CN101265441A - 多晶硅片水基清洗剂 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种多晶硅片水基清洗剂，是浅黄色透明液体，有如下组分和重量百分配比：表面活性剂20～40、溶剂5～15、光亮剂10～20、分散剂(TD－1、TD－2)10～18、pH调节剂15～20、去离子水30～40。是利用表面活性剂的复配性能，提高了表面去污力及保持清洁度的持续性，同时可使硅片洗后无水痕，更加光亮，对于多晶硅片等物料具有良好的清洁效果，并且提高了清洗速度和耐用性能。配制浓度低、用料少，不仅降低了用户的使用成本，还减少了污水排放，达到了节能减排的目的。

Description

多晶硅片水基清洗剂
技术领域：
本发明涉及一种硅片超声波清洗剂，尤其是一种可提高去垢能力、清洗速度以及耐用性能的多晶硅片水基清洗剂。
背景技术：
硅片首先是将硅棒切割成片状，经过研磨、抛光、腐蚀等工序，以获得平整光洁的表面，然后再经过清洗、氧化、光刻、外延生长、固态扩散等复杂的加工过程，才能形成半导体材料。其中的清洗主要是去除切割过程中产生的沙粒、残留的水溶性线切割悬浮液、金属离子、指纹等，清洗效果将直接影响硅片的质量，必需满足除垢彻底、无腐蚀氧化、无残留等技术要求。目前，随着太阳能电池的日益增长率，清洗液的需求量也在逐年递增，但是，迄今为止还没有专用于多晶硅片的超声波清洗液。现有清洗液存在着去垢能力差、清洗速度慢以及耐用性能不强的缺点，导致作业用清洗剂浓度高、用量大，直接提高了生产成本，同时换槽频繁、次数多，增加了污水排放量，不利于环境保护。
发明内容：
本发明是为了解决现有技术所存在的上述技术问题，提供一种可提高去垢能力、清洗速度以及耐用性能的多晶硅片水基清洗剂。
本发明的技术解决方案是：一种多晶硅片水基清洗剂，其特征在于是浅黄色透明液体，有如下组分和重量百分配比：
表面活性剂  20～40
溶剂        5～15
光亮剂      10～20
分散剂      10～18
PH调节剂    15～20
去离子水    30～40。
所述的表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷醇酰胺、聚季胺盐、改性聚胺阳离子中的一种或两种。
所述的脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚为8～9个碳的伯醇或仲醇，乙氧基为8～10个，丙氧基为3～6。
所述脂肪醇聚氧乙烯醚为8～14个碳的醇，乙氧基为3～6个。
所述烷醇酰胺为16～18个碳的月桂基或椰子油基。
所述的溶剂为乙醇、萜烯、C8～C12醇混合脂、低碳醇混合脂中的一种或两种。
所述PH调节剂为单乙醇胺、碳酸钠、乳酸、柠檬酸、羟基乙酸的一种或三种。
所述的光亮剂为甲基甘氨酸钾、改性马来酸和丙烯酸聚合物、改性聚合物钠的一种或两种。
本发明是利用表面活性剂的复配性能，提高了表面去污力及保持清洁度的持续性，同时可使硅片洗后无水痕，更加光亮，对于多晶硅片等物料具有良好的清洁效果，并且提高了清洗速度和耐用性能。配制浓度低、用料少，不仅降低了用户的使用成本，还减少了污水排放，达到了节能减排的目的。
具体实施方式：
原料及重量百分比如下：一种多晶硅片水基清洗剂，其特征在于是浅黄色透明液体，有如下组分和重量百分配比：表面活性剂20～40、溶剂5～15、光亮剂10～20、分散剂(TD-1、TD-2)10～18、PH调节剂15～20、去离子水30～40。
所述的表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷醇酰胺、聚季胺盐、改性聚胺阳离子中的一种或两种。
所述的脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚为8～9个碳的伯醇或仲醇，乙氧基为8～10个，丙氧基为3～6。
所述脂肪醇聚氧乙烯醚为8～14个碳的醇，乙氧基为3～6个。
所述烷醇酰胺为16～18个碳的月桂基或椰子油基。
所述的溶剂为乙醇、萜烯、C8～C12醇混合脂TC-800，低碳醇混合脂TY-609中的一种或两种。
所述PH调节剂为单乙醇胺、碳酸钠、乳酸、柠檬酸、羟基乙酸的一种或三种。
所述的光亮剂为甲基甘氨酸钾、改性马来酸和丙烯酸聚合物、改性聚合物钠的一种或两种。
各原料可在重量范围内进行选择，使重量之和为100％，配制产品的外观为浅黄色透明液体。
适用本发明清洗工艺如下：
清洗产品：切割后的多晶硅片。
使用药剂：本发明实施例。
使用浓度：按3％配比，清洗槽约130升，实际使用量为4升。
清洗时间：300S
使用温度：60～65℃左右。
在用量及其他清洗条件相同时，通过多次清洗，得出以下数据：
  清洗剂   原清洗剂   本发明实施例
  清洗数量   5000片   8000片以上
通过以上数据可以看出本发明的耐用性能与现有技术相比大大提高。清洗后的残液颜色加深，说明清洗液得到了充分的利用，清洗剂成本支出大幅下降。大大减少了换槽次数，污水排放量大幅减少，达到了节能减排的目的。溶垢力更强，可在短时间内彻底清除硅片表面的铁离子和各种杂质，使硅片洗后无水痕，而且更加光亮。

Claims (8)

1.一种多晶硅片水基清洗剂，其特征在于是浅黄色透明液体，有如下组分和重量百分配比：
表面活性剂 20～40
溶剂       5～15
光亮剂     10～20
分散剂     10～18
PH调节剂   15～20
去离子水   30～40。
2.根据权利要求1所述的多晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述的表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷醇酰胺、聚季胺盐、改性聚胺阳离子中的一种或两种。
3.根据权利要求1所述的多晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述的脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚为8～9个碳的伯醇或仲醇，乙氧基为8～10个，丙氧基为3～6。
4.根据权利要求2或3所述的多晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述脂肪醇聚氧乙烯醚为8～14个碳的醇，乙氧基为3～6个。
5.根据权利要求4所述的多晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述烷醇酰胺为16～18个碳的月桂基或椰子油基。
6.根据权利要求1所述的多晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述的溶剂为乙醇、萜烯、C8～C12醇混合脂、低碳醇混合脂中的一种或两种。
7.根据权利要求1所述的多晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述PH调节剂为单乙醇胺、碳酸钠、乳酸、柠檬酸、羟基乙酸的一种或三种。
8.根据权利要求1所述的多晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述的光亮剂为甲基甘氨酸钾、改性马来酸和丙烯酸聚合物、改性聚合物钠的一种或两种。
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PB01 Publication
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WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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