CN101295047A

CN101295047A - 光学膜

Info

Publication number: CN101295047A
Application number: CNA2008101275792A
Authority: CN
Inventors: 吴定原; 石一中
Original assignee: Eternal Chemical Co Ltd
Current assignee: Eternal Materials Co Ltd
Priority date: 2008-06-27
Filing date: 2008-06-27
Publication date: 2008-10-29

Abstract

本发明公开一种光学膜，包含一基材及位于该基材表面上之微结构层，其中该微结构层包含复数个柱状结构且该柱状结构包含至少二种选自由峰高度沿延伸方向变化之线性柱状结构、峰高度不沿延伸方向变化之线性柱状结构、峰高度沿延伸方向变化之曲线柱状结构及峰高度不沿延伸方向变化之曲线柱状结构所组成之群组之柱状结构。本发明之光学膜具有聚光效果，并可有效减少光学干涉现象。

Description

光学膜

技术领域

本发明涉于一种光学膜，尤指一种应用于液晶显示器之聚光膜。

背景技术

液晶面板本身并不发光，因此作为亮度来源之背光模块为LCD显示功能的重要组件，且对提高液晶显示器亮度而言非常重要。目前，在背光模块中利用各式各样之光学膜，提供一种能提高LCD面板亮度以使光源做最有效率之应用，而不需更动任何组件设计或消耗额外能源的做法，已成为最经济与简便的解决方案。图1为背光模块所含各种光学膜之简单示意图。如图1所示，一般背光模块所含光学膜系包含配置于导光板(light guide)(2)下方之反射膜(1)；及配置于导光板(2)上方之其它光学膜，其由下至上依序为：扩散膜(3)、聚光膜(4)及(5)及保护性扩散膜(6)。

扩散膜主要功能为提供液晶显示器均匀之面光源。聚光膜业界习称为聚光膜(Brightness Enhancement Film)或棱镜片(prism film)，聚光膜主要功能为藉由折射与内部全反射将散乱的光线收集，并集中至约±35度的正视角(On-axis)方向，以提高LCD的辉度。一般常用之聚光膜系利用规则排列之线性棱镜柱状结构来达到聚光效果。

习知聚光膜如图2所示(如PCT公开案WO96/23649及美国专利第5,626,800号)，其包含一基材(21)及位于基材(21)上方之复数个棱镜结构(22)，该等棱镜结构彼此互相平行，其中各棱镜结构系由二个倾斜表面所构成，此二倾斜表面于棱镜顶部相交形成峰(23)，且各自与相邻棱镜之另一倾斜表面于棱镜底部相交形成谷(24)。由于习知聚光膜为固定宽度之规则条状结构，所以容易与来自显示器中其它膜片之反射或折射光线或该聚光膜本身之其它反射或折射光线产生光学干涉现象，导致在外观上出现彩纹(moiré)或明暗条纹(mura)。图3为美国专利第6,354,709号之聚光膜之示意图，其中基材(7)上方具有复数个微细棱镜结构(8)，这些线性棱镜结构彼此互相平行，且单一棱镜结构于不同之长度位置具有不同之峰高。然而，习知之聚光膜纵使在峰距或峰高上做了改变，仍具有规则之聚光结构，即，各棱镜间系互相平行(峰与峰之间或谷与谷之间互相平行)，且为规则性直线棱柱结构，因此无法有效改善明暗条纹现象。美国专利第5,919,551号使用具有二个或二个以上顶峰的柱状结构，该顶峰呈高低不一状态，这种线性棱镜结构为单一棱镜结构上至少有两顶峰，此方法之缺点为雕刻不易同时控制双峰，所以良率不高，成本增加。

已知可于聚光膜上配置保护性扩散膜(或称为上扩散膜)，以改善上述光学干涉现象，且防止聚光膜与面板或其它膜片在输送时产生振动而引起互相损伤。惟此方法之缺点为成本增加，且将使背光模块之结构变得复杂。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种光学膜以改良上述缺点，其可减少光学干涉现象。

