CN101290359A - 光学元件、靠模标准原器、树脂靠模、树脂模制品及模具 - Google Patents

Abstract

为了生成光学元件，可以使用靠模标准原器、树脂靠模、树脂模制品或模具。靠模标准原器、树脂靠模、树脂模制品或模具在光学元件中对象光所透过的面内，以比所述对象光的波段小的间距形成微细起伏构造，在微细起伏构造的形成区域的一部分上，配置有微细起伏构造的形成状态与其他区域相比不同的识别图案区域。通过以物理方式验证识别图案区域，可以对靠模标准原器、树脂靠模、树脂模制品或模具的制造源进行验证。

Description

光学元件、靠模标准原器、树脂靠模、树脂模制品及模具

技术领域

本发明涉及光学元件及用于成形光学元件的靠模(master)标准原器、树脂靠模、树脂模制品(成形品)和模具。

背景技术

近年来，随着微细加工技术的发展，纳米等级的加工成为可能。通过利用该加工技术来形成微细的起伏构造，可以控制光学元件的特性。例如，通过在光的入射面形成微细起伏构造，可以降低光在入射面的反射率。由此，可以提高光的利用效率，而且如果将该光学元件组装到显示器件中，则可以提高显示图像的可视性(visibility)。

图13是表示微细起伏构造与折射率的关系的图。如图所示，如果形成微细起伏构造，则光在入射媒质表面的有效折射率缓慢变化，正好成为在2个媒质间不存在折射率的边界的状态。由此，可抑制光在入射面的反射率。另外，该现象会在光在入射面内方向的微细起伏构造的间距比使用对象的光(对象光)的波长小时发生。

图14是表示微细起伏构造的反射率特性的图。该图中，一并表示了在光的入射面形成了电介质多层膜的情况、和什么也不形成的单纯平面的情况的反射率特性。

如图所示，在光学元件中形成了微细起伏构造的情况，与形成了电介质多层膜的情况相比，可以在宽广的波段中抑制反射率。另外，由于微细起伏构造可以通过纳米压印(imprint)等形成，所以，与电介质多层膜相比，还可以起到能够实现低成本的效果。

微细起伏构造的形成通常通过利用复制(転写)用的模具来进行。到生成该模具为止，需要经过微细加工技术适用等各种工序，会花费大量的劳力和成本。不过从另一方面来说，一旦形成了模具，则通过利用该模具来复制微细起伏构造，可比较容易地生成模具的复制品。并且，除了模具之外，还能够通过应用复制技术由光学元件或靠模标准原器等复制模具。如果私自进行该复制，则模具生产者的成本变得无意义，另外，私自复制的人可获得不当的利益。

发明内容

本发明为了解决上述问题而提出，其目的在于，圆满地抑制模具或光学元件的私自复制。

本发明的第一方面所涉及的光学元件，在对象光所透过的面内具备以比所述对象光的波段小的间距形成的微细起伏构造，在所述微细起伏构造的形成区域的一部分上具有所述微细起伏构造的形成状态与其他区域相比不同的识别图案区域。

本发明第二方面所涉及的、为了生成光学元件而使用的靠模标准原器，具备用于复制形成微细起伏构造的复制图案，对于所述微细起伏构造，在所述光学元件中对象光所透过的面内具备以比所述对象光的波段小的间距形成的微细起伏构造，在所述微细起伏构造的形成区域的一部分上，具有所述微细起伏构造的形成状态与其他区域相比不同的识别图案区域。

本发明第三方面的为了生成光学元件而使用的树脂靠模，具备用于复制形成微细起伏构造的复制图案，对于所述微细起伏构造，在所述光学元件中对象光所透过的面内具备以比所述对象光的波段小的间距形成的微细起伏构造，在所述微细起伏构造的形成区域的一部分上，具有所述微细起伏构造的形成状态与其他区域相比不同的识别图案区域。另外，第三方面的树脂靠模是在模具生成工序中，从靠模标准原器以中间方式形成的器件。通常，靠模标准原器的图案被复制到该树脂靠模，进而该树脂靠模的图案被复制到模具而生成模具。

