CN101424947B - 一种气路控制方法和装置 - Google Patents

一种气路控制方法和装置 Download PDF

Info

Publication number
CN101424947B
CN101424947B CN2007101765528A CN200710176552A CN101424947B CN 101424947 B CN101424947 B CN 101424947B CN 2007101765528 A CN2007101765528 A CN 2007101765528A CN 200710176552 A CN200710176552 A CN 200710176552A CN 101424947 B CN101424947 B CN 101424947B
Authority
CN
China
Prior art keywords
time
valve
gas circuit
flow controller
mass flow
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN2007101765528A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101424947A (zh
Inventor
付金生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beijing North Microelectronics Co Ltd
Original Assignee
Beijing North Microelectronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing North Microelectronics Co Ltd filed Critical Beijing North Microelectronics Co Ltd
Priority to CN2007101765528A priority Critical patent/CN101424947B/zh
Priority to FR0857339A priority patent/FR2923025B1/fr
Publication of CN101424947A publication Critical patent/CN101424947A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101424947B publication Critical patent/CN101424947B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01TMEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/29Measurement performed on radiation beams, e.g. position or section of the beam; Measurement of spatial distribution of radiation
    • G01T1/2914Measurement of spatial distribution of radiation
    • G01T1/2985In depth localisation, e.g. using positron emitters; Tomographic imaging (longitudinal and transverse section imaging; apparatus for radiation diagnosis sequentially in different planes, steroscopic radiation diagnosis)

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Flow Control (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

本发明提供了一种开启和关闭气路的控制方法,包括:当执行开启气路操作时,针对该气路的前阀、后阀以及质量流量控制器执行以下操作:通知开启后阀;设定质量流量控制器的流量;通知开启前阀;当执行关闭气路操作时,针对该气路的前阀、后阀以及质量流量控制器执行以下操作:设定质量流量控制器的流量为0;延时预置的第一时间后通知关闭后阀,所述第一时间与后阀内部延时时间之和小于质量流量控制器的内部延时时间;延时预置第二时间后通知关闭前阀,所述第二时间与前阀内部延时时间之和大于质量流量控制器的内部延时时间。本发明可以有效避免存在压力差的条件时的MFC的输出震荡问题,减弱通气不稳的首片效应,达到较好的控制效果。