本发明之目的乃提供一种光学膜，包含一基材及位于该基材之一表面上之微结构层，其中该微结构层包含复数个柱状结构且该柱状结构包含至少二种选自由峰高度沿延伸方向变化之线性柱状结构、峰高度不沿延伸方向变化之线性柱状结构、峰高度沿延伸方向变化之曲线柱状结构及峰高度不沿延伸方向变化之曲线柱状结构所组成之群组之柱状结构。

附图说明

图1为背光模块所含各种光学膜之简单示意图。

图2为习知聚光膜之示意图。

图3为先前技术中聚光膜之示意图。

图4至图15系本发明之光学膜实施态样之示意图。

具体实施方式

在本文中，「多峰柱状结构」系指由至少两个柱状结构彼此重叠所形成之联集结构，且任何两相邻柱状结构间之谷线之高度系为此二相邻柱状结构中高度较低者之高度之30％至95％。

在本文中，「单峰棱镜柱状结构」系指由单一个棱镜柱状结构所构成且仅具有单一之峰之结构，

在本文中，「谷线」系指由相邻两柱状结构之相邻侧面相接所形成之线。

在本文中，「柱状结构之高度」系指为该柱状结构之峰相对该柱状结构底部之垂直距离。

在本文中，「谷线之高度」系指该谷线相对其所相邻之两柱状结构底部之垂直距离。

在本文中，「柱状结构之宽度」系指与该柱状结构两侧面相邻之两谷间之距离。

本发明所使用之棱镜柱状结构系为本发明所属技术领域中具有通常知识者所熟知者，其系由两个倾斜表面所构成，该倾斜表面可为曲面或平面，且该二倾斜表面于棱镜顶部相交形成峰，且可各自与相邻柱状结构之另一倾斜表面于底部相交形成谷。

本发明所使用之弧形柱状结构系为本发明所属技术领域中具有通常知识者所熟知者，其系由两个倾斜平面所构成，此二倾斜平面顶部相交处系钝化形成一曲面，且此二倾斜平面可各自与相邻柱状结构之另一倾斜表面于底部相交形成谷。

在本文中，「弧形柱状结构顶部曲面之最高处」系定义为该弧形柱状结构之峰，弧形柱状结构之高度系指弧形柱状结构之峰相对其底部之垂直距离。

在本文中，「弧形柱状结构二倾斜平面延伸相交之角度」系定义为该弧形柱状结构之顶角角度。

在本文中，「线性柱状结构」系定义为柱状结构的棱线(ridge)呈直线延伸之柱状结构。

在本文中，「曲线柱状结构」系定义为柱状结构的棱线呈弯曲变化延伸之柱状结构，该弯曲延伸棱线系形成适当的表面曲率变化，该弯曲延伸棱线之表面曲率变化系以该曲线柱状结构高度为基准之0.2％至100％，较佳系以该曲线柱状结构高度为基准之1％至20％。

本发明光学膜所使用之基材，可为任何本发明所属技术领域具有通常知识者所已知者，例如玻璃或塑料。上述塑料基材可由一或多个高分子树脂层所构成。用以构成上述高分子树脂层之树脂之种类并无特殊限制，其例如但不限于聚酯树脂(polyester resin)，如聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，PET)或聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene naphthalate，PEN)；聚丙烯酸酯树脂(polyacrylate resin)，如聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate，PMMA)；聚烯烃树脂(polyolefin resin)，如聚乙烯(PE)或聚丙烯(PP)；聚苯乙烯树脂(polystyrene resin)；聚环烯烃树脂(polycycloolefin resin)；聚醯亚胺树脂(polyimide resin)；聚碳酸酯树脂(polycarbonate resin)；聚胺基甲酸酯树脂(polyurethane resin)；三醋酸纤维素(triacetate cellulose，TAC)；聚乳酸(polylactic acid)；或彼等之混合物。较佳为聚对苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚环烯烃树脂、三醋酸纤维素、聚乳酸或其混合物，更佳为聚对苯二甲酸乙二酯。基材之厚度通常取决于所欲得光学产品的需求，其较佳介于约50微米至约300微米之间。

