CN101276604A - 将润滑剂涂层经含选择性打开和关闭闸门的蒸汽流路施加到磁盘的装置和方法 - Google Patents
将润滑剂涂层经含选择性打开和关闭闸门的蒸汽流路施加到磁盘的装置和方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101276604A CN101276604A CNA2008100898033A CN200810089803A CN101276604A CN 101276604 A CN101276604 A CN 101276604A CN A2008100898033 A CNA2008100898033 A CN A2008100898033A CN 200810089803 A CN200810089803 A CN 200810089803A CN 101276604 A CN101276604 A CN 101276604A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- gate
- lubricant
- disk
- flow path
- hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 title claims abstract description 89
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 23
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 70
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 29
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 18
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 18
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 13
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 abstract 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 38
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 13
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 5
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 5
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 3
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000007306 turnover Effects 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012364 Peperomia pellucida Nutrition 0.000 description 1
- 240000007711 Peperomia pellucida Species 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 210000001503 joint Anatomy 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000000153 supplemental effect Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8408—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers protecting the magnetic layer
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/842—Coating a support with a liquid magnetic dispersion
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B2220/00—Record carriers by type
- G11B2220/20—Disc-shaped record carriers
- G11B2220/25—Disc-shaped record carriers characterised in that the disc is based on a specific recording technology
- G11B2220/2508—Magnetic discs