本发明第四方面的为了生成光学元件而使用的树脂模制品，具备用于复制形成微细起伏构造的复制图案，对于所述微细起伏构造，在所述光学元件中对象光所透过的面内具备以比所述对象光的波段小的间距形成的微细起伏构造，在所述微细起伏构造的形成区域的一部分上，具有所述微细起伏构造的形成状态与其他区域相比不同的识别图案区域。另外，该方面的树脂模制品是指由树脂材料生成的部件。该方面所涉及的树脂模制品包括树脂靠模等的中间生成物与光学元件等最终生成物，还可以包括树脂靠模与光学元件以外的、由树脂材料生成的部件。即，该方面所涉及的树脂模制品具备上述复制图案，包括利用其能够以某些状态生成光学元件的、由树脂形成的成形物。另外，在以下的实施方式中，树脂靠模和光学元件与本方面的树脂模制品对应。

本发明第五方面的用于生成光学元件的模具，具备用于复制形成微细起伏构造的复制图案，对于所述微细起伏构造，在所述光学元件中对象光所透过的面内具有以比所述对象光的波段小的间距形成的微细起伏构造，在所述微细起伏构造的形成区域的一部分上，具有所述微细起伏构造的形成状态与其他区域不同的识别图案区域。

根据上述各方面的发明，通过以物理方式验证光学元件的识别图案区域，可以确定该光学元件或用于生成其的模具等的制造源。由此，在通过私自复制生成了该光学元件或模具等的情况下，可以顺利且可靠地弄清该事实，从而，能够实现抑制私自复制。

本发明的前述及其他的目的和具有新颖性的特征，通过参照下述附图并阅读以下所示的实施方式的说明，可以更完全地明了。

附图说明

图1A～C表示实施方式所涉及的光学元件的形成工序的概要。

图2表示实施方式所涉及的靠模标准原器的形成工序。

图3表示实施方式所涉及的微细起伏构造的描绘(描画)所使用的光学系统。

图4表示实施方式所涉及的树脂靠模的形成工序。

图5表示实施方式所涉及的模具的形成工序。

图6表示实施方式所涉及的Ni层的形成方法。

图7A～D是对实施例1所涉及的识别图案区域的形成状态进行说明的图。

图8A、B表示实施例1所涉及的识别图案区域的形成例。

图9A、B表示实施例1所涉及的识别图案区域的形成例。

图10A、B表示实施例1所涉及的识别图案区域的形成例。

图11A～D是对实施例2所涉及的识别图案区域的形成状态进行说明的图。

图12A、B表示实施例2所涉及的识别图案区域的形成例。

图13是说明微细起伏构造的无反射特性的图。

图14是说明微细起伏构造的无反射特性的图。

其中，附图只用于说明，不对本发明的范围进行限定。

具体实施方式

下面参照附图，对本发明的实施方式进行说明。

以下参照附图来说明本发明的实施方式。本实施方式将本发明应用到组装于显示器件的平板状光学元件(罩(cover)部件)及用于生成该光学元件的靠模标准原器及模具等中。

图1A表示实施方式所涉及的靠模标准原器的构成。如放大立体图所示，靠模标准原器中以一定间距形成有微细起伏构造。微细起伏构造的间距例如被设为100nm左右。而且，微细起伏构造的高度被设为200nm左右。

可通过该靠模标准原器生成树脂成形用的模具(参照图1B)。并且，利用该模具，并基于例如纳米压印可生成光学元件(参照图1C)。另外，在本实施方式中不从靠模标准原器直接生成模具，而是暂时生成树脂靠模，由该树脂靠模生成模具。

图2是表示通过电子束切削生成靠模标准原器时的生成工序的图。

在该生成工序中，首先通过旋涂法在硅基板上涂敷抗蚀剂(工序1)。这里所使用的抗蚀剂是电子束用抗蚀剂。然后，通过EB描绘(电子束切削)描绘上述间距的微细起伏构造(工序2)。然后进行显影处理(工序3)，进而执行RIE加工(工序4)。之后，通过氧等离子灰化除去残存的抗蚀剂(工序5)。由此，在硅基板上形成微细起伏构造，结束了靠模标准原器的生成。

另外，针对抗蚀剂的微细起伏构造的描绘也可以利用激光来取代EB(电子束)而进行。而且，还可以通过一边使两道光干涉一边进行曝光，在抗蚀剂上描绘微细起伏构造(双光束干涉曝光法)。