本发明光学膜之微结构层系用以提供光学膜所欲之光学性质。本发明之微结构层可与基材一起以一体成形方式制备，例如以压印(emboss)方式直接制得；或以任何习知方式于基材上进行加工后制得，例如：以涂布方式于基材上直接形成一微结构层，或于基材上先涂布一树脂涂层再于该涂层上雕刻所需之微结构层。上述微结构层之厚度并无特殊限制，通常系介于约1微米至约50微米之厚度，较佳为5微米至30微米，最佳为15微米至25微米。

本发明光学膜之微结构层可由任何折射率大于空气折射率之树脂所构成。一般而言，微结构层的折射率越高，聚光效果越好。本发明光学膜具有至少1.50之折射率，较佳具有1.50至1.70之折射率。用以形成该微结构层之树脂为本发明所属技术领域中具有通常知识者所熟知者，其例如但不限于丙烯酸酯树脂、聚醯胺树脂、环氧树脂、氟素树脂、聚醯亚胺树脂、聚胺基甲酸酯树脂、醇酸树脂(alkyd resin)、聚酯树脂及其混合物所构成的群组，较佳为丙烯酸酯树脂。可用以构成上述丙烯酸酯树脂之单体例如但不限于丙烯酸酯类单体。上述丙烯酸酯类单体之种类例如但不限于丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、胺基甲酸酯丙烯酸酯(urethane acrylate)、聚酯丙烯酸酯(polyester acrylate)、环氧丙烯酸酯(epoxy acrylate)或其混合，较佳为丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。此外，上述丙烯酸酯类单体可具有一或多个官能基，较佳具有多官能基。

适用于本发明之丙烯酸酯类单体之实例例如选自包括(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯(tripropylene glycol di(meth)acrylate)、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯(1，4-butanediol di(meth)acrylate)、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯(1，6-hexanedioldi(meth)acrylate)、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯(polyethyleneglycol di(meth)acrylate)、烯丙基化二(甲基)丙烯酸环己酯(allylated cyclohexyl di(meth)acrylate)、二(甲基)丙烯酸异氰

酸酯(isocyanurate di(meth)acrylate)、2-苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯(2-phenoxyl ethyl(meth)acrylate)、乙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯(ethoxylated trimethylol propanetri(meth)acrylate)、丙氧基化甘油三(甲基)丙烯酸酯(propoxylated glyceroltri(meth)acrylate)、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯(trimethylol propane tri(meth)acrylate)、2-(对-异丙苯基-苯氧基)-乙基丙烯酸酯(cumyl phenoxyl ethyl acrylate，CPEA)及彼等之混合物所组成之群组。

市售丙烯酸酯类单体之实例包括：由Sartomer公司生产，商品名为SR454

SR494

、SR9020、SR9021

或SR9041

者；由Eternal公司生产，商品名为624-100

EM210

或EM2108

者；及由UCB公司生产，商品名为Ebecryl 600

、Ebecryl 830

Ebecryl 3605

或Ebecryl 6700

者等。

上述形成微结构层之树脂可视需要添加任何习知添加剂，例如光起始剂、交联剂、无机微粒、流平剂、消泡剂或抗静电剂等，其种类系为本发明所属技术领域中具有通常知识者所熟知者。

可视需要在用以形成微结构层之树脂中添加抗静电剂，以使所制得之光学膜具有抗静电之效果，进而提高作业良率。可使用于本发明之抗静电剂系为本发明所属技术领域中具有通常知识者所熟知者，其例如但不限于乙氧基甘油脂肪酸酯类、四级胺化合物、脂肪胺类衍生物、环氧树脂(如聚环氧乙烷)、硅氧烷(siloxane)或其它醇类衍生物(如聚乙醇酯或聚乙二醇醚)等。

可使用于本发明之光起始剂，系经光照射后会产生自由基，而透过自由基之传递引发聚合反应者。适用于本发明之光起始剂系为本发明所属技术领域中具有通常知识者所熟知者，其例如但不限于二苯甲酮(benzophenone)、二苯乙醇酮(benzoin)、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮(2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one)、2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙-1-酮(2，2-dimethoxy-1，2-diphenylethan-1-one)、1-羟基环己基苯基酮(1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone)、2，4，6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物(2，4，6-trimethylbenzoyldiphenyl phosphine oxide)，或彼等之混合物。较佳之光起始剂系二苯甲酮或1-羟基环己基苯基酮。