Description

一种气路控制方法和装置
技术领域
本发明涉及工业过程控制技术领域,特别是涉及一种针对气路进行控制的方法和装置。
背景技术
在工业过程控制中,对于气体流量的控制是一个重要组成部分。例如,在半导体行业中,通过对气体控制一定的流量,并通过加载射频功率,从而在反应室内达到致使气体起辉的目的。由于通入气体流量的稳定性直接影响到气体起辉以及工艺的结果,因此,在现有技术中一般通过质量流量控制器来对气体流量进行一定的控制。
质量流量控制器(MFC)中设置有一个气体流量调节阀门,阀门能使通过控制器的流量从零调节到测量的满量程。MFC一般采用PID控制,PID控制就是根据系统的误差,利用比例、积分、微分计算出控制量进行控制的。在调节系统中,其过程控制方式就是将被测量参数,如温度、压力、流量、成分、水位等,由传感器变换成统一的标准信号送入调节器,在调节器中,与给定值进行比较,然后把比较出的差值进行PID运算。
现有技术一般都是直接进行简单的指令控制:开关阀门、确定流量,等待气体流量的稳定,然后再进行工艺运行。虽然简单方便,但是存在以下的缺陷:
1、一般气路中既包括阀门又包括MFC,而气动阀从接受控制指令到执行的时间远远小于MFC从接受控制指令到执行的时间(内部延时),从而导致受控器件的动作时间不可控。
2、由于上述的简单控制会导致每次进行通气时,在MFC两端的气体存在较大的压差,而又由于MFC采用PID运算,从而导致其反馈误差较大,致使完成通气稳定的时间较长,工艺效率低下。首次通气,在MFC的进气口形成较大的气体压力,MFC在原有压力平衡的基础上进行气体流量调节,调节的过程较长并且存在较大的调节幅度波动。
进而,由于通气的不稳定因素,致使加载射频电压进行气体起辉时比较困难,且会对工艺过程造成一定的影响,造成刻蚀晶片的效果不好(一般也称之为首片效应)。
总之,目前需要本领域技术人员迫切解决的一个技术问题就是:如何才能创造性的提出一种能够克服硬件控制误差、缩短通气稳定时间以及减弱首片效应的气路控制解决方案。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种高效、平稳的气路控制方法和装置,能够克服硬件控制误差、缩短通气稳定时间以及减弱首片效应。
为了解决上述问题,本发明公开了一种开启和关闭气路的控制方法,包括:
当执行开启气路操作时,针对该气路的前阀、后阀以及质量流量控制器执行以下操作:步骤A1:通知开启后阀;步骤A2:设定质量流量控制器的流量;步骤A3:通知开启前阀;开启气路操作实际动作执行顺序是:后阀和前阀先开,质量流量控制器后调整到设定流量;
当执行关闭气路操作时,针对该气路的前阀、后阀以及质量流量控制器执行以下操作:步骤B1:延时预置的第一时间后通知关闭后阀,所述第一时间与后阀内部延时时间之和小于质量流量控制器的内部延时时间;步骤B2:设定质量流量控制器的流量为0;步骤B3:延时预置第二时间后通知关闭前阀,所述第二时间与前阀内部延时时间之和大于质量流量控制器的内部延时时间;关闭气路操作时,通过预置的第一时间和第二时间的延时,保证先关闭后阀,然后质量流量控制器流量调整到0,关闭前阀。
优选的,当执行开启气路操作时,还可以包括:判断主管路控制阀是否已打开,如果否,则通知开启主管路控制阀。
优选的,当执行关闭气路操作时,还可以包括:记录各个气路的开关状态;设定该待关闭气路的开关状态为关;判断当前的所有气路是否全部为关闭状态,如果是,则通知关闭主管路控制阀。
优选的,当执行关闭气路操作时,还可以包括:启动后阀的关闭线程,所述后阀关闭线程用于延时预置第一时间后通知关闭后阀;启动前阀的关闭线程,所述前阀关闭线程用于延时预置第二时间后通知关闭前阀。
依据本发明的另一优选实施例,还公开了一种气路控制方法,包括:获取待控制气路的上一次流量设定值以及本次流量设定值;比较上一次流量设定值与本次流量设定值;如果差值的绝对值小于或者等于一定阈值,则不予进行流量控制操作;如果差值的绝对值大于一定阈值,则选择执行下述一操作:
A、如果需要执行开启气路操作,则针对该气路的前阀、后阀以及质量流量控制器执行以下操作:步骤A1:通知开启后阀;步骤A2:设定质量流量控制器的流量;步骤A3:通知开启前阀;开启气路操作实际动作执行顺序是:后阀和前阀先开,质量流量控制器后调整到设定流量;
B、如果需要执行关闭气路操作,则针对该气路的前阀、后阀以及质量流量控制器执行以下操作:步骤B1:延时预置的第一时间后通知关闭后阀,所述第一时间与后阀内部延时时间之和小于质量流量控制器的内部延时时间;步骤B2:设定质量流量控制器的流量为0;步骤B3:延时预置第二时间后通知关闭前阀,所述第二时间与前阀内部延时时间之和大于质量流量控制器的内部延时时间;关闭气路操作时,通过预置的第一时间和第二时间的延时,保证先关闭后阀,然后质量流量控制器流量调整到0,关闭前阀;
C、否则,设定质量流量控制器的流量,通知质量流量控制器在上一次流量设定值的基础上进行流量调节。