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种将润滑剂涂层经含选择性打开和关闭闸门的蒸汽流路施加到磁盘的装置和方法。润滑剂涂层被作为润滑剂蒸汽施加到磁盘与被加热成蒸汽的液体润滑剂贮液器之间的润滑剂蒸汽流动路径中的磁盘上。该流动路径包括在贮液器之间的蒸汽腔室、有孔扩散器和选择性并同时解除阻挡以及阻挡所述流动路径的闸门。当该闸门关闭时，润滑剂蒸汽位于蒸汽腔室中。当该闸门打开时，润滑剂蒸汽从贮液器流经流动路径并流到保持器。在将磁盘施加到流动路径的实质上的暂停期间，闸门关闭并且蒸发热量被供应到液体润滑剂，使得蒸汽腔室中的压力能使贮液器中的液体容积实质上保持恒定。
Description
技术领域
本发明一般涉及一种将润滑剂蒸汽施加到硬磁盘的方法和装置，以及更尤其涉及其中蒸汽的流路包括选择性的打开与关闭的闸门的一种方法和装置。
背景技术
Hughes等人在美国专利6,183,831(在此引入其作为参考)公开了一种通过施加蒸汽形式，即气态形式的润滑剂(优选地为在美国专利5,776,577中公开的全氟聚醚(PFPE))到真空腔室中磁盘上的磁层，从而利用润滑剂薄膜涂敷硬磁盘的一种方法和装置。磁盘，通过承载叶片而被顺序装载到蒸汽的流路中，其中该叶片将磁盘提出传输进出真空腔室的盒子(cassette)。蒸汽通过供应充足的热量到真空腔室中源中形成润滑剂的液体而获得。所产生的蒸汽在入射到磁盘上之前流经气体扩散板。单一的石英晶体微大平(QCM)包括于计量器中，用于监控从液体润滑剂源蒸发的润滑剂蒸汽的流速，以控制被施加到液体润滑剂源的热量，并从而控制液体润滑剂的温度和从液体润滑剂源蒸发的蒸汽润滑剂的质量流速。
在Hughes等人的专利中描述的前述设置已经表现了满意效果，但是还可以作进一步改善。存在频繁且延长的空闲或暂停间隔，在此期间，不处理硬磁盘。在这些间隔期间，由于起始蒸发工艺相关的不稳定性，蒸汽被连续地从液体润滑剂源蒸发。因此，在该空闲期间，存在被消耗地大量未使用的、被浪费掉的润滑剂，导致了由将涂层施加到硬磁盘的设备的频繁停工所造成的大量损失和低效率。停工是因为需要补充润滑剂，较常于可能在空闲期间关闭润滑剂的情形。
由于蒸汽流路持续存在于现有系统中并且在每个沉积循环开始和结束时磁盘被提升和降低到蒸汽流路中，所以与磁盘底部相比，磁盘顶部具有更多的蒸汽沉积在其上。因此，润滑剂涂层在磁盘顶部比磁盘底部厚。
因此，本发明的目的是提供一种用于将润滑剂蒸汽施加到硬磁盘上的新的且改善的方法和装置。
本发明的另一目的是提供一种用于将润滑剂蒸汽施加到硬磁盘的新的且改善的方法和装置，使得在空闲期间消耗的润滑剂量最小化，即使在空闲期间热量被连续施加到液体润滑剂。
本发明的其它目的是提供一种用于将润滑剂蒸汽施加到硬磁盘的新的且改善的方法和装置，其大量减少了被浪费的液体润滑剂量。
本发明的进一步的目的是提供一种用于将润滑剂蒸汽施加到硬磁盘的新的且改善的方法和装置，其大量减少了液体润滑剂的成本。
本发明的其它目的是提供一种用于将润滑剂蒸汽施加到硬磁盘的新的且改善的方法和装置，以这种方式提供一种具有实质上均匀厚度的润滑剂涂层。
发明内容
根据本发明的一个方案，提供一种装置，其用于将润滑剂涂层施加到选择性固定到真空腔室中的保持器上的适当位置中的磁盘上同时在所述磁盘被固定在所述保持器的适当位置中时将可形成所述润滑剂涂层的蒸汽被施加到在其中一个磁盘上。该装置包含：液体的贮液器，其中液体可被蒸发以形成所述蒸汽；以及加热器，其用于将所述贮液器中的所述液体加热成润滑剂蒸汽。在所述磁盘位于所述保持器上的适当位置中时，来自所述贮液器的所述润滑剂蒸汽流到所述磁盘的流动路径；该流动路径包括(a)在所述磁盘位于所述流动路径中的适当位置中时，在所述贮液器贮液器和所述保持器之间的有孔扩散器，以及(b)在所述贮液器和所述有孔扩散器之间的蒸汽腔室。所述流动路径被设置在真空条件下同时所述贮液器中的液体被加热成润滑剂蒸汽。选择性阻挡所述流动路径的闸门被设置使得(a)在所述闸门关闭时所述润滑剂蒸汽被限定于所述蒸汽腔室中以及(b)在所述闸门打开时所述润滑剂蒸汽从所述贮液器流经所述流动路径并流到所述磁盘，同时所述磁盘位于所述流动路径中的适当位置中。
优选地，所述蒸汽腔室具有容积，使得响应所述闸门被关闭相对长的时间，在蒸发热量被供应到所述贮液器中的液体时，所述蒸汽腔室中的压力使得所述贮液器中的液体容积实质上保持恒定。
有孔扩散器优选地包括多个第一孔以及所述闸门包括在所述闸门打开时由至少部分第一孔对齐的第二孔。所述有孔扩散器和所述闸门设置成使得在所述闸门关闭时，没有第一孔和第二孔对齐。优选地，所述第一和第二孔，以及所述扩散器和所述闸门被设置为使得分别在所述闸门打开和关闭时所有的第一孔被同时解除阻挡以及同时阻抗。因此，相同量的润滑剂蒸汽被沉积在与所述润滑剂源相对的所述硬磁盘的表面的所有部分上，由此润滑剂涂层具有实质上均匀的厚度。
在优选实施方式中，所述有孔扩散器包括多个第一孔，以及所述闸门具有在所述闸门打开时与至少部分第一孔对齐的第二孔。所述有孔扩散器和所述闸门被设置使得在所述闸门关闭时没有第一孔和第二孔对齐。