为增进微结构层之硬度，可视需要于树脂中添加奈米级无机微粒。可使用于本发明之无机微粒系为本发明所属技术领域中具有通常知识者所熟知者，其例如但不限于氧化锌、二氧化硅、钛酸锶、氧化锆、氧化铝、二氧化钛、硫酸钙、硫酸钡、碳酸钙或其混合物，较佳为二氧化钛、氧化锆、二氧化硅、氧化锌或其混合物。上述无机微粒具有约50奈米至约350奈米之粒径大小。

本发明之微结构层包含复数个柱状结构，该等柱状结构可为线性(linear)、曲线(serpentine)或折线(zigzag)，且该等柱状结构之峰高度可不沿延伸方向变化或沿延伸方向变化。上述柱状结构之峰高度沿延伸方向变化系指该柱状结构中至少有部分位置之高度系随机或规则性沿结构主轴位置变化，其变化幅度至少为标称高度(或平均高度)之百分之三，较佳其变化幅度为该标称高度之百分之五至百分之五十之间。

本发明之微结构层之柱状结构包含至少一单峰柱状结构，本发明微结构层之柱状结构可为弧形柱状结构、棱镜柱状结构或其混合，较佳为棱镜柱状结构。上述柱状结构较佳系为对称柱状结构，使用对称柱状结构不但可简化加工方法且较易控制集光效果。

本发明微结构层之柱状结构可等高或不等高、等宽或不等宽。较佳系包含至少二种选自由峰高度沿延伸方向变化之线性柱状结构、峰高度不沿延伸方向变化之线性柱状结构、峰高度沿延伸方向变化之曲线柱状结构及峰高度不沿延伸方向变化之曲线柱状结构所组成之群组且具有相同宽度及顶角角度之柱状结构。本发明所使用之柱状结构之高度取决于所欲得光学产品之需求，一般系介于5微米至100微米之范围，较佳介于10微米至50微米之范围，更佳介于20微米至40微米之范围。

本发明所使用之柱状结构可为棱镜或弧形柱状结构。当柱状结构为弧形时，弧形柱状顶部曲面最高处之曲率半径系介于2微米至50微米之间，较佳介于3微米至35微米之间，更佳介于5微米至20微米之间。本发明所使用之棱镜柱状结构或弧形柱状结构之顶角角度可彼此相同或不相同，其系介于40°至120°，较佳介于60°至95°。为能兼顾抗刮和高辉度特性，棱镜柱状结构之顶角角度较佳为80°至95°，弧形柱状结构之顶角角度介于60°至95°。

当本发明之微结构层包含两种(例如以x1及x2表示)或两种以上(例如以x1，x2，x3，…表示)之不同的柱状结构时，该等柱状结构可以任何适当之顺序排列，亦即，可为一随机结构，其排列方式例如但不限于：x1x1x2x1x2x1、x1x2x1x1x2等；亦可为一重复结构，其排列方式例如但不限于：x1x2x1x2x1x2、x1x1x2x1x1x2等，较佳为两种不同柱状结构所构成之重复排列结构。

根据本发明另一较佳实施态样，本发明之光学膜可视需要以卷对卷式(roll to roll)连续生产技术于基材上先涂布具扩散效果之扩散层，再于扩散层上涂布上述具聚光效果之微结构层作为聚光层。该扩散层包含透明微粒，且该扩散层中透明微粒之折射率大于该聚光层之折射率，且该扩散层中透明微粒之折射率与该聚光层之折射率的差为0.05至1.1。可用于本发明中的透明微粒种类并无特殊限制，可为玻璃珠粒(beads)、金属氧化物颗粒、塑料珠粒或其混合。上述塑料珠粒并无特殊限制，其例如但不限于丙烯酸酯树脂、苯乙烯树脂、胺基甲酸酯树脂、硅酮树脂或彼等之混合物；而金属氧化物颗粒并无特殊限制，其例如但不限于二氧化钛(TiO2)、二氧化硅(SiO2)、氧化锌(ZnO)、硫酸钡(BaSO4)、氧化铝(Al2O3)、氧化锆(ZrO2)或彼等之混合物。该透明微粒之形状并无特殊限制，例如可为球形、菱形、椭圆形、双凸透镜形等。该透明微粒之平均粒径大小介于1至50微米之间，较佳为3至30微米，最佳为5至20微米，且该透明微粒之折射率为1.5至2.5，最佳为1.9。

