CN101289046A - 具有隐形图案的基材及其加工方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种具有隐形图案的基材及其加工方法。具有隐形图案的基材包括基材层和图案层，图案层为低折射率氧化膜，图案层镀在基材层的表面。加工方法是先依要呈现的图案制作镂空的冶具，再将此冶具装在基材层的表面，然后送入镀膜机台，将机台抽成真空后，镀上低折射率氧化膜材料形成图案层，再经电极处理。用此基材制成产品(如眼镜片)或包装(如酒瓶或饮料瓶)后，在通常情况下，图案层是隐形在产品或包装上，只在雾气下才可使隐形图案现形，如此，既方便产品使用及销售，又方便使用者和销售人员验证真伪。
Description
技术领域
本发明涉及一种适用于眼镜片、包装瓶等产品的基材，与基材上隐形图案的结构与加工方法有关。
背景技术
通常，很多高档产品(如眼镜、酒等)都会在产品本身或包装上加印商标标识或仿伪标记，以体现产品的品质。但是，目前这些商标标识或仿伪标记多以标贴形式出现，比如：在眼镜片上贴有透明膜，透明膜上印有商标标识或仿伪标记，酒瓶或饮料瓶上贴有标贴等等。这样的眼镜片在使用时，商标标识或仿伪标记会遮挡视线，造成使用效果欠佳；而酒瓶或饮料瓶则会因标贴遮挡，无法令消费者一目了然地看清瓶中内容物，造成销售麻烦……因此，研制一种能够将商标标识或仿伪标记等图案隐形在产品或包装上的技术，实有必要。
发明内容
本发明的目的在于提供一种具有隐形图案的基材及其加工方法，使图案仅在一定条件下呈现，方便产品使用及销售。
为了达成上述目的，本发明的解决方案是：
具有隐形图案的基材，包括基材层和图案层，图案层为低折射率氧化膜，图案层镀在基材层的表面。
上述低折射率氧化膜为氧化硅膜、氟化镁膜。
上述基材层为透明材质、半透明材质或不透明材质。
上述图案层镀在基材层的外表面或内表面。
具有隐形图案的基材加工方法，先依要呈现的图案制作镂空的冶具，再将此冶具装在基材层的表面，然后送入镀膜机台，将机台抽成真空后，镀上低折射率氧化膜材料形成图案层，再经电极处理(电离子交换)，即完成具有隐形图案的基材加工。
采用上述方案后，本发明因为在制作产品或包装的基材上通过镀膜增加一层低折射率氧化膜图案层，此低折射率氧化膜在通常情况下呈无色透明状而仅在雾气下显现出来，所以，用具有此低折射率氧化膜图案层的基材制成产品(如眼镜片)或包装(如酒瓶或饮料瓶)后，在通常情况下，图案层(商标标识或仿伪标记等图案)是隐形在产品或包装上，若欲进行检验，只需在隐形图案处呵气产生雾气，即可使隐形图案现形，如此，既方便产品使用及销售，又方便使用者和销售人员验证真伪。
附图说明
图1是本发明基材的外观图；
图1A是图1的局部剖视图；
图2是本发明基材的加工示意图；
图3是本发明基材的加工流程图。
具体实施方式
参阅图1、图1A所示，是本发明运用于眼镜片的实施例，本发明运用于酒瓶、饮料瓶或其它产品及包装上时与此实施例相同，请参见此实施例。
本发明揭示的具有隐形图案的基材，包括基材层1和图案层2。其中，基材层1可以为透明材质(如眼镜片、酒瓶、饮料瓶等，眼镜片可以是任意的一种眼镜片，如光学镜片或非光学镜片，可以有偏光膜等等)、半透明材质或不透明材质(如一些包装物等)。图案层2为低折射率氧化膜，如氧化硅膜、氟化镁膜，图案层2镀在基材层1的外表面(如酒瓶、饮料瓶等包装物的外表面，眼镜片的外表面)或内表面(如眼镜片的内表面)。
具体加工方法如图3所示，先依要呈现的商标标识或仿伪标记等图案制作镂空的冶具3，如图2所示，再将此冶具3装在基材层1的表面，然后送入镀膜机台，将机台抽成真空后，镀上低折射率氧化膜材料形成图案层2，如图1所示，再经电极处理(电离子交换)，即完成具有隐形图案的基材加工。
用本发明的基材制成产品(如眼镜片)或包装(如酒瓶或饮料瓶)后，因为低折射率氧化膜的特性决定，在通常情况下，图案层2(商标标识或仿伪标记等图案)是隐形在产品或包装上，若欲进行检验，只需在图案层2处呵气产生雾气，即可使隐形图案现形，如此，既方便产品使用及销售，又方便使用者和销售人员验证真伪。
Claims (9)
1、具有隐形图案的基材，其特征在于：包括基材层和图案层，图案层为低折射率氧化膜，图案层镀在基材层的表面。
2、如权利要求1所述具有隐形图案的基材，其特征在于：低折射率氧化膜为氧化硅膜。
3、如权利要求1所述具有隐形图案的基材，其特征在于：低折射率氧化膜为氟化镁膜。
4、如权利要求1所述具有隐形图案的基材，其特征在于：基材层为透明材质。
5、如权利要求1所述具有隐形图案的基材，其特征在于：基材层为半透明材质。
6、如权利要求1所述具有隐形图案的基材，其特征在于：基材层为不透明材质。
7、如权利要求1所述具有隐形图案的基材，其特征在于：图案层镀在基材层的外表面。
8、如权利要求1所述具有隐形图案的基材，其特征在于：图案层镀在基材层的内表面。
9、具有隐形图案的基材加工方法，其特征在于：先依要呈现的图案制作镂空的冶具，再将此冶具装在基材层的表面，然后送入镀膜机台，将机台抽成真空后，镀上低折射率氧化膜材料形成图案层，再经电极处理，即完成具有隐形图案的基材加工。
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Publications (1)
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Citations (2)
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| CN2657043Y (zh) * | 2003-10-13 | 2004-11-17 | 厦门全圣实业有限公司 | 眼镜镜片的复合层结构 |
| CN1800970A (zh) * | 2005-01-05 | 2006-07-12 | 三星Sdi株式会社 | 遮蔽掩模图案的形成方法 |
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2007
- 2007-04-17 CN CNA2007100088489A patent/CN101289046A/zh active Pending
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