本发明的进一步的方案涉及一种将润滑剂涂层施加到磁盘上的方法。该方法包括将所述磁盘装载到真空腔室中的保持器上；将蒸发热量施加到液体润滑剂，从而在所述磁盘位于所述保持器上的适当位置中时蒸发的液体润滑剂被供应到所述磁盘。所述蒸发的液体经由包括蒸汽腔室和有孔扩散器的流动路径以及打开的闸门而被供应到所述磁盘。在没有磁盘位于所述流动路径中时以及蒸发热量持续供应到所述液体润滑剂并且所述液体润滑剂持续蒸发时，关闭所述闸门。
当在所述磁盘到所述流动路径的应用中存在实质上的闲置或暂停时，在该暂停期间将所述闸门保持在关闭条件下以及在所述暂停期间持续供应蒸发热量到所述液体润滑剂，使得在所述暂停期间的所述蒸汽腔室中的压力能使所述蒸汽腔室中的液体贮液器中的液体容积实质上保持恒定。
在考虑以下其特定实施方式的详细描述时，本发明的上述和进一步的目的、特征和优点是显而易见的，特别是当结合附图理解时。
附图说明
图1是根据本发明的蒸汽源的优选实施方式的部分截面俯视图，并示意性示出了容纳待涂敷的硬磁盘的腔室；
图2是在图1中示出的，沿线2-2提取的结构的部分截面局部侧视图；
图3是在图1中示出的，沿线3-3提取的结构的部分界面局部侧视图；
图4是在图1中示出的，沿线4-4提取的结构的前视图；以及
图5是图1-4的蒸汽源的表面的温度的反馈控制回路的视图。
具体实施方式
现在将参照附图进行描述，附图包括润滑剂(通常称之为润滑油)源10和包括真空腔室14的外壳12，其中真空腔室14通过适当的真空泵(未示出)保持在适当的真空压力下。腔室14中是硬磁盘18的保持器16，其包括由铬层覆盖且依次由磁层覆盖的衬底层，如在前述专利中所公开的一样。保持器16从顺序地移动进出真空腔室14的盒子顺序地提起不同的硬磁盘，使得磁盘被放到如在图1-3中所示的位置，该位置在沉积在磁盘上的润滑剂蒸汽的路径中。该润滑剂优选地为PFPE。
源10包括保持在常压下的大气部分20和真空部分22，其中该真空部分22由于通常存在于真空部分22和腔室14之间的气流路径而保持在与腔室14中的真空度相同的真空压力下。由外壳25支撑的液体润滑剂贮液器24位于真空部分22中，包括(1)蒸汽容积26，(2)选择性打开和关闭的扩散闸门28和(3)扩散板30。
蒸汽容积26是具有以与彼此平行的平面34和36成直角延伸的柱状侧壁32并限定真空室的边界的空腔。贮液器24的一个面占据大部分表面34，并且扩散闸门28(图4)的第一平面占据大部分表面36。与扩散闸门的第一面平行的扩散闸门28的第二平面与扩散板30的第一平面毗邻。
如在图2和图3中所示，设置外壳25，使得液体润滑剂贮液器24包括三个堆叠的区段37、38、39，每个都包括由底(floor)41和凸缘或唇缘43以及后壁45形成的润滑剂池(well)。液体润滑剂被装载到每个区段37、38、39的池中，同时在源被连接到外壳12之前源10保持在常压下。在源10和外壳12的对接壁之间的真空密封(即，垫圈)48(图1-4)有助于保持真空腔室14和源10的真空部分22之间的真空。
贮液器24中的液体润滑剂通过源10的大气部分20中的电阻加热线圈50加热成蒸汽。蒸发的润滑剂从贮液器24流到蒸汽容积26中，其后通过打开的扩散闸门28和扩散板30而流向硬磁盘18和保持器16，同时在润滑剂蒸汽流经闸门28和板30的路径中，保持器将硬磁盘从盒子提起到在图1-3中所示的位置。
当扩散闸门28被关闭时，由于其发生在源10操作的实质上空闲或停工周期期间，同时没有硬磁盘被处理，所以扩散闸门和扩散板30中没有孔对齐，使得被蒸发的润滑剂快速填充蒸汽容积26。由于被蒸发的润滑剂填充蒸汽室26同时扩散闸门28被关闭，蒸汽室中的压力充分增加，使得额外的蒸汽不从贮液器24蒸发掉，即使通过加热线圈50施加到贮液器24中的液体润滑剂的热量大约保持为常数。因此，在实质上的大量空闲或停工期间，存在从贮液器24蒸发掉的最小量的被浪费的润滑剂。通过连续地将热量施加到贮液器24中的液体，避免了来自贮液器24的液体由于开始并停止贮液器24中的液体润滑剂加热过程而产生蒸发的不稳定性的趋势。
扩散板30包括具有多排密置的、相对小的圆形开口(未示出)，当关闭扩散闸门时，该圆形开口排列并对齐扩散闸门28中的相应开口52(图4)。在扩散板30的每个开口与闸门28的开口52之间存在一对一的对应。当扩散闸门28打开时，扩散闸门移动位置，使得开口52位于固定扩散板30的成排小圆形开口之间，从而为从贮液器24蒸发的润滑剂蒸汽提供经过扩散板30开口的流通路径。由于电机54驱动旋转连杆56，扩散闸门28选择性打开并关闭从贮液器24到硬磁盘18的蒸汽流动路径。电机54经由变速箱58而连接到连杆56，变速箱58由源10的外壳62上的凸缘60支撑；连杆(linkage)56在扩散闸门28和变速箱58直接连接，使得闸门响应电机54的轴的旋转而转动数个角度。扩散板30及其开口，以及闸门28及其开口52，以及连杆56，并从而使得扩散板30中的所有开口在闸门打开和关闭时通过闸门28和开口52被同时解除闭塞或同时阻挡。因此，被施加到磁盘18的磁层的润滑剂涂层具有充分均匀的厚度。