为避免基材表面刮伤而影响膜片的光学性质，可视需要在基材相对于微结构层之另一表面上形成一抗刮层。上述抗刮层可为平滑状或非平滑状，可使用任何习知方法形成本发明之抗刮层，其例如但不限于网版印刷、喷涂、压花加工或于基材表面涂覆含扩散颗粒之抗刮层等，其中涂覆含扩散颗粒之抗刮层可使抗刮层具有某些程度的光扩散作用。上述抗刮层之厚度较佳系介于0.5～30微米之间，更佳介于1～10微米之间。上述扩散颗粒可为球形、菱形、椭圆球形或双凸透镜形(biconvex lenses)等，其粒径大小较佳介于1～30微米，其种类亦无特殊限制，可为有机粒子或无机粒子，较佳为有机粒子，例如聚丙烯酸酯树脂、聚苯乙烯树脂、聚胺基甲酸酯树脂、硅酮树脂或其混合物，较佳为聚丙烯酸酯树脂。

光学产品的光学特性可由雾度值(Hz)、全光线透过率(Tt)来表示，其中雾度值与光学产品的光散射性相关，全光线透过率与光学产品的光线穿透率相关。在基材之一表面上不存在微结构层之情况下，根据JIS K7136标准方法测量另一表面上之树脂涂层之雾度，所得雾度为1％～90％，较佳为5％～40％，因此，本发明之抗刮层具有散射光之能力。且根据JIS K7136标准方法，测量本发明光学膜之全光线透过率，具有不低于60％之全光线透过率，较佳为高于80％，更佳90％或90％以上。此外，本发明之抗刮层根据JISK5400标准方法量测，其具有可达3H或以上之铅笔硬度。

可使用任何习知之方法制备本发明光学膜之微结构层及抗刮层，且制备微结构层及抗刮层之先后顺序并无特殊限制。

本发明光学膜之微结构层之制造方式，并无特殊限制，例如，可经由包含以下步骤之方法制造：

(a)将树脂及适当之添加剂混合以形成一胶态涂料组合物；

(b)在一圆柱形毛胚(或称滚筒)上，以钻石刀具在转动之滚筒上以与滚筒轴向之方向移动定格径向进给，藉由控制钻石刀具之移动速度及/或滚筒之转速使钻石刀具在滚筒上雕刻出特定线性柱状沟槽，再以改变c-轴转速或改变钻石刀具谐振模式达成高低起伏或左右连续变化之结构；

(c)将该胶态涂料组合物涂布于基材或滚轮上，然后利用步骤(b)所雕刻完成之滚筒进行滚轮压花、热转印或热挤压方式使该涂层形成一结构化表面；及

(d)对该涂层照射能量射线或加热或两者并用以使该涂层固化。

上述方法的特征为利用至少二次加工方式制造本发明光学膜之微结构层，所谓至少二次加工方式系指在滚筒上雕刻至少二种花纹(pattern)之特定沟槽，此方法最大优点为可利用最简单的加工方式，得到最大的良率。

以下兹配合图式举例说明本发明光学膜之微结构层之构造，唯非用以限制本发明之范围。任何熟悉此项技艺之人士可轻易达成之修饰及改变均包括于本案说明书揭示内容。

如图4至图13所示，本发明之光学膜系于基材(300)之上表面形成微结构层(310、410、510、610及710)，微结构层之形成方式可为：与基材一起以一体成形方式制备；或以任何习知之加工方式制备，例如以涂布方式及压花方式于基材上形成微结构层，或先涂布再雕刻所需之结构。