图3是表示利用双光束干涉曝光法的光学系统的构成例的图。

该图中，从激光光源11射出的光经由遮光板(shutter)12、反射镜13、光阑(较り)14及反射镜15，入射到光束扩展器(BEXP)16中，被变换成一定形状的平行光。然后，由λ/2板17调整了激光相对偏光束分离器(PBS)18的偏光方向。由此，激光被PBS 18分支为2个光束。

透过PBS18之后的激光(第一激光)通过透过λ/2板19而使偏光方向旋转90度。由此，第一激光的偏光方向与由PBS18反射的激光(第二激光)的偏光方向匹配。之后，第一激光经由光阑20入射到物镜21中，以规定的数值孔径收敛。然后，第一激光通过针孔(pin hole)22照射到干涉面30上。

由PBS反射的第二激光经由反射镜23和光阑24入射到物镜25中，以规定的数值孔径收敛。然后，第二激光通过针孔26照射到干涉面30上。

在干涉面30上基于第一及第二激光的干涉而产生条纹状的干涉条纹。这里，条纹的间距可以通过第一及第二激光相对干涉面30的入射角度来调整。

通过将涂敷了抗蚀剂的硅基板配置到干涉面30上，可以进行与干涉条纹对应的曝光。在一次曝光中，对抗蚀剂描绘一维的条纹构造，并且，通过使硅基板在面内方向旋转90度来进行第二次曝光，从而可以在抗蚀剂上描绘二维金字塔构造。由此，与图2的情况同样，可对抗蚀剂进行微细起伏构造的描绘。然后，通过进行图2的工序3、4、5，生成在硅基板上形成有微细起伏构造的靠模标准原器。

在通过电铸将靠模标准原器上的微细起伏构造形成为模具时，一般采用在电铸后将标准原器融化并除去等不破坏微细起伏构造的方法，但在本实施方式中不从靠模标准原器直接生成模具，而是暂时生成树脂靠模，由该树脂靠模生成模具。

图4是表示从靠模标准原器生成树脂靠模时的工序的图。

在该生成工序中，首先在微细起伏构造上涂敷了氟系的离型剂(工序2)，然后将靠模标准原器安装到成形夹具上(工序3)。之后，将液体状的紫外线固化树脂滴落到微细起伏构造上，并将紫外线透过率高的透明基板(由光盘等中所使用的聚碳酸酯构成的板)载置到其上，将透明基板按压到靠模标准原器上(工序4)。由此，使紫外线固化树脂进入到微细起伏构造的起伏间。在进行了规定时间的该压接工序之后，从透明基板侧照射紫外线，使紫外线固化树脂固化(工序5)。然后，将固化后的紫外线固化树脂与透明基板一同从靠模标准原器上剥离(工序6)。由此，可生成树脂靠模。

另外，对于所生成的树脂靠模，利用原子间力显微镜观察、评价微细起伏构造的形成状态。如果基于该观察、评价认为微细起伏构造的形成状态恰当，则将所生成的树脂靠模作为完成品。

可利用如此生成的树脂靠模生成模具。

图5是表示模具的生成过程的图。在该生成过程中，对如上所述而生成的树脂靠模涂敷离型剂，进而按照与电铸夹具的形状匹配的方式切割树脂靠模(工序1)。这里，由于树脂靠模如上所述由紫外线固化树脂构成，所以，无法直接将离型剂涂敷到微细起伏构造上。因此，在工序1中，可在将具有OH基的电介质溅射到微细起伏构造上之后，涂敷离型剂。

接着，将切割后的树脂靠模安装于电铸夹具(工序2)，进而，通过溅射法在微细起伏构造上形成Ni层(工序3)。然后，将安装于电铸夹具的树脂靠模浸渍到镀覆液中，进而在Ni层上析出Ni层(工序4)。该处理进行到Ni层成为规定的厚度为止。然后，从镀覆液中提起安装于电铸夹具的树脂靠模，在从树脂靠模剥离所形成的Ni层之前，对Ni层的背面进行研磨(工序5)。之后，从树脂靠模剥离Ni层(工序6)，由此生成模具。