优选的,当执行开启气路操作时,还可以包括:判断主管路控制阀是否已打开,如果否,则通知开启主管路控制阀。
优选的,当执行关闭气路操作时,还可以包括:记录各个气路的开关状态;设定该待关闭气路的开关状态为关;判断当前的所有气路是否全部为关闭状态,如果是,则通知关闭主管路控制阀。
优选的,当执行关闭气路操作时,还可以包括:启动后阀的关闭线程,所述后阀关闭线程用于延时预置第一时间后通知关闭后阀;启动前阀的关闭线程,所述前阀关闭线程用于延时预置第二时间后通知关闭前阀。
依据本发明的另一优选实施例,还公开了一种开启和关闭气路的控制装置,包括:
气路开启控制单元,包括:当执行开启气路操作时,
用于通知开启该气路后阀的模块;
用于设定该气路质量流量控制器流量的模块;
以及用于通知开启该气路前阀的模块;
开启气路操作实际动作执行顺序是:后阀和前阀先开,质量流量控制器后调整到设定流量;
气路关闭控制单元,包括:当执行关闭气路操作时,
用于延时预置的第一时间后通知关闭后阀的模块,所述第一时间与后阀内部延时时间之和小于质量流量控制器的内部延时时间;
用于设定该气路质量流量控制器的流量为0的模块;
用于延时预置第二时间后通知关闭前阀的模块,所述第二时间与前阀内部延时时间之和大于质量流量控制器的内部延时时间;
关闭气路操作时,通过预置的第一时间和第二时间的延时,保证先关闭后阀,然后质量流量控制器流量调整到0,关闭前阀。
优选的,所述气路开启控制单元还可以包括:主管路控制阀开启模块,用于判断主管路控制阀是否已打开,如果否,则通知开启主管路控制阀。
优选的,所述气路关闭控制单元还包括主管路控制阀关闭模块,包括:
记录子模块,用于记录各个气路的开关状态;
状态设定子模块,用于设定该待关闭气路的开关状态为关;
判断了模块,用于判断当前的所有气路是否全部为关闭状态,如果是,则通知关闭主管路控制阀。
依据本发明的另一优选实施例,还公开了一种气路控制装置,包括:
信息获取单元,用于获取待控制气路的上一次流量设定值以及本次流量设定值;
比较判断单元,用于比较上一次流量设定值与本次流量设定值;如果差值的绝对值小于或者等于一定阈值,则不予进行流量控制操作;如果差值的绝对值大于一定阈值,则选择触发执行下述一单元:
气路开启控制单元,包括:当执行开启气路操作时,用于通知开启该气路后阀的模块;用于设定该气路质量流量控制器流量的模块;用于通知开启该气路前阀的模块;开启气路操作实际动作执行顺序是:后阀和前阀先开,质量流量控制器后调整到设定流量;
气路关闭控制单元,包括:当执行关闭气路操作时,用于延时预置的第一时间后通知关闭后阀的模块,所述第一时间与后阀内部延时时间之和小于质量流量控制器的内部延时时间;用于设定该气路质量流量控制器的流量为0的模块;用于延时预置第二时间后通知关闭前阀的模块,所述第二时间与前阀内部延时时间之和大于质量流量控制器的内部延时时间;关闭气路操作时,通过预置的第一时间和第二时间的延时,保证先关闭后阀,然后质量流量控制器流量调整到0,关闭前阀;
质量流量控制器控制单元,用于设定质量流量控制器的流量,通知质量流量控制器在上一次流量设定值的基础上进行流量调节。
与现有技术相比,本发明具有以下优点:
本发明采用了软件控制的解决方案,不需要改进现有的硬件设备或者增加新的特殊硬件,通过对开气和关气过程的不同控制,可以实现在半导体设备气体流量的快速稳定气体输出和关闭,消除了质量流量控制器的内部延时调整造成的影响,有效的减弱通气不稳的首片效应,达到了较好的控制效果。
本发明改进了现有的通气流程和关气流程,并且二者相互作用导致的有效结果就是使在各种情况下,MFC前后气体压力一致,有效的避免了存在压力差的条件时的MFC(气体质量流量控制器)的输出震荡问题。
进一步,本发明通过比较本次流量设定值与上次流量设定值,进而确定相应的流量控制方案,可以减少硬件操作时间,从而减弱气体流量变化时的调节时间,进一步提高工艺效率。
附图说明
图1是一种常用的气路控制系统示意图;
图2是本发明一种开启和关闭气路的控制方法实施例的步骤流程图;
图3是本发明一种气路控制方法的实施例的步骤流程图;
图4和图5是本发明一种气路控制方法的具体例子的详细流程图;
图6是本发明一种开启和关闭气路的控制装置实施例的结构框图;
图7是本发明一种气路控制装置的实施例的结构框图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
本发明可用于众多通用或专用的计算系统环境或配置中。例如:个人计算机、服务器计算机、手持设备或便携式设备、平板型设备、多处理器系统、基于微处理器的系统、置顶盒、可编程的消费电子设备、网络PC、小型计算机、大型计算机、包括以上任何系统或设备的分布式计算环境等等。
本发明可以在由计算机执行的计算机可执行指令的一般上下文中描述,例如程序模块。一般地,程序模块包括执行特定任务或实现特定抽象数据类型的例程、程序、对象、组件、数据结构等等。也可以在分布式计算环境中实践本发明,在这些分布式计算环境中,由通过通信网络而被连接的远程处理设备来执行任务。在分布式计算环境中,程序模块可以位于包括存储设备在内的本地和远程计算机存储介质中。