在本发明之一实施例中，微结构层包含复数个柱状结构，该柱状结构包含复数个线性柱状结构及复数个曲线柱状结构。在一较佳实施例中，该等柱状结构包含由峰高度沿延伸方向变化之单峰曲线柱状结构(320)(x1)及峰高度不沿延伸方向变化之单峰线性柱状结构(330)(x2)所构成，该等柱状结构以相互交替之重复结构排列(x1x2x1x2x1x2)，如图4所示。图4之实施态样中微结构层之柱状结构为等高、等宽且具有相同之顶角角度之单峰棱镜柱状结构。

在本发明之另一实施例中，微结构层包含复数个柱状结构，该等柱状结构为线性柱状结构，且部分柱状结构之峰高度沿延伸方向变化，如图5至图8所示。该微结构层之柱状结构为等高、等宽且具有相同之顶角角度之单峰棱镜柱状结构。

在图5至8本发明光学薄膜之实施态样中，该等柱状结构包含由峰高度沿延伸方向变化之单峰线性柱状结构(340)(x3)及峰高度不沿延伸方向变化之单峰线性柱状结构(330)(x2)所构成，该等柱状结构以相互交替之重复结构排列(x3x2x3x2x3x2)。图5之实施态样中，该基材相对于微结构层之另一表面为平滑状。图6之实施态样中，该基材相对于微结构层之另一表面上包含一含有扩散颗粒之抗刮层(100)。图7之实施态样中，基材上先涂布扩散层(110)，再于扩散层(110)上涂布该微结构层作为聚光层，该扩散层(110)包含透明微粒且该基材相对于微结构层之另一表面上包含一含扩散颗粒之抗刮层(100)。图8之实施态样中，该微结构层系与基材一起以一体成型方式制备。

图9及图10例示本发明之微结构层所包含之柱状结构可为等高(如图9b及图10b)、不等高(如图9a及9c)、等宽(如图9b及图10b)或不等宽(如图10a及图10c)。

在本发明之另一实施例中，微结构层包含复数个柱状结构，该等柱状结构为线性弧形柱状结构，且部分弧形柱状结构之峰高度沿延伸方向变化，如图11所示。该微结构层之柱状结构为等高、等宽且具有相同之顶角角度之单峰弧形柱状结构。图11之实施态样中，该等柱状结构包含由峰高度沿延伸方向变化之单峰线性柱状结构(350)(x4)及峰高度不沿延伸方向变化之单峰线性柱状结构(360)(x5)所构成，该等柱状结构以相互交替之重复结构排列(x4x5x4x5x4x5)。

在本发明之另一实施例中，本发明之微结构层包含复数个柱状结构，图12之实施态样中，该等柱状结构包含峰高度沿延伸方向变化之单峰线性柱状结构(340)(x3)、峰高度不沿延伸方向变化之单峰线性柱状结构(330)(x2)、峰高度不沿延伸方向变化之多峰线性柱状结构(370)(x6)所构成之重复结构(x6x2x3x6x2x3x6x2x3)。多峰柱状结构(370)，其系由两个等高之弧形柱状结构(370a及370b)彼此重叠所形成之联集结构，其中弧形柱状结构(370a及370b)间之谷线之高度h1为弧形柱状结构(370a及370b)之高度H1之60％；单峰棱镜柱状结构(330)为等高、等宽且峰高度不沿延伸方向变化之单峰棱镜柱状结构(330)，单峰棱镜柱状结构(340)为等高、等宽且峰高度沿延伸方向变化之单峰棱镜柱状结构(340)。

在本发明之另一实施例中，微结构层包含复数个柱状结构，如图13所示。在图13之实施态样中，该等柱状结构包含峰高度沿延伸方向变化之单峰线性棱镜柱状结构(340)(x3)、峰高度不沿延伸方向变化之单峰线性棱镜柱状结构(330)(x2)、峰高度不沿延伸方向变化之单峰线性弧形柱状结构(380)(x7)所构成之重复结构(x7x2x3x7x2x3x7x2x3)。

