位置之间满足一定的几何关系,各缝光源产生的双缝干涉条纹的位置重合,此时的干涉条纹的衬度增强了N倍,其衬度增强倍数与多缝滤波屏上的窄缝条数成正比。
所述的多缝滤波双缝干涉仪,其用于测量均匀材料的折射率,其方法如下:
a)将待测物体放置在双缝滤波屏的一窄缝之后,并保证待测物体未遮挡经另一窄缝发出的光波,测出其干涉条纹与未放置待测物体时产生的干涉条纹之间的偏移量;
b)再根据下式算出待测物体的折射率:
其中,d为双缝滤波屏上两条窄缝之间的间距,Z为双缝滤波屏与接收屏之间的距离,T为放置待测物体前后干涉条纹的偏移量,l为待测物体的厚度。
本发明的优点在于采用多缝滤波的方法进行杨氏干涉实验,由于每个缝光源产生的干涉条纹相重合,因而能获得强度大幅度增强的双缝干涉条纹,从而实现利用可见光源进行杨氏干涉实验,降低了实验的难度和成本。
附图说明
图1是单缝滤波双缝干涉原理示意图;
图2移动单缝,使双缝干涉条纹在屏幕上移动一个周期的整数倍;
图3是多缝滤波双缝干涉原理示意图;
图4是多缝滤波双缝干涉仪装置示意图;
图5是杨氏双缝干涉实验原理图;
图6是多缝滤波双缝干涉实验原理图。
具体实施方式
图4所示为多缝滤波双缝干涉仪的装置示意图。本装置可使用普通可见光源,由三个屏组成,第一个屏ΣS为多缝滤波屏,其上开多个等间距相互平行的窄缝(缝的数量以两个以上,从理论上来说,缝越多所得干涉条纹强度越强,没有限制),作用是将普通非相干光照明变成多个相互独立的相干光照明;第二个屏Σ为双缝滤波屏,其上开双缝,作用是产生一对有着固定相位差的相干光源,他们发出的子波叠加形成干涉场。第三个屏∏为接收屏,当多缝、双缝和接收屏位置之间满足一定的几何关系时,各个缝光源产生的双缝干涉条纹位置就会重合,从而在接收屏∏上产生衬度增强的干涉条纹。
具体的研究方法如下。
在杨氏实验装置(图1)中,移动单缝的位置,使干涉条纹在接受屏上移动一个周期的整数倍(图2);记录下这些单缝的位置,并按照这些位置加工多缝;利用加工好的多缝再做杨氏干涉实验(图3),即可获得衬度增强的干涉条纹。
通过计算可直接获得各多缝的精确位置。如图6所示,假设S01为屏ΣS上与S0平行的一窄缝,S01与S0间距为t,S01与S1和S2的距离分别为R1′和R2′,则经S01到达S1和S2的柱面波形成的光程差为
其中
式中Zs是屏ΣS和屏Σ的距离,在傍轴近似条件下可得到
时,S01的双缝干涉条纹和S0的双缝干涉条纹重合,两套条纹之间的横向位移为一个周期,因此产生衬度加倍的干涉条纹。由此可以推出条纹衬度加倍条件,即缝S01与S0的间距为
利用多缝滤波双缝干涉仪的实验方法亦可测量未知材料的折射率,具体方法如下。假设一材质均匀分布,折射率为n厚度为1的物体,放置在双缝之一的S1之后(并保证待测物体未遮挡经缝S2发出的光波)。其折射率可表示为
n=1+δ (15)
经过该物体的光波其相位的改变为
假设待测物体厚度l<<Z,在这种情况下,经由S1和S2到达接受屏上一点P的光波形成的光程差为
当未放置待测物体时,亮纹位于S1,S2的中垂面与屏∏的交线上,放置待测物体后,零级亮纹产生的条件为
Δφ+Δφ1=2mπ(m=0)
将上式带入(17)式,可得零级亮纹延x′轴方向有一平移
将(18)式代入(15)式,可得该物体的折射率为
Claims (5)
1.一种多缝滤波双缝干涉仪,是基于对杨氏双缝干涉仪的改进,大幅度增强双缝干涉条纹衬度,其特征在于:以多缝滤波屏取代单缝滤波屏,多缝滤波屏上等间距相互平行的窄缝至少有两条;当多缝、双缝和接收屏位置之间满足一定的几何关系时,获得的双缝干涉条纹衬度远高于杨氏双缝干涉条纹衬度。
2.根据权利要求1所述的多缝滤波双缝干涉仪,其特征在于:所述多缝、双缝和接收屏位置之间一定的几何关系,是由两种方法确定:
a)移动法:
(1)在杨氏实验装置中,移动单缝滤波屏的位置,使干涉条纹在接收屏上移动一个周期的整数倍;
(2)记录下在(1)步状况下这些单缝滤波屏上单缝的位置,并按照这些位置设置多缝滤波屏上的窄缝;
b)计算法:
通过下式计算的结果确定多缝滤波屏上的多缝的位置:
其中,t为多缝滤波屏上等间距相互平行的窄缝之间的间距,d为双缝滤波屏上两条窄缝之间的间距,Zs是多缝滤波屏和双缝滤波屏之间的距离,λ为照明单色光的波长,n为干涉的级数。
3、根据权利要求1所述的多缝滤波双缝干涉仪,其特征在于:所述多缝滤波屏上等间距相互平行的窄缝,缝越多所得干涉条纹强度越强;实际应用时以能清楚观察到干涉条纹的衬度来确定多缝的数量。
4、根据权利要求1或2所述的多缝滤波双缝干涉仪,其特征在于:利用多缝滤波屏将非相干光源分割成多个相互独立的相干缝光源,其中每条缝都能独立进行双缝干涉实验;
由于多缝、双缝和干涉条纹位置之间满足一定的几何关系,各缝光源产生的双缝干涉条纹的位置重合,此时的干涉条纹的衬度增强了N倍,其衬度增强倍数与多缝滤波屏上的窄缝条数成正比。
5、根据权利要求1或2所述的多缝滤波双缝干涉仪,其特征在于:用于测量均匀材料的折射率,其方法如下:
a)将待测物体放置在双缝滤波屏的一窄缝之后,并保证待测物体未遮挡经另一窄缝发出的光波,测出其干涉条纹与未放置待测物体时产生的干涉条纹之间的偏移量;
b)再根据下式算出待测物体的折射率:
其中,d为双缝滤波屏上两条窄缝之间的间距,Z为双缝滤波屏与接收屏之间的距离,T为放置待测物体前后干涉条纹的偏移量,1为待测物体的厚度。
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
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