压电晶体70和72(都位于外壳71中)选择性监控经过蒸汽容积26的蒸汽润滑剂的沉积速度，使得在第一时间间隔期间排除晶体72外，晶体70被耦接到蒸汽容积26，并且在第二时间间隔期间排除晶体70外，晶体72被耦接到蒸汽容积。在第三时间间隔期间，晶体70或晶体72都不耦接到蒸汽室。在第一和第二间隔期间，蒸汽容积26中的润滑剂蒸汽的颗粒入射到晶体70和72上。在第三间隔期间，没有蒸汽润滑剂颗粒入射在晶体上。
闸门73选择性夹在容积26与晶体70和72之间的流体流动路径中以得到这些结果。闸门73减少晶体70和72在空闲或停工周期期间暴露于润滑剂蒸汽的时间，以通过延长晶体的有效寿命而减小维修费用。使用多级沉积速度监控晶体70和72，而不是使用单一沉积速度监控晶体，有助于实现相同的有益结果。
为此，蒸汽容积26的侧壁32包括沿着贮液器24和扩散闸门28之间的壁的长度而彼此相隔的对齐的开口74和76。开口74和76分别与具有分别紧邻压电晶体70和72，优选为可从Beaverton Oregon的Maxteck有限公司购得的QCM类型，的出口孔的柱状通道78和80流体相连通。旋转闸门73是由轴84驱动反过来由气动电机86和连杆88驱动的可旋转磁盘形式，所以闸门73选择性位于通道78和80的出口孔与晶体70和72之间。电机86位于大气中并且由与凸缘60连接的外壳89支撑。晶体70和72、闸门73、轴84和部分联接(linkage)88位于腔室14的真空中，而电机86、外壳89以及剩余的联接88位于常压下。
晶体70和72的外壳71递增地加热，直到在腔室14已经操作一会之后达到工艺腔室14的温度。然而，在与频率检测器124检测时，由晶体70和72检测并通过振荡器122(图5)获得的频率所指示的沉积速度的初始校准通常在生产循环开始时进行。同样地，当图1-4的整体通行处于动态热稳定状态时，晶体70或72的共振频率在完整的生产循环期间可能不代表真实的沉积速度。
为了降低对蒸气流速这种可能的难以控制性，晶体70和72的温度通过控制外壳71的温度而被有效控制为恒定。为此，冷却机构包括于外壳71中，以保持晶体70和72在恒定温度下，所以由晶体70和72获得的读取数通常参照流体冷却剂(合适的空气或水)的恒定温度。冷却剂流体通过管道75、77和79而流动进出外壳71，使得管77和79中的冷却剂流体分别提供晶体70和72的主要冷却。流经管79的加热冷却剂流回热交换器81，其在该处被冷却并循环回到管77和79。被热交换器81给予循环冷却剂流体的冷却量由嵌入外壳71中的温度检测器83控制，从而有效地监控晶体70和72的温度。检测器83通过适当的电缆(未示出)而电连接到热交换器。
蒸汽容积26的柱状侧壁32是加热部件90的一部分，其具有高热传导率，优选地由铜或其它相对不贵的材料、有助于部件90上的蒸汽润滑剂减少凝聚的高热传导率金属组成。由于部件90由高热传导率材料制成，所以部件90的每个壁的整体长度处于充分均匀的温度下，从而最小化了部件90的相同壁表面上蒸汽的差异凝结。
部件90包括圆形底座92，其为从电阻加热线圈50到贮液器24的热量提供高热传导率路径。部件90包括热挡板94。热挡板94是相较于部件90的其余部分具有高热阻的部件的一部分。热挡板94是在底座92和圆形凸缘96之间的圆形凹槽102，其内部周界形成蒸汽容积26的柱状侧壁32以使部件90具有两个热区域，一个由底座92形成以及第二个由凸缘96形成。部件90，与电阻加热元件和温度检测器设置结合，使蒸汽容积26的侧壁32处于预定温度下，诸如5℃，高于为从电阻加热线圈50到贮液器24中的液体提供高热传导率路径的部件90的底座92的温度。因此，最小化在蒸汽容积26中凝结到侧壁32上的润滑剂蒸汽，从而提供源10的更有效操作。
圆形底座92具有平面圆形表面98，其位于源10的真空部分22中并毗邻贮液器24的外壳25的平面圆形表面。表面98位于与从贮液器24到扩散闸门28的表面36的直线路径呈直角的表面中，其中从扩散闸门28的延伸环形凸缘或环96。底座92包括与表面98平行的平面圆形表面100。电阻加热线圈50包括毗邻表面100的平面圆形表面以有助于提供在电阻加热线圈和贮液器24之间的高热传导率路径。
底座90包括位于源10的大气部分20中的表面100中的深环形凹槽104。凹槽102差不多从表面100到表面102延伸，以在底座92和凸缘94之间形成窄颈(其组成热挡板(heat choke)94)。由于热挡板94，其可能通过使用有效温度控制以将底座92和凸缘94保持在不同的温度下。通过在凸缘94中紧邻壁32嵌入四个互相垂直的电阻加热线圈111-114，来提供有效的温度控制等等。在图2中仅示出了彼此直接相对的加热线圈111-113。
电阻温度检测器116和118分别嵌入到部件90的底座92和凸缘94中，以分别监控底座和凸缘的温度。因此，温度检测器116和118有效地得出表示(1)贮液器24中的液体润滑剂和(2)蒸汽容积26的壁的温度的响应。在图5中示意性示出的反馈控制器响应电阻温度检测器116和118，并表示蒸汽容积26中的润滑剂蒸汽流速，如通过压电晶体70或72的其中之一操作以控制底座92和凸缘94的温度。