在本发明之另一实施例中，微结构层包含复数个柱状结构，该等柱状结构包含由峰高度沿延伸方向变化之单峰线性棱镜柱状结构(340)(x3)及峰高度不沿延伸方向变化之单峰线性棱镜柱状结构(390)(x8)所构成，该等柱状结构以相互交替之重复结构排列(x8x3x8x3x8x3)，如图14所示。该微结构层之柱状结构具有相同之顶角角度高度和宽度，单峰线性棱镜柱状结构(390)(x8)系由两个倾斜面所构成，上述两个倾斜面，一面为平面，另一面为曲面，其曲面之曲率变化系以该曲线柱状结构高度为基准之0.2％至100％，较佳系以该曲线柱状结构高度为基准之1％至20％。

在本发明之另一实施例中，微结构层包含复数个柱状结构，该等柱状结构包含由峰高度沿延伸方向变化之单峰线性棱镜柱状结构(340)(x3)及峰高度不沿延伸方向变化之单峰线性棱镜柱状结构(330)(x2)所构成，该等柱状结构以相互交替之重复结构排列(x3x2x3x2x3x2)，如图15所示。该微结构层之柱状结构具有相同之顶角角度，约为90°，但不等高(x2＞x3)，高度约为16微米至26微米，高度差介于1微米至7微米。在基材(300)相对于微结构层之另一表面上包含一含有扩散颗粒之抗刮层(100)，该抗刮层之厚度系介于约1微米至约5微米之间，该扩散颗粒为聚丙烯酸酯树脂，其粒径大小介于约2微米至约7微米之间，根据JIS K7136标准方法测量，所得雾度为10％-30％。上述柱状结构之峰高度沿延伸方向变化系指该柱状结构中之高度系规则性沿长度位置变化，呈一波动曲线，其波长约介于0.5微米至2微米，其变化幅度为平均高度之百分之五至百分之三十之间。

Claims

1.一种光学膜，包含一基材及位于该基材表面上之微结构层，其中

该微结构层包含复数个柱状结构且该柱状结构包含至少二种选自由峰高度沿延伸方向变化之线性柱状结构、峰高度不沿延伸方向变化之线性柱状结构、峰高度沿延伸方向变化之曲线柱状结构及峰高度不沿延伸方向变化之曲线柱状结构所组成之群组。

2.根据权利要求1所述的光学膜，其中该柱状结构系选自弧形柱状结构、棱镜柱状结构及其混合所组成之群组。

3.根据权利要求1所述的光学膜，其中该等峰高度沿延伸方向变化之线性柱状结构或曲线柱状结构具有一标称高度，该等柱状结构中至少有部分位置之高度系随机变化，其变化幅度至少为该标称高度之百分之三。

4.根据权利要求3所述的光学膜，其中该变化幅度为该标称高度之百分之五至百分之五十之间。

5.根据权利要求2所述的光学膜，其中该等棱镜柱状结构及/或弧形柱状结构之顶角系介于40°至120°之间。

6.根据权利要求5所述的光学膜，其中该等棱镜柱状结构及/或弧形柱状结构之顶角角度系介于60°至95°。

7.根据权利要求2所述的光学膜，其中该等弧形柱状顶部之曲率半径介于2微米至50微米之间。

8.根据权利要求1所述的光学膜，其中该等柱状结构之高度系介于5微米至100微米之范围。

9.根据权利要求1所述的光学膜，其中该曲线柱状结构之弯曲延伸棱线表面曲率变化系以该曲线柱状结构高度为基准之0.2％至100％。

10.根据权利要求9所述的光学膜，其中该曲线柱状结构之弯曲延伸棱线表面曲率变化系以该曲线柱状结构高度为基准之1％至20％。

11.根据权利要求1所述的光学膜，其中该柱状结构为对称柱状结构。

12.根据权利要求1所述的光学膜，其中该基材相对于微结构层之另一表面上进一步包含抗刮层。

13.一种光学膜，包含一基材及位于该基材之一表面上之微结构层，其中该微结构层包含复数个柱状结构且该等柱状结构包含由线性柱状结构和曲线柱状结构所构成之重复结构。

14.根据权利要求13所述的光学膜，其中该等柱状结构系选自弧形柱状结构、棱镜柱状结构及其混合所组成之群组。

15.根据权利要求13所述的光学膜，其中该等柱状结构之高度系介于5微米至100微米之范围。

16.根据权利要求13所述的光学膜，其中该等线性柱状结构之峰高度不沿延伸方向变化。

17.根据权利要求13所述的光学膜，其中该等线性柱状结构之峰高度沿延伸方向变化。

18.根据权利要求17所述的光学膜，其中该等峰高度沿延伸方向变化之线性柱状结构具有一标称高度，该等线性柱状结构中至少有部分位置之高度系随机变化，其变化幅度至少为该标称高度之百分之五。