参照图1,示出了一种常用的气路控制系统示意图,图中的工业控制计算机101控制工业生产线103,涉及到N条气路的控制,所述N条气路(Gas1、Gas2,...,GasN)通过一个主管路控制阀Vc与反应腔102相连。每条气路上包括依次相连的前阀(V10、V20、VN0)、质量流量控制器MFC、后阀(V11、V21、VN1),然后连接到主管路控制阀Vc。
其中,质量流量控制器MFC可广泛地应用于石油化工、半导体和集成电路、特种材料学科、医药、环保和真空等多种领域的科学研究和生产中,其典型应用有:电子工艺设备,如氧化、CVD、扩散、外延、等离子蚀刻、离子注入和溅射,以及微反应装置、配气和混气系统、镀膜设备、光纤熔炼、气相色谱仪以及其它分析仪器。相应的,本发明也可以应用在上述的各个领域中。
参照图2,示出了本发明一种开启和关闭气路的控制方法实施例,应用在图1所示的控制系统中,该实施例具体可以包括以下步骤:
当执行开启气路操作时,针对该气路的前阀、后阀以及质量流量控制器执行以下操作:
步骤201、通知开启后阀VN1;
步骤202、设定质量流量控制器MFC的流量;
步骤203、通知开启前阀VN0;
当执行关闭气路操作时,针对该气路的前阀、后阀以及质量流量控制器执行以下操作:
步骤204、延时预置的第一时间后通知关闭后阀VN1,所述第一时间与后阀内部延时时间之和小于质量流量控制器的内部延时时间;
步骤205、设定质量流量控制器MFC的流量为0;
步骤206、延时预置第二时间后通知关闭前阀VN0,所述第二时间与前阀内部延时时间之和大于质量流量控制器的内部延时时间。
在图2所示的实施例中,针对开启气路和关闭气路采用了不同的阀门控制流程,二者的相互配合作用,有效的降低了MFC前后的压力差,避免了存在压力差的条件时的MFC的输出震荡问题。
在关闭气路时,通过预置的第一时间和第二时间的延时,可以保证先关闭后阀VN1,然后将MFC的流量调整到0,最后关闭前阀VN0;并且基本可以保证三个动作执行的时间比较接近,以方便控制和记录动作的具体执行时间。正是由于这样的关闭顺序,可以使MFC在本气路关闭后,其两侧的压力与管路压力(或者说气源压力)基本一致。因为MFC在进行流量调整到0的过程中气体仍可以通过MFC,在此期间维持了MFC前后的压力基本一致。但是当完全关闭后,气源的压力小范围的变化不能作用在MFC的两侧,所以说是和气源的压力基本一致。
在上述关闭气路的基础上,当开启气路时,依次完成步骤201、202、203,但是由于MFC存在内部动作执行的延时,所以实际动作执行的顺序应该是后阀VN1和前阀VN0先开,而MFC是后调整到设定流量的,这样的开启顺序就可以保证在MFC进行流量的调整时,后阀VN1一侧的压力接近于反应腔体的压力,而前阀VN0一侧的压力接近于气源压力,压力差较小;并且此时对于MFC的流量调整是从前述关闭气路时压力差较小的基础上进行的,所以二者配合作用,可以很好的避免存在压力差的条件时的MFC的输出震荡问题。
上述实施例中的第一时间和第二时间是可以依据实际情况通过用户界面等进行调整的,因为实际中各个MFC的内部延时是不同的,本发明并不需要对第一时间和第二时间的具体设定加以限制。
图2所示的控制方法可以通过图1所示系统架构中的工业控制计算机来完成,从而可以实现在不改进现有硬件的前提下,可以快速稳定的输出所需的气体流量,消除MFC的内部延时所造成的影响,有效减弱通气不稳的首片效应,达到了很好的控制效果。
进一步,为了兼顾到气路中涉及的主管路控制阀Vc,在本发明的另一优选实施例中,当执行开启气路操作时,还可以:判断主管路控制阀是否已打开,如果否,则通知开启主管路控制阀。
具体的,本领域技术人员可以采用各种方式获知主管路控制阀是否已打开,下面简单介绍两个方案。
方案1
采集当前气路所涉及的主管路控制阀是否处于开启状态,从而获知。
方案2
查询之前的控制指令记录,最近的指令是否为:通知开启主管路控制阀,如果是,则说明当前主管路控制阀处理开启状态。
方案3
记录各个气路的开关状态;
接收打开一气路的控制信息,设定该气路的开关状态为开;
判断当前所有气路中,是否只有一条气路状态为开启状态,如果是,则通知开启主管路控制阀。
上述方案1和2的原理比较简单,在此不再赘述;方案3的原理,即通过判定当前开启的气路是否是第一条开启的气路,如果是第一条,则可以确定之前的主管路控制阀没有开启,故通知开启即可。并且,本方案可以直接依据工业控制计算机中存储的信息即可判断获知是否需要开启主管路控制阀,非常简单易行。
相应的,当执行关闭气路操作时,本发明的优选实施例还可以包括以下步骤:
记录各个气路的开关状态;
接收关闭一气路的控制信息,设定该待关闭气路的开关状态为关;
判断当前的所有气路是否全部为关闭状态,如果是,则通知关闭主管路控制阀。
上述优选步骤一般可以设置在关闭前后阀和MFC之前,即可以保证在关闭最后一路气路时,先关闭主管路控制阀,再关闭前后阀和MFC,尽量保证MFC两侧的压力尽量接近气源压力。