现在将参照图5的示意性图描述响应由电阻温度检测器116和118检测的温度和由晶体70或72的其中之一检测的质量流速得来的信号的反馈控制器，以控制供应到毗邻部件90的底座92的电阻热线圈50和部件90凸缘94中串联连接的电阻加热线圈111-114的电流。每次晶体78或80其中之一为可操作的，使得该可操作的晶体通过开关120连接到振荡器122，以控制振荡器频率。开关120的接触位置与闸门73的位置同步，从而：(1)响应闸门73阻挡晶体72，开关120连接晶体70到振荡器122的输入端，(2)响应闸门73阻挡晶体70，开关120连接晶体72到振荡器122的输入端，以及(3)响应闸门73阻挡晶体70和72，开关120的位置不变化。
振荡器122的频率由通过开关120连接到振荡器的晶体70或72的共振频率所确定。因此，振荡器122的频率通常表示由有效的其中一个晶体70或72检测的润滑剂蒸汽的质量流速，如通过闸门73的位置确定。频率检测器124响应由振荡器122产生的频率，以驱动表示由振荡器122导出的频率的直流电压。函数发生器126响应由检出器124到处的直流电压，以导出表示由其中一个有效的晶体70或72检测的润滑剂蒸汽的质量流速。
函数发生器126的输出信号在幅度上与减法器130中的质量流速设定点信号源128的输出信号进行比较，其导出表示蒸汽容积26中的蒸汽润滑剂的期望质量流速与容积26中的蒸汽润滑剂的实际流速之间的偏差的误差信号。减法器130的误差输出信号被供应到函数发生器132，其将质量流速误差信号转化成贮液器24的温度的误差信号，即，对于控制供应到电阻加热线圈50的电流量产生影响的误差信号。
对于供应到电阻加热线圈50的电流的振幅，温度控制器134响应(1)函数发生器132的输出信号(2)由贮液器温度设定点源136导出的信号和(3)由电阻温度检测器116感测的温度。实质上，温度控制器134响应来自电阻温度检测器116和设定点源136的信号，以确定部件90的底座92的实际与期望温度之间的差，从而导出温度误差信号。温度误差信号由来自函数发生器132的信号修正，以补偿流经容积22的蒸汽润滑剂的质量流速中的误差。温度控制器134响应修正过的误差信号，以控制流经电阻加热线圈50的电流幅度，其反过来控制底座92的温度。
对于流经凸缘94中的串联电阻加热线圈111-114的电流幅度，温度控制器138响应根据响应由分别位于部件90的底座92和凸缘94中的电阻温度检测器116和118所检测的温度而导出的信号。另外，温度控制器138响应(1)贮液器24的温度的设定点信号，其由源136导出，以及(2)凸缘94和底座92之间的期望温度差的设定点信号，其由源140导出。实质上，温度控制器138通过响应根据电阻温度检测器116和118的电阻变化所导出的信号而确定底座92与凸缘94之间的温度差。底座92和凸缘94之间的温度差与由设定点源140导出的底座和凸缘之间的期望温度差进行比较，从而导出表示由温度控制器138供应到电阻加热线圈111-114的电流幅度中的变化。误差信号与贮液器温度设定点源136的输出信号结合，以控制由温度控制器138供应到电阻加热线圈111-114的实际电流幅度。
虽然已经描述并示出了本发明的特定实施方式，但是在不脱离由附属的权利要求所限定的本发明的实际精神和范围下，根据特别示出并描述的实施方式的详细内容可以进行变化是显而易见的。
Claims (11)
1、一种装置，其用于将润滑剂涂层施加到选择性固定到真空腔室中的保持器上的适当位置中的磁盘上同时在所述磁盘被固定在所述保持器的适当位置中时将可形成所述润滑剂涂层的蒸汽施加到其中一个磁盘上，该装置包含：
液体的贮液器，其中液体被蒸发以形成所述蒸汽；
加热器，其用于将所述贮液器中的所述液体加热成润滑剂蒸汽；
在所述磁盘位于所述保持器上的适当位置中时，来自所述贮液器的所述润滑剂蒸汽的流到所述磁盘的流动路径；该流动路径包括(a)在所述磁盘位于所述流动路径中的适当位置中时，在所述贮液器和所述保持器之间的有孔扩散器，以及(b)在所述贮液器和所述有孔扩散器之间的蒸汽腔室；所述流动路径被设置在真空条件下同时所述贮液器中的液体被加热成润滑剂蒸汽；以及
闸门，其用于选择性阻挡所述流动路径，所述闸门被设置使得(a)在所述闸门关闭时所述润滑剂蒸汽被限定到所述蒸汽腔室中以及(b)在所述闸门打开时所述润滑剂蒸汽从所述贮液器流经所述流动路径并流到所述磁盘，同时所述磁盘位于所述流动路径中的适当位置中。
2、根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述蒸汽腔室具有容积，使得响应所述闸门被关闭相对长的时间，在蒸发热量被供应到所述贮液器中的液体时，所述蒸汽腔室中的压力使得所述贮液器中的液体的容积实质上保持恒定。
3、根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述有孔扩散器包括许多第一孔，所述闸门包括在所述闸门打开时与至少部分所述第一孔对齐的第二孔，所述有孔扩散器和所述闸门设置为使得在所述闸门关闭时，没有第一孔和第二孔对齐。
4、根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述第一孔和第二孔，以及所述扩散器和所述闸门被设置，使得分别在所述闸门打开和关闭时所有的第一孔被同时解除阻挡以及同时阻挡。