对于所生成的模具，利用原子间力显微镜观察、评价微细起伏构造的形成状态。如果基于该观察、评价认为微细起伏构造的形成状态是适当的，则将所生成的树脂靠模作为完成品。

另外，在图5的生成工序中通过溅射和电铸两道工序生成Ni层。通常，基于溅射形成的Ni层在电铸过程中起到电极的作用。从该观点出发，基于溅射形成的Ni层只要作为膜(膜厚：数百

左右)形成在微细起伏构造的表面即可。但是，在如本实施方式那样，以纳米等级的间距形成微细起伏构造的情况下，如果不以充分降低电流密度的状态进行电铸处理，则无法在微细起伏构造的起伏间填充Ni层。因此，在将基于溅射形成的Ni层作为膜形成于微细起伏构造的表面时，电铸处理所需要的时间十分长，导致模具的生成效率显著降低。

该问题可以通过基于溅射形成Ni层，直到不仅掩埋了微细起伏构造的表面，而且在起伏间掩埋了某种程度来解决。

图6是表示从基于溅射形成Ni层的工序到基于电铸形成Ni层的工序的流程图。图6的(a-1)(a-2)(a-3)表示了通过溅射仅在微细起伏构造的表面形成Ni层时的流程。另外，图6的(b-1)(b-2)(b-3)表示除了微细起伏构造的表面之外，直到完全将起伏间掩埋为止，通过溅射形成Ni层时的流程，图6的(c-1)(c-2)(c-3)表示除了微细起伏构造的表面之外，直到起伏间为某一程度的深度为止，通过溅射形成Ni层时的流程。

在图6的(a-1)(a-2)(a-3)的工序中如上所述，如果不以使电流密度极低的状态进行电铸处理，则无法在微细起伏构造的起伏间填充Ni层，因此，电铸处理所需的时间十分漫长。

与之相对，图6的(b-1)(b-2)(b-3)的工序与图6的(a-1)(a-2)(a-3)的工序相比，虽然基于溅射的处理工序的时间长，但由于能够在增大电流密度的状态下进行电铸处理，所以，可高速进行电铸处理，从而，Ni层形成所需的总计需要时间会比图6的(a-1)(a-2)(a-3)的工序显著缩短。

另外，虽然图6的(c-1)(c-2)(c-3)的工序与图6的(b-1)(b-2)(b-3)的工序相比，电铸处理所需要的时间长，但与图6的(a-1)(a-2)(a-3)的工序相比电铸处理所需的时间十分短，Ni层形成所需的总计需要时间也比图6的(a-1)(a-2)(a-3)的工序短。

此外，在图6的(b-1)(b-2)(b-3)及(c-1)(c-2)(c-3)的工序中，由于通过溅射形成的Ni层的厚度增大，所以，电铸处理时Ni层的电阻降低，而且，由于通过溅射形成的Ni层遍及微细起伏构造而形成，所以，与图6的(a-1)(a-2)(a-3)的工序相比，还可以起到能够稳定进行电铸处理的效果。而且，与图6的(a-1)(a-2)(a-3)的工序相比，可提高微细起伏构造相对Ni层的复制性。

另外，在图6的(b-1)(b-2)(b-3)的工序中，通过溅射形成Ni层直到完全将起伏间掩埋，但也可以在完全掩埋了微细起伏构造之后，进而以规定的厚度通过溅射形成Ni层。而且，在图6的(c-1)(c-2)(c-3)的工序中，通过溅射形成Ni层直到起伏间成为某一程度的深度为止，但通过溅射形成Ni层到什么程度的深度为止，只要考虑微细起伏构造的面积等来适当设定即可。

例如，由于微细起伏构造的面积越大，在起伏构造区域的中心越难析出Ni层，所以，要增大由溅射形成的Ni层的深度，或者通过溅射形成Ni层直到完全掩埋微细起伏构造或其以上为止。相反，如果微细起伏构造的面积小，则由于在起伏构造区域的中心也比较容易析出Ni层，所以，会减小通过溅射形成的Ni层的深度、或仅在微细起伏构造的表面通过溅射形成Ni层。