在本发明的另一优选实施例中,当执行关闭气路操作时,还包括:启动后阀的关闭线程,所述后阀关闭线程用于延时预置第一时间后通知关闭后阀;启动前阀的关闭线程,所述前阀关闭线程用于延时预置第二时间后通知关闭前阀。
即上述优选步骤,通过并行线程的方式实现了对前后阀以及MFC关闭顺序控制。当然,也可以通过其他方式实现,例如,单线程设置两个触发时间点,到了第一时间触发点,则通知关闭后阀,继续运行,到了第二时间触发点,则通知关闭前阀。
参照图3,示出了一种气路控制方法的实施例,具体可以包括以下步骤:
步骤301、获取待控制气路的上一次流量设定值以及本次流量设定值;
步骤302、比较上一次流量设定值与本次流量设定值;如果差值的绝对值小于或者等于一定阈值,则不予进行流量控制操作;如果差值的绝对值大于一定阈值,则选择执行下述步骤303、304、305中的一操作:
步骤303、如果需要执行开启气路操作,则针对该气路的前阀、后阀以及质量流量控制器执行以下操作:通知开启后阀;设定质量流量控制器的流量;通知开启前阀;
步骤304、如果需要执行关闭气路操作,则针对该气路的前阀、后阀以及质量流量控制器执行以下操作:设定质量流量控制器的流量为0;延时预置的第一时间后通知关闭后阀,所述第一时间与后阀内部延时时间之和小于质量流量控制器的内部延时时间;延时预置第二时间后通知关闭前阀,所述第二时间与前阀内部延时时间之和大于质量流量控制器的内部延时时间;
步骤305、当不需要执行开启和关闭气路操作时,或者说需要执行一般的流量调节时,设定质量流量控制器的流量,通知质量流量控制器在上一次流量设定值的基础上进行流量调节。例如,如果上次流量设定大于本次流量设定,则在原来设定的基础上进行流量的减少;如果上次流量设定小于本次流量设定,则在原来设定的基础上进行流量的增加。
本实施例与图2所示实施例的区别在于,本发明进一步增加了:当流量设定值的变化小于一定阈值的时候,通过过滤步骤302避免在这种情况下的硬件操作,从而可以减少对实际气体的流量影响不大的无效的硬件操作,提高效率,减少气体流量变化的调剂时间。另外,本实施例从整体上构成一个完整的气路控制过程,包括了气路开启、一般调节以及气路关闭,上述各个改进点协同作用,达到了更好的技术效果。
步骤301中,所述的获取上一次流量设定值的方式多种多样,本发明对具体获取方式并不需要加以限定。例如,记录每次发出的流量设定的控制指令,即可知悉上一次流量设定值(具体存储方式可以采用直接覆盖,也可以采用依时间顺序记录);或者,也可以通过采集MFC状态信息的方式获悉当前流量值(即上一次流量设定值)。
步骤302中,可以依据本次流量设定值选择执行步骤303、304、305中的任一操作。例如,当本次流量设定值小于一设定值(0.01)时,则说明需要执行气路关闭操作步骤304;当本次流量设定值大于一设定值(0.01)时,同时进一步判断待控制气路的当前状态,如果已经为开启状态,则执行一般调节步骤305,如果为关闭状态,则执行开启步骤303;而步骤305则适用于除了执行步骤303和304之前的其他情况。
当然,本发明并不需要限定执行步骤303、304、305的具体选择方式,本领域技术人员根据实际情况可以自行设定。例如,对于执行步骤303,还可以通过以下两个方式完成:
方式1
比较上一次流量设定值和本次流量设定值,如果上一次流量设定值小于一设定值,而本次流量设定值大于一设定值,并且二者的差值符合步骤302的要求,则执行步骤303。
方式2
查询针对该条气路的控制指令记录信息,如果距离当前时间最近的控制指令就是关闭气路,而本次流量设定值大于一设定值,则执行步骤303。
与图2所示的实施例相似,为了兼顾到气路中涉及的主管路控制阀Vc,本实施例优选的,当执行开启气路操作时,也还可以包括以下步骤:判断主管路控制阀是否已打开,如果否,则通知开启主管路控制阀。
相应的,当执行关闭气路操作时,本实施例优选的,还包括:记录各个气路的开关状态;设定该待关闭气路的开关状态为关;判断当前的所有气路是否全部为关闭状态,如果是,则通知关闭主管路控制阀。
当执行关闭气路操作时,可以通过并行运行后阀的关闭线程和前阀的关闭线程的方式实现延时的控制。所述后阀关闭线程用于延时预置第一时间后通知关闭后阀;所述前阀关闭线程用于延时预置第二时间后通知关闭前阀。
参见图4和图5,示出了一个更具体的例子,图5所示的步骤是图4所示的步骤404的细化步骤,详细描述如下:
步骤401、获得gas1上次的气体设定流量FSp1Gas1;
步骤402、获得gas1本次的气体设定流量FSp2Gas1;
步骤403、比较FSp1Gas1和FSp2Gas1的大小。如果FSp1Gas1和FSp2Gas1差值的绝对值小于等于0.01:不予进行任何硬件操作,本次通气过程结束。
步骤404、如果FSp1Gas1和FSp2Gas1差值的绝对值大于0.01:在原来设定的FSp1Gas1基础上进行流量进一步的调整控制。