5、根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述有孔扩散器包括多个第一孔，所述闸门包括在所述闸门打开时与至少部分第一孔对齐的第二孔，所述有孔扩散器和所述闸门被设置使得在所述闸门关闭时没有第一孔和第二孔对齐。
6、根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述第一孔和第二孔，以及所述扩散器和所述闸门被设置，使得分别在所述闸门打开和关闭时所有的第一孔被同时解除阻挡以及同时阻档。
7、一种将润滑剂涂层施加到磁盘上的方法，该方法包含：
将所述磁盘装载到真空腔室中的保持器上；
将蒸发热量施加到液体润滑剂，从而在所述磁盘位于所述保持器上的适当位置中时蒸发的液体润滑剂被供应到所述磁盘，所述蒸发的液体经由包括蒸汽腔室和有孔扩散器的流动路径以及打开的闸门而被供应到所述磁盘；以及
在没有磁盘位于所述流动路径中时以及蒸发热量保持续供应到所述液体润滑剂并且所述液体润滑剂持续蒸发时，关闭所述闸门。
8、根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述有孔扩散器包括多个第一孔，所述闸门包括在所述闸门打开与至少部分第一孔对齐的第二孔，所述有孔扩散器和所述闸门被设置使得在所述闸门关闭时没有第一和第二孔对齐，该方法进一步包含打开及关闭所述闸门，使得所有的第一孔分别被同时解除阻挡和同时阻挡。
9、根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在所述磁盘到所述流动路径的应用中存在实质上的暂停，该方法进一步包含在该暂停期间将所述闸门保持在关闭条件下以及在所述暂停期间持续供应蒸发热量到所述液体润滑剂，使得在所述暂停期间的所述蒸汽腔室中的压力能使所述蒸汽腔室中的液体贮液器中的液体容积实质上保持恒定。
10、根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述磁盘到所述流动路径的应用中存在实质上的暂停，该方法进一步包含在该暂停期间将所述闸门保持在关闭条件下以及在所述暂停期间持续供应蒸发热量到所述液体润滑剂，使得在所述暂停期间的所述蒸汽腔室中的压力能使所述蒸汽腔室中的液体贮液器中的液体容积实质上保持恒定。
11、一种将润滑剂涂层施加到磁盘的方法，该方法包含：
将蒸发热量施加到液体润滑剂，从而在所述磁盘位于所述保持器上的适当位置中时蒸发的液体润滑剂被供应到所述磁盘，所述蒸发的液体经由包括蒸汽腔室和有孔扩散器的流动路径以及打开的闸门而被供应到所述磁盘；
其中所述有孔扩散器包括多个第一孔，该闸门包括当所述闸门打开时与至少部分第一孔对齐的第二孔，所述有孔扩散器和所述闸门被设置，使得在所述闸门关闭时没有第一孔和第二孔对齐，该方法进一步包含打开及关闭所述闸门，分别使得所有的第一孔被同时接触阻挡以及同时阻挡。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US11/693,039 | 2007-03-29 | ||
| US11/693,039 US20080241367A1 (en) | 2007-03-29 | 2007-03-29 | Apparatus for and method of applying lubricant coatings to magnetic disks via a vapor flow path including a selectively opened and closed shutter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101276604A true CN101276604A (zh) | 2008-10-01 |
Family
ID=39577887
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNA2008100898033A Pending CN101276604A (zh) | 2007-03-29 | 2008-03-28 | 将润滑剂涂层经含选择性打开和关闭闸门的蒸汽流路施加到磁盘的装置和方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20080241367A1 (zh) |
| EP (1) | EP1975927A3 (zh) |
| JP (1) | JP2008266790A (zh) |
| KR (1) | KR20080088529A (zh) |
| CN (1) | CN101276604A (zh) |
| SG (1) | SG146592A1 (zh) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8382902B2 (en) * | 2000-04-12 | 2013-02-26 | Seagate Technology Llc | Single disc vapor lubrication |