可利用如上所述而生成的模具来树脂成形光学元件。这里，光学元件例如可通过纳米压印生成。此外，也可以通过上述图4所示的2P成形、铸造成形、热树脂成形及热板成形等生成光学元件。另外，在上述实施方式中由树脂靠模生成了模具，但当然也能够由靠模标准原器直接生成模具。不过，该情况下如上所述，有可能在模具生成时会损坏靠模标准原器上的微细起伏构造。

【实施例1】

本实施例在靠模标准原器生成时形成识别图案区域。

如图7A所示，本实施例中在难以对视听造成影响的周边区域设定识别图案区域。识别图案区域与其他区域相比，微细起伏构造的形成状态不同。识别图案区域通过上述图4的生成工序，与其他区域一同从靠模标准原器复制到树脂靠模(参照图7B)。并且，识别图案区域通过上述图5的生成工序，与其他区域一同从树脂靠模复制到模具(参照图7C)，并在光学元件成形时，从模具复制到光学元件(参照图7D)。

图8A、B是表示识别图案区域的形成例的图。图8A、B是从与微细起伏构造的形成面垂直的方向观察靠模标准原器时的图。该图中，灰色的圆圈是对微细起伏构造的一个起伏(构造体)进行示意表示的部分。

在图8A的构成例中，通过以2个构造体为宽度按线图状使构造体消失，形成了识别图案区域。而在图8B的构成例中，通过以规定个数的构造体作为宽度沿纵向使构造体消失一定个数，形成了识别图案区域。这里，识别图案区域的形成例如可以通过控制图2的工序2中的EB描绘时的描绘图案来进行。

在该构成例中，识别图案区域的宽度被设定为人眼的识别界限以下。如上所述，人眼能够在几十μm左右大小的范围区分物与图形。因此，如果识别图案的宽度为人眼的识别界限以下，则即使识别图案区域的光学特性与其他区域的光学特性不同，该不同也无法由人眼区分。虽然人眼的识别界限因人而存在稍许偏差，但如果识别图案区域的宽度为100μm以下，则通常无法区分识别图案区域、或区分起来十分困难。更优选识别图案区域的宽度为10μm以下，由此，即使形成了识别图案区域，用户也无法对其进行区分。

如图8B所示，分别在纵、横方向上存在着识别图案区域的宽度，该情况下，只要小的一方的宽度D1为人眼的识别界限以下即可。因此，在图8B的例子中至少将宽度D1设定为100μm以下，更优选将D1和D2双方设定为100μm以下。在更为彻底的情况下，将宽度D1或宽度D1与D2双方设定为10μm以下。

通过如此设定识别图案区域的宽度，不仅可抑制识别图案区域对可视性的影响，而且能够基于识别图案验证制造源。

图9A、B是表示识别图案区域的另一个形成例的图。在上述实施方式中，想象了组装于显示器件的平板状罩部件作为光学元件，但图9A、B的形成例优选利用在例如通过上述实施方式所示的工序形成构成光拾取装置的光学系统的光学元件等情况。

图9A、B的形成例与图8A、B的情况相比，减小了识别图案区域的宽度。即，在该构成例中通过以点(dot)状使一个构造体消失，形成了识别图案区域。与图8A、B的情况同样，识别图案区域的形成，例如可以通过控制图2的工序2中的EB描绘时的描绘图案来进行。

如果以比对象光的波段大的宽度而微细起伏构造消失、或该宽度中包含的微细起伏构造的高度与其他部分不同，则该宽度的部分无法恰当发挥应该由其他区域的微细起伏构造发挥的本来的光学特性。因此，如果将识别图案区域的宽度设定为对象光的波段以下，则能够在不使本来的光学特性劣化的情况下，基于识别图案来进行验证。

这样，即使以对象光的波段以下的宽度而微细起伏构造消失、或该宽度中包含的微细起伏构造的高度与其他部分不同，该宽度部分的化学特性也不会从应该由其他微细起伏构造发挥的本来的光学特性起大幅变化。因此，在由上述实施方式所示的工序形成的光学元件例如被组装到光拾取器装置中的情况下，如果以该光拾取装置的使用激光波长以下的宽度形成识别图案区域，则可抑制识别图案区域对其他微细起伏构造的本来化学特性的影响。例如，若使用激光波长为450nm左右，则通过将识别图案区域的宽度设定得比其小，可以恰当地发挥设置于该光学元件的微细起伏构造的本来光学特性(例如无反射特性)。