步骤404、又可以进一步细化为:
步骤501、将FSp2Gas1赋值给临时变量Flow。
步骤502、判断Flow值的数据范围是否小于0.01。选择执行步骤503和步骤504;
步骤503:小于等于0.01,进行关气操作;
步骤504:大于0.01,进行通气操作。
其中,步骤503进一步包括:
(1)、判断上次气路的开关状态Flag上次气体为开状态True,则计数器numberFlag减1;
(2)、开关状态Flag设定为关False;
(3)、判断所有的气路是否全部关闭(number Flag==0),如果全部关闭则关闭阀Vc(主管路控制阀),此时Vc阀前面的气体压力尽可能和气源压力平衡一致。如果不是全部关闭,则不予进行任何Vc阀的动作,此时其他通路气体压力不受本路气体关闭的影响,气体压力维持稳定状态;
(4)、启动Vn1阀门的关闭线程;并行进行延时操作,等待Tvn1时间后,关闭Vn1;
(5)、设定MFC的气体流量为0;MFC内部开始延时等待命令处理直至设置0命令执行(注意:不是进行MFC的关闭命令,否则MFC下次设定流量时会有较大的气体流量波动);
(6)、启动Vn0阀门的关闭线程;并行进行延时操作,等待Tvn0时间后,关闭Vn0;所述的Tvn1和Tvn0时间参数可以通过界面设定;
(7)、结束。
其中,步骤504进一步包括:
(1)、判断上次气路的开关状态Flag上次气体为关状态False,则计数器numberFlag加1;
(2)、开关状态Flag设定为开True;
(3)、判断其他气路的当前状态是否全部为关闭状态(注:即判断所有气路中首次有一路气体要打开)(numberFlag==1),如果是,则进行Vc阀的打开动作,否则不予进行Vc阀动作。(保持其他气路的通气稳定性);
(4)、打开Vn1阀;
(5)、设定MFC的气体流量;
(6)、打开Vn0阀;
(7)、结束。
参照图6,示出了一种开启和关闭气路的控制装置实施例,本实施例可以位于图1所示的工业控制计算机中,或者属于工业控制系统的一部分,该装置实施例600可以包括以下模块:
气路开启控制单元601,包括:当执行开启气路操作时,用于通知开启该气路后阀的后阀开启模块6011,用于设定该气路质量流量控制器流量的MFC开启模块6012,用于通知开启该气路前阀的前阀开启模块6013;
气路关闭控制单元602,包括:当执行关闭气路操作时,用于延时预置的第一时间后通知关闭后阀的后阀关闭模块6021,所述第一时间与后阀内部延时时间之和小于质量流量控制器的内部延时时间;用于设定该气路质量流量控制器的流量为0的MFC关闭模块6022;用于延时预置第二时间后通知关闭前阀的前阀关闭模块6023,所述第二时间与前阀内部延时时间之和大于质量流量控制器的内部延时时间。
优选的,所述气路开启控制单元601还可以包括:主管路控制阀开启模块6014,用于判断主管路控制阀是否已打开,如果否,则通知开启主管路控制阀。
优选的,所述气路关闭控制单元602还可以包括:主管路控制阀关闭模块6024,包括:
记录子模块,用于记录各个气路的开关状态;
状态设定子模块,用于设定该待关闭气路的开关状态为关;
判断子模块,用于判断当前的所有气路是否全部为关闭状态,如果是,则通知关闭主管路控制阀。
本实施例基本按照与前述的数据处理流程相一致的方式描述的,所以本实施例中的各个组成部分可以理解为实现前述气路控制流程的相应的功能模块。
参见图7,示出了一种气路控制装置的实施例,具体可以包括以下部件:
信息获取单元701,用于获取待控制气路的上一次流量设定值以及本次流量设定值;
比较判断单元702,用于比较上一次流量设定值与本次流量设定值;如果差值的绝对值小于或者等于一定阈值,则不予进行流量控制操作;如果差值的绝对值大于一定阈值,则依据本次流量设定值选择触发执行下述一单元:
气路开启控制单元703,包括:当执行开启气路操作时,用于通知开启该气路后阀的模块,用于设定该气路质量流量控制器流量的模块,用于通知开启该气路前阀的模块;
气路关闭控制单元704,包括:当执行关闭气路操作时,用于设定该气路质量流量控制器的流量为0的模块;用于延时预置的第一时间后通知关闭后阀的模块,所述第一时间与后阀内部延时时间之和小于质量流量控制器的内部延时时间;用于延时预置第二时间后通知关闭前阀的模块,所述第二时间与前阀内部延时时间之和大于质量流量控制器的内部延时时间;
质量流量控制器控制单元705,用于设定质量流量控制器的流量,通知质量流量控制器在上一次流量设定值的基础上进行流量调节。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。对于装置实施例而言,由于其与方法实施例的技术方案基本相似,所以描述的比较简单,相关之处参见方法实施例的部分说明即可。
以上对本发明所提供的一种开启和关闭气路的控制方法和装置,以及一种气路控制方法和装置,进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (12)