| US6995121B1 (en) | 2002-06-24 | 2006-02-07 | Seagate Technology Llc | Stability polymeric lubricants and thin film recording media comprising same |
| US20090274835A1 (en) * | 2008-05-01 | 2009-11-05 | Seagate Technology Llc | Diffuser/shutter design for vapor phase lubrication process |
| JP5854731B2 (ja) * | 2010-11-04 | 2016-02-09 | キヤノン株式会社 | 成膜装置及びこれを用いた成膜方法 |
| JP5888919B2 (ja) * | 2010-11-04 | 2016-03-22 | キヤノン株式会社 | 成膜装置及び成膜方法 |
| JP2012112037A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-06-14 | Canon Inc | 成膜装置及びこれを用いた成膜方法 |
| KR20180067463A (ko) * | 2016-10-25 | 2018-06-20 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 증착 레이트를 측정하기 위한 측정 조립체, 증발 소스, 증착 장치, 및 이를 위한 방법 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4061800A (en) * | 1975-02-06 | 1977-12-06 | Applied Materials, Inc. | Vapor desposition method |
| US4478174A (en) * | 1983-02-25 | 1984-10-23 | Canadian Patents & Development Limited | Vacuum coating vessel with movable shutter plate |
| JPS63213116A (ja) * | 1987-02-28 | 1988-09-06 | Hoya Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2658815B2 (ja) | 1993-07-29 | 1997-09-30 | 日本電気株式会社 | 磁気記憶体 |
| US5906857A (en) * | 1997-05-13 | 1999-05-25 | Ultratherm, Inc. | Apparatus, system and method for controlling emission parameters attending vaporized in a HV environment |
| US6214410B1 (en) * | 1997-09-09 | 2001-04-10 | Seagate Technology Llc | Vacuum assisted lubrication of magnetic recording media |
| US6183831B1 (en) * | 1998-08-20 | 2001-02-06 | Intevac, Inc. | Hard disk vapor lube |
| DE59914510D1 (de) * | 1999-03-29 | 2007-11-08 | Antec Solar Energy Ag | Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung von Substraten durch Aufdampfen mittels eines PVD-Verfahrens |
| JP2003173520A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-06-20 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| DE10211573A1 (de) * | 2002-03-15 | 2003-10-16 | Unaxis Balzers Ag | Vakuumverdampfungseinrichtung |
-
2007
- 2007-03-29 US US11/693,039 patent/US20080241367A1/en not_active Abandoned
-
2008
- 2008-03-28 KR KR1020080029341A patent/KR20080088529A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-03-28 CN CNA2008100898033A patent/CN101276604A/zh active Pending
- 2008-03-28 SG SG200802488-7A patent/SG146592A1/en unknown