如图8B所示，在纵、横方向分别存在识别图案区域的宽度，但该情况下，双方的宽度D1、D2都被设定为使用激光波长以下。例如，在微细起伏构造的间距被设定为100nm左右的情况下，如图9A、B所示，如果以点状使一个构造体消失而形成识别图案区域，则识别图案区域的宽度D1、D2为100nm左右，成为使用激光波长(450nm)的1/4左右。因此，在如图8A、B那样形成了识别图案区域的情况下，能够不使微细起伏构造的本来化学特性劣化地基于识别图案来验证制造源。

另外，在图9A、B的形成例中，以点状使一个构造体消失，但如果双方的宽度D1、D2都为使用激光波段以下，则即便使连续的多个构造体消失来形成识别图案区域，也可以起到与图9A、B的情况相同的效果。

图10A、B是表示识别图案区域的又一个形成例的图。在上述图8A、B的形成例中，通过使微细起伏构造的构造体消失而形成了识别图案区域，但在图10A、B的形成例中，通过与其他区域相比，使识别图案区域中的构造体的高度变化，从而形成了识别图案区域。这里，构造体的高度例如可通过控制图2的工序2中的EB描绘时的剂量(dose amount)来调整。对抗蚀剂照射的剂量越多，越会描绘深的槽；剂量越少越会描绘浅的槽。因此，通过在识别图案区域和其他的区域中使剂量的照射密度或照射时间变化，可以使识别图案区域的构造体的高度与其他区域不同。

在图10A、B的形成例中也能够起到与上述图8A、B的形成例同样的效果。另外，在图9A、B的形成例中，也可以通过与其他区域相比，使识别图案区域的构造体中的高度变化，来形成识别图案区域。该情况下，可起到与上述图9A、B的形成例同样的效果。

本实施例中，在识别图案区域描绘的图案成为靠模标准原器的制造源固有的图案。因此，通过以物理方式观察识别图案区域所对应的区域，对此时所取得的图案进行判定，可以确定该靠模标准原器的制造源。同样，通过以物理方式观察树脂靠模、模具、光学元件的识别图案区域所对应的区域，可以确定该树脂靠模、模具、光学元件是由哪个制造源的靠模标准原器生成的。

识别图案区域的观察例如可以利用原子间力显微镜来进行。如果由原子间力显微镜扫描识别图案区域所对应的区域，则可以获得与微细起伏构造的起伏对应的振幅的信号。通过对扫描与识别图案区域对应的所有区域时取得的信号进行运算处理，可以取得识别图案区域中所保持的图案。若从靠模标准原器取得该图案，则可以确定靠模标准原器的制造源，而且，如果从树脂靠模、模具或光学元件取得该图案，则可以确定该树脂靠模、模具、光学元件是由哪个制造源的靠模标准原器生成的。

【实施例2】

本实施例在生成靠模标准原器之后形成识别图案区域。即，如图11A所示，本实施例中不在靠模标准原器上生成识别图案区域。识别图案区域例如可在生成树脂靠模时生成(参照图11B)。

与上述实施例1同样，识别图案区域与其他区域相比，微细起伏构造的形成状态不同。识别图案区域通过上述图5的生成工序，与其他区域一同从树脂靠模复制到模具(参照图11C)，进而，在光学元件成形时从模具复制到光学元件(参照图11D)。

图12A、B是表示识别图案区域的形成例的图。图12A、B是从与微细起伏构造的形成面垂直的方向观察树脂靠模时的图。该图中，灰色的圆圈是对微细起伏构造的一个起伏(构造体)进行示意表示的部分。

在图12A的构成例中，通过以一定的宽度按线图状使构造体消失而形成了识别图案区域。另外，在图12B的构成例中，通过以规定的宽度沿纵向使构造体消失一定的长度，从而形成了识别图案区域。

这里，识别图案区域的形成，例如可以通过由能够以纳米等级实施加工的超精密加工机对微细起伏构造的构造体进行切削来实现。作为超精密加工机，例如可以使用フアナツク公司制造的“ROBONANOα-0iB”(“ROBONANO”是フアナツク公司的注册商标)。