1.一种开启和关闭气路的控制方法,其特征在于,包括:
当执行开启气路操作时,针对该气路的前阀、后阀以及质量流量控制器执行以下操作:
步骤A1:通知开启后阀;
步骤A2:设定质量流量控制器的流量;
步骤A3:通知开启前阀;
开启气路操作实际动作执行顺序是:后阀和前阀先开,质量流量控制器后调整到设定流量;
当执行关闭气路操作时,针对该气路的前阀、后阀以及质量流量控制器执行以下操作:
步骤B1:延时预置的第一时间后通知关闭后阀,所述第一时间与后阀内部延时时间之和小于质量流量控制器的内部延时时间;
步骤B2:设定质量流量控制器的流量为0;
步骤B3:延时预置第二时间后通知关闭前阀,所述第二时间与前阀内部延时时间之和大于质量流量控制器的内部延时时间;
关闭气路操作时,通过预置的第一时间和第二时间的延时,保证先关闭后阀,然后质量流量控制器流量调整到0,关闭前阀。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,当执行开启气路操作时,还包括:
判断主管路控制阀是否已打开,如果否,则通知开启主管路控制阀。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,当执行关闭气路操作时,还包括:
记录各个气路的开关状态;
设定该待关闭气路的开关状态为关;
判断当前的所有气路是否全部为关闭状态,如果是,则通知关闭主管路控制阀。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,当执行关闭气路操作时,还包括:
启动后阀的关闭线程,所述后阀关闭线程用于延时预置第一时间后通知关闭后阀;
启动前阀的关闭线程,所述前阀关闭线程用于延时预置第二时间后通知关闭前阀。
5.一种气路控制方法,其特征在于,包括:
获取待控制气路的上一次流量设定值以及本次流量设定值;
比较上一次流量设定值与本次流量设定值;如果差值的绝对值小于或者等于一定阈值,则不予进行流量控制操作;如果差值的绝对值大于一定阈值,则选择执行下述一操作:
A、如果需要执行开启气路操作,则针对该气路的前阀、后阀以及质量流量控制器执行以下操作:
步骤A1:通知开启后阀;
步骤A2:设定质量流量控制器的流量;
步骤A3:通知开启前阀;
开启气路操作实际动作执行顺序是:后阀和前阀先开,质量流量控制器后调整到设定流量;
B、如果需要执行关闭气路操作,则针对该气路的前阀、后阀以及质量流量控制器执行以下操作:
步骤B1:延时预置的第一时间后通知关闭后阀,所述第一时间与后阀内部延时时间之和小于质量流量控制器的内部延时时间;
步骤B2:设定质量流量控制器的流量为0;
步骤B3:延时预置第二时间后通知关闭前阀,所述第二时间与前阀内部延时时间之和大于质量流量控制器的内部延时时间;
关闭气路操作时,通过预置的第一时间和第二时间的延时,保证先关闭后阀,然后质量流量控制器流量调整到0,关闭前阀;
C、否则,设定质量流量控制器的流量,通知质量流量控制器在上一次流量设定值的基础上进行流量调节。
6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,当执行开启气路操作时,还包括:
判断主管路控制阀是否已打开,如果否,则通知开启主管路控制阀。
7.如权利要求5所述的方法,其特征在于,当执行关闭气路操作时,还包括:
记录各个气路的开关状态;
设定该待关闭气路的开关状态为关;
判断当前的所有气路是否全部为关闭状态,如果是,则通知关闭主管路控制阀。
8.如权利要求5所述的方法,其特征在于,当执行关闭气路操作时,还包括:
启动后阀的关闭线程,所述后阀关闭线程用于延时预置第一时间后通知关闭后阀;
启动前阀的关闭线程,所述前阀关闭线程用于延时预置第二时间后通知关闭前阀。
9.一种开启和关闭气路的控制装置,其特征在于,包括:
气路开启控制单元,包括:当执行开启气路操作时,
用于通知开启该气路后阀的模块;
用于设定该气路质量流量控制器流量的模块;
以及用于通知开启该气路前阀的模块;
开启气路操作实际动作执行顺序是:后阀和前阀先开,质量流量控制器后调整到设定流量;
气路关闭控制单元,包括:当执行关闭气路操作时,
用于延时预置的第一时间后通知关闭后阀的模块,所述第一时间与后阀内部延时时间之和小于质量流量控制器的内部延时时间;
用于设定该气路质量流量控制器的流量为0的模块;
用于延时预置第二时间后通知关闭前阀的模块,所述第二时间与前阀内部延时时间之和大于质量流量控制器的内部延时时间;
关闭气路操作时,通过预置的第一时间和第二时间的延时,保证先关闭后阀,然后质量流量控制器流量调整到0,关闭前阀。
10.如权利要求9所述的装置,其特征在于,所述气路开启控制单元还包括:
主管路控制阀开启模块,用于判断主管路控制阀是否已打开,如果否,则通知开启主管路控制阀。
11.如权利要求9所述的装置,其特征在于,所述气路关闭控制单元还包括主管路控制阀关闭模块,包括:
记录子模块,用于记录各个气路的开关状态;
状态设定子模块,用于设定该待关闭气路的开关状态为关;
判断子模块,用于判断当前的所有气路是否全部为关闭状态,如果是,则通知关闭主管路控制阀。
12.一种气路控制装置,其特征在于,包括:
信息获取单元,用于获取待控制气路的上一次流量设定值以及本次流量设定值;
比较判断单元,用于比较上一次流量设定值与本次流量设定值;如果差值的绝对值小于或者等于一定阈值,则不予进行流量控制操作;如果差值的绝对值大于一定阈值,则选择触发执行下述一单元:
气路开启控制单元,包括:当执行开启气路操作时,用于通知开启该气路后阀的模块;用于设定该气路质量流量控制器流量的模块;用于通知开启该气路前阀的模块;开启气路操作实际动作执行顺序是:后阀和前阀先开,质量流量控制器后调整到设定流量;
气路关闭控制单元,包括:当执行关闭气路操作时,用于延时预置的第一时间后通知关闭后阀的模块,所述第一时间与后阀内部延时时间之和小于质量流量控制器的内部延时时间;用于设定该气路质量流量控制器的流量为0的模块;用于延时预置第二时间后通知关闭前阀的模块,所述第二时间与前阀内部延时时间之和大于质量流量控制器的内部延时时间;关闭气路操作时,通过预置的第一时间和第二时间的延时,保证先关闭后阀,然后质量流量控制器流量调整到0,关闭前阀;
质量流量控制器控制单元,用于设定质量流量控制器的流量,通知质量流量控制器在上一次流量设定值的基础上进行流量调节。
CN2007101765528A 2007-10-30 2007-10-30 一种气路控制方法和装置 Active CN101424947B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2007101765528A CN101424947B (zh) 2007-10-30 2007-10-30 一种气路控制方法和装置
FR0857339A FR2923025B1 (fr) 2007-10-30 2008-10-28 Systeme d'examen, procede d'examen, appareil dtm et dispositif de detection