- 2008-03-28 EP EP08251165A patent/EP1975927A3/en not_active Withdrawn
- 2008-03-28 JP JP2008086162A patent/JP2008266790A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| SG146592A1 (en) | 2008-10-30 |
| KR20080088529A (ko) | 2008-10-02 |
| US20080241367A1 (en) | 2008-10-02 |
| EP1975927A2 (en) | 2008-10-01 |
| EP1975927A3 (en) | 2009-09-09 |
| JP2008266790A (ja) | 2008-11-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101276604A (zh) | 将润滑剂涂层经含选择性打开和关闭闸门的蒸汽流路施加到磁盘的装置和方法 | |
| JP6639580B2 (ja) | 蒸発器、堆積アレンジメント、堆積装置及びこれらを操作する方法 | |
| CN100570820C (zh) | 静电卡盘的诊断方法和真空处理装置 | |
| US9984908B2 (en) | Temperature control system, semiconductor manufacturing device, and temperature control method | |
| JP5551336B2 (ja) | Ｏｌｅｄの製造における有機材料の制御可能な供給 | |
| US20190326138A1 (en) | Ceramic wafer heater with integrated pressurized helium cooling | |
| JP4782219B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
| CN104882363B (zh) | 处理气体产生装置、处理气体产生方法、基板处理方法 | |
| JP5766720B2 (ja) | 気相蒸着供給源のための加熱システム | |
| WO2011149508A2 (en) | Apparatus and method for temperature control of a semiconductor substrate support | |
| JP4966028B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JP2018538429A (ja) | 堆積速度を測定するための測定アセンブリ、蒸発源、堆積装置及びそのための方法 | |
| US20190326139A1 (en) | Ceramic wafer heater having cooling channels with minimum fluid drag | |
| US20080236481A1 (en) | Method of and apparatus for monitoring mass flow rate of lubricant vapor forming lubricant coatings of magnetic disks | |
| JP2008001986A (ja) | 気化チューブを備えた物質の気化装置 | |
| US11605547B2 (en) | Temperature measuring mechanism, temperature measuring method, and stage device | |
| CN101276603A (zh) | 向磁盘流动的润滑剂蒸汽以在磁盘上形成润滑剂涂层基本防止在流动路径表面上凝结的方法和装置 | |
| CN105296928B (zh) | 线光源及具备此线光源的薄膜蒸镀装置 | |
| CN101469410A (zh) | 使用蒸汽供给设备的基板加工 | |
| JP2007224394A (ja) | 蒸着材料の蒸発方法および蒸発装置ならびに真空蒸着装置 | |
| JP6411675B2 (ja) | 堆積速度を測定するための方法及び堆積速度制御システム | |
| JP2018526615A (ja) | 発振水晶のための拡散バリア、堆積速度を測定するための測定アセンブリ及びその方法 | |
| JP2014152365A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| TWM619803U (zh) | 可調整晶圓溫度的承載盤及應用該承載盤的薄膜沉積裝置 | |
| JP2017025355A (ja) | 蒸着装置及び蒸着方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20081001 |