在图12A、B的形成例中，通过与实施例1中的图8A、B的形成例同样地设定识别图案区域D1、D2的宽度，可抑制识别图案区域对可视性的影响。

而且，也可以与图9A、B的情况同样，将识别图案区域形成为点状。并且，通过与图10A、B的情况同样，使识别图案区域中的构造体的高度相对其他区域变化，从而也能够形成识别图案区域。该情况下，也可以起到与图9A、B及图10A、B的情况相同的效果。

另外，在本实施例中，也可以将识别图案区域形成为比构造体的底部掘削得更深。由于在上述フアナツク公司制造的超精密加工机中可以控制切削的高度，所以，在切削时能够调节识别图案区域中的构造体的高度、或能够比构造体的底部掘削得更深。

识别图案区域的观察与上述实施例1同样，例如可以利用原子间力显微镜来进行。基于该观察，可以从树脂靠模、模具或光学元件取得在识别图案区域中保持的图案。如果从树脂靠模取得该图案，则可以确定树脂靠模的制造源，而且，如果从模具或光学元件取得该图案，则可以确定该模具，光学元件是从哪个制造源的树脂靠模生成的。

另外，本实施例中在树脂靠模上形成了识别图案区域，但也可以在模具或由模具树脂成形的模制品上形成识别图案区域。该情况下，与上述同样，可以通过由超精密加工机对微细起伏构造的构造体进行切削来形成识别图案区域。

综上所述，根据实施例1、2，通过以物理方式观察识别图案区域，可以确定靠模标准原器、树脂靠模及模具的制造源。因此，即便在通过私自复制生成了光学元件或模具等的情况下，也能够顺利、可靠地弄清该事实，从而可抑制私自复制。

另外，上述实施例1、2中，在识别图案区域中使微细起伏构造消失，或与其他区域相比，使识别图案区域中的微细起伏构造的高度不同，但也可以在识别图案区域中混合存在：使所述微细起伏构造消失的区域、和与其他区域相比微细起伏构造的高度不同的区域。

并且，识别图案不一定是一个，也可以随机配置多个识别图案。

本发明不限定于上述实施方式，另外，本发明的实施方式除了上述之外还能够进行各种变更。

另外，在除了在专利请求范围中所记载的发明外，根据上述图6所示的制造工序可以提取以下的发明。

<技术方案a>

一种模具，用于通过树脂成形形成光学元件，该光学元件在对象光所透过的面内具备以比所述对象光的波段小的间距形成的微细起伏构造，

用于将所述微细起伏构造复制到所述光学元件的图案，具有通过溅射处理而形成的第一金属层、和通过电铸处理形成在该第一金属层上的第二金属层，按照不仅所述微细起伏构造的被复制图案的轮廓，而且还将所述微细起伏构造的起伏间掩埋到规定的深度的方式形成所述第一金属层。

<技术方案b>

在技术方案a中，

所述第一金属层按照至少将所述微细起伏构造的起伏间完全掩埋的方式形成。

<技术方案c>

在技术方案a或b中，

所述第一及第二金属层由同一材料形成。

<技术方案d>

一种模具制造方法，用于形成技术方案a～c中任意一项所述的模具，具备：通过溅射在形成于非复制面的所述微细起伏构造上形成第一金属层的第一工序；和

通过电铸处理，在由所述第一工序形成的所述第一金属层上形成第二金属层的第二工序；

按照不仅所述微细起伏构造的表面，而且还将所述微细起伏构造的起伏间掩埋到规定的深度的方式形成所述第一金属层。

根据上述技术方案a～d的各发明，如上所述，可缩短第一及第二金属层的总计形成时间。而且，由于第一金属层的厚度增大，所以，电铸处理时的第一金属层的电阻降低，另外，由于第一金属层遍及微细起伏构造地形成，所以，与仅在微细起伏构造的表面形成第一金属层的情况相比，还可以起到稳定进行电铸处理的效果。并且，由于第一金属层遍及微细起伏构造地形成，所以，与仅在微细起伏构造的表面形成第一金属层的情况相比，还可以提高微细起伏构造对Ni层的复制性。因此，根据技术方案a～c中任意一项所述的模具，可使微细起伏构造的形成精度高，如果利用其进行树脂成形，则可以将稳定的微细起伏构造复制到光学元件上，从而能够提高光学元件的特性。