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2007101765528A CN101424947B (zh) 2007-10-30 2007-10-30 一种气路控制方法和装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101424947A CN101424947A (zh) 2009-05-06
CN101424947B true CN101424947B (zh) 2010-08-11

Family

ID=40527628

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2007101765528A Active CN101424947B (zh) 2007-10-30 2007-10-30 一种气路控制方法和装置

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN101424947B (zh)
FR (1) FR2923025B1 (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101718763B (zh) * 2009-12-15 2012-06-06 中国石油集团川庆钻探工程有限公司长庆录井公司 色谱样品气路控制系统
JP5558871B2 (ja) * 2010-03-15 2014-07-23 株式会社ダイヘン アーク溶接装置
CN104216423B (zh) * 2013-05-31 2018-01-09 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体设备制造中控制气体输入的方法及系统
CN108278492B (zh) * 2018-01-22 2021-01-08 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 一种保持工艺制程切换过程压力稳定的方法及装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2217788Y (zh) * 1994-12-01 1996-01-17 电力工业部西安热工研究所 气粉两相流体参数测量自动吹扫装置
US5862795A (en) * 1996-01-23 1999-01-26 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Evaporative control system for a multicylinder internal combustion engine

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2217788Y (zh) * 1994-12-01 1996-01-17 电力工业部西安热工研究所 气粉两相流体参数测量自动吹扫装置
US5862795A (en) * 1996-01-23 1999-01-26 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Evaporative control system for a multicylinder internal combustion engine

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP特开平11-45123A 1999.02.16
邵荣士.某机高度稳定系统的高空振荡及气路延时的补偿.航空学报22 5.2001,22(5),396-399.
邵荣士.某机高度稳定系统的高空振荡及气路延时的补偿.航空学报22 5.2001,22(5),396-399. *

Also Published As

Publication number Publication date
FR2923025B1 (fr) 2012-03-30
CN101424947A (zh) 2009-05-06
FR2923025A1 (fr) 2009-05-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101424947B (zh) 一种气路控制方法和装置
EP1306737B1 (en) Method and apparatus for pressure control in vacuum processors
US7581120B1 (en) System and method for providing multi-point calibration of an adaptive voltage scaling system
JP6360480B2 (ja) ガス流を制御する方法、流量比率コントローラアセンブリ、及びガス供給システム
CN103439880B (zh) 基于mcp标准传递函数的pid参数整定方法
Magni et al. Multivariable nonlinear predictive control of cement mills
US20120323350A1 (en) Support system for setting equipment parameters
CN103049065A (zh) 用于处理核的电源供应门控布置
CN1657957A (zh) 一种石英晶体振荡器的测试调整装置及方法
CN104142376A (zh) 气相色谱仪的气路系统控制方法
CN105340058A (zh) 用于控制使用前馈调整的流量比控制器的方法及系统
CN105453217A (zh) 用于控制使用反馈的流量速率控制器的方法和系統
CN106702335A (zh) 下电极及半导体加工设备
CN104730925A (zh) 一种输入限幅pi控制方法
US20090132062A1 (en) Apparatus and methods for precompiling program sequences for wafer processing
CN109389896B (zh) 一种面向虚拟对象阀位(vpc)控制系统实验装置
CN201194219Y (zh) 半导体器件制作设备以及系统
Rauf et al. Controller design issues in the feedback control of radio frequency plasma processing reactors
CN114153148A (zh) 一种变学习步长的梯度迭代前馈整定方法
CN102677024A (zh) 腔体压力调节方法及腔体压力调节装置
Gao et al. Exponential tracking control of MIMO nonlinear systems with actuator failures and nonparametric uncertainties
Ji et al. Disturbance attenuation of uncertain switched linear systems
Bartolini et al. On the finite-time stabilization of uncertain nonlinear systems with relative degree three
CN213026047U (zh) 一种气体分配系统及半导体处理装置
CN103757609A (zh) 一种基于串级控制的微环境压力调度方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP03 Change of name, title or address
CP03 Change of name, title or address

Address after: 100176 8 Wenchang Avenue, Beijing economic and Technological Development Zone, Beijing

Patentee after: Beijing North China microelectronics equipment Co Ltd

Address before: 100016 2 floor, block M5, Jiuxianqiao East Road, Chaoyang District, Beijing.

Patentee before: Beifang Microelectronic Base Equipment Proces Research Center Co., Ltd., Beijing