19.根据权利要求13所述的光学膜，其中该等曲线线性柱状结构之峰高度不沿延伸方向变化。

20.根据权利要求14所述的光学膜，其中该等棱镜柱状结构及/或弧形柱状结构之顶角角度系介于60°至95°。

21.根据权利要求13所述的光学膜，其中该等柱状结构之峰高度不沿延伸方向变化且该重复结构系由线性柱状结构和曲线柱状结构交错排列而成。

22.根据权利要求13所述的光学膜，其中该等重复结构系由线性柱状结构和曲线柱状结构交错排列而成且该等线性柱状结构之峰高度沿延伸方向变化。

23.一种光学膜，包含一基材及位于该基材之一表面上之微结构层，其中该微结构层包含复数个柱状结构且该等柱状结构包含由峰高度沿延伸方向变化之线性柱状结构和峰高度不沿延伸方向变化之线性柱状结构所构成之重复排列结构。

24.根据权利要求23所述的光学膜，其中该等峰高度沿延伸方向变化之线性柱状结构具有一标称高度，该等柱状结构中至少有部分位置之高度系规则性变化，其变化幅度为该标称高度之百分之五至百分之五十之间。

25.根据权利要求23所述的光学膜，其中该等柱状结构系选自弧形柱状结构、棱镜柱状结构及其混合所组成之群组。

26.根据权利要求23所述的光学膜，其中该等柱状结构系为棱镜柱状结构。

27.根据权利要求23所述的光学膜，其中该等棱镜柱状结构之高度系介于5微米至100微米之范围。

28.根据权利要求26所述的光学膜，其中该等棱镜柱状结构及/或弧形柱状结构之顶角角度系介于80°至95°。

29根据权利要求23所述的光学膜，其中该等柱状结构具有相同高度、宽度及顶角角度。

30.根据权利要求23所述的光学膜，其中峰高度沿延伸方向变化之线性柱状结构之高度大于峰高度不沿延伸方向变化之线性柱状结构所构成之重复结构之高度。

31.根据权利要求23所述的光学膜，其中该等重复结构系由峰高度沿延伸方向变化之线性柱状结构和峰高度不沿延伸方向变化之线性柱状结构交错排列而成。

32.根据权利要求23所述的光学膜，其特征为该微结构层利用雕刻至少二种花纹之加工方式制得。

33.根据权利要求23所述的光学膜，其中该等柱状结构包含由峰高度沿延伸方向变化之单峰线性柱状结构及峰高度不沿延伸方向变化之单峰线性柱状结构所构成之重复结构。

34.根据权利要求23所述的光学膜，其中该等柱状结构包含由峰高度沿延伸方向变化之单峰线性柱状结构、峰高度不沿延伸方向变化之单峰线性柱状结构及峰高度不沿延伸方向变化之多峰线性柱状结构所构成之重复结构。

35.根据权利要求34所述的光学膜，其中该等柱状结构包含由峰高度沿延伸方向变化之单峰线性棱镜柱状结构、峰高度不沿延伸方向变化之单峰线性棱镜柱状结构及峰高度不沿延伸方向变化之多峰线性弧形柱状结构所构成之重复结构。

36.根据权利要求23所述的光学膜，其中该等柱状结构包含由峰高度沿延伸方向变化之单峰线性棱镜柱状结构、峰高度不沿延伸方向变化之单峰线性棱镜柱状结构及峰高度不沿延伸方向变化之单峰线性弧形柱状结构所构成之重复结构。

37.根据权利要求23所述的光学膜，其中该峰高度不沿延伸方向变化之线性柱状结构系为棱镜柱状结构，其系由两个倾斜面所构成，一面为平面，另一面为曲面，其曲面之曲率变化系以该曲线柱状结构高度为基准之1％至20％。