另外，技术方案a～d中的第一及第二金属层在上述实施方式中被设为Ni层。也可以通过其他的金属材料形成第一及第二金属层。

Claims (20)

1、一种光学元件，

在对象光所透过的面内具备以比所述对象光的波段小的间距形成的微细起伏构造，

在所述微细起伏构造的形成区域的一部分上，具有所述微细起伏构造的形成状态与其他区域相比不同的识别图案区域。

2、根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，

在所述识别图案区域不存在所述微细起伏构造。

3、根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，

所述识别图案区域中的所述微细起伏构造的高度与其他区域相比不同。

4、根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，

在所述识别图案区域中混合存在着：所述微细起伏构造不存在的区域和所述微细起伏构造的高度与其他区域相比不同的区域。

5、根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，

所述间距方向上的所述识别图案区域的宽度为所述对象光的波段以下。

6、根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，

所述间距方向上的所述识别图案区域的宽度为100μm以下。

7、一种靠模标准原器，用于生成光学元件，

具备用于复制形成微细起伏构造的复制图案，

对于所述微细起伏构造，

在所述光学元件中对象光所透过的面内具备以比所述对象光的波段小的间距形成的微细起伏构造，

在所述微细起伏构造的形成区域的一部分上，具有所述微细起伏构造的形成状态与其他区域相比不同的识别图案区域。

8、根据权利要求7所述的靠模标准原器，其特征在于，

在所述识别图案区域不存在所述微细起伏构造。

9、根据权利要求7所述的靠模标准原器，其特征在于，

所述识别图案区域中的所述微细起伏构造的高度与其他区域相比不同。

10、根据权利要求7所述的靠模标准原器，其特征在于，

在所述识别图案区域中混合存在着：所述微细起伏构造不存在的区域和所述微细起伏构造的高度与其他区域相比不同的区域。

11、根据权利要求7所述的靠模标准原器，其特征在于，

所述间距方向上的所述识别图案区域的宽度为所述对象光的波段以下。

12、根据权利要求7所述的靠模标准原器，其特征在于，

所述间距方向上的所述识别图案区域的宽度为100μm以下。

13、一种树脂靠模，用于生成光学元件，

具备用于复制形成微细起伏构造的复制图案，

对于所述微细起伏构造，

在所述光学元件中对象光所透过的面内具备以比所述对象光的波段小的间距形成的微细起伏构造，

在所述微细起伏构造的形成区域的一部分上，具有所述微细起伏构造的形成状态与其他区域相比不同的识别图案区域。

14、根据权利要求13所述的树脂靠模，其特征在于，

在所述识别图案区域不存在所述微细起伏构造。

15、根据权利要求13所述的树脂靠模，其特征在于，

所述识别图案区域中的所述微细起伏构造的高度与其他区域相比不同。

16、根据权利要求13所述的树脂靠模，其特征在于，

在所述识别图案区域中混合存在着：所述微细起伏构造不存在的区域和所述微细起伏构造的高度与其他区域相比不同的区域。

17、根据权利要求13所述的树脂靠模，其特征在于，

所述间距方向上的所述识别图案区域的宽度为所述对象光的波段以下。

18、根据权利要求13所述的树脂靠模，其特征在于，

所述间距方向上的所述识别图案区域的宽度为100μm以下。

19、一种树脂模制品，用于生成光学元件，

具备用于复制形成微细起伏构造的复制图案，

对于所述微细起伏构造，

在所述光学元件中对象光所透过的面内具备以比所述对象光的波段小的间距形成的微细起伏构造，

在所述微细起伏构造的形成区域的一部分上，具有所述微细起伏构造的形成状态与其他区域相比不同的识别图案区域。

20、一种模具，用于生成光学元件，

具备用于复制形成微细起伏构造的复制图案，

对于所述微细起伏构造，

在所述光学元件中对象光所透过的面内具有以比所述对象光的波段小的间距形成的微细起伏构造，

在所述微细起伏构造的形成区域的一部分上，具有所述微细起伏构造的形成状态与其他区域相比不同的识别图案区域。

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