CN101241953A - 提高单晶硅太阳能电池减反射膜质量的方法 - Google Patents
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Abstract
一种PECVD沉积SiN薄膜工艺,是一种产品致密性好、均匀性好、附着性好的PECVD沉积SiN薄膜工艺。本发明经过清洁单晶硅片、在PECVD设备真空室内升温至300℃~400℃并保持稳定时,给真空室冲入流量3500ml/min的NH3气体至200Pa左右,并加高频功率使其放电,进行体钝化,然后在反应室内通入流量245ml/min的SiH4气体和2800ml/min的NH3气体,并使反应室真空保持在265Pa左右,并加高频功率使其放电,进行沉积,本发明可以制作出致密性好、均匀性好、附着性好的SiN薄膜,并可使薄膜厚度控制在600埃~667埃之间,具有沉积温度低,沉积效率高的优点。
Description
技术领域
本发明涉及一种在单晶硅太阳能电池表面沉积高质量SiN薄膜的方法。属于太阳能应用领域
背景技术
目前单晶硅太阳能电池片减反射膜的制造是采用PECVD方法在单晶硅电池片衬底上沉积SiN薄膜。由于反应气体在反应室各处的比例不同,使得薄膜在沉积过程出现不均匀的情况。而且单晶硅片也存在晶界、点缺陷(空位、填隙原子、金属杂质、氧、氮及他们的复合物)对材料表面和体内缺陷的钝化也是很重要。本发明解决了单晶硅太阳能电池片体钝化的问题,提供了一种能生产出致密性好、均匀性好、附着性好的PECVD沉积SiN薄膜工艺。
发明内容
本发明解决了单晶硅太阳能电池片体钝化的问题,提供了一种能生产出致密性好、均匀性好、附着性好的PECVD沉积SiN薄膜工艺。
本发明的技术方案如下:
1、清洁单晶硅片:将二次清洗工序流至PECVD工序的硅片清理干净,保持硅片表面清洁无水渍。
2、体钝化:钝化工艺有多种方法,在这里我们采用热氧化使硅悬挂键饱和的方法,使Si-SiO2界面的复合速度大大下降,其钝化效果取决于发射区的表面浓度、界面态密度和电子、空穴的浮获截面。具体方法为将硅片放入PECVD真空室内,抽真空,并开始升温至300℃~400℃,温度达到后在反应室内通入适量NH3气体,开启高频电源放电5~10分钟时间,目的是为了加速钝化速度,使钝化效果更加明显。该工艺可应用于规模化生产中。应用此方法可使表面复合速度小于20cm/s。
3、沉积:体钝化后,在反应室内通入一定比例的SiH4和NH3气体,保持1~2分钟时间,让气体在反应室内各处保持一致,然后开启高频电源放电2分钟后,停止高频放电,切断气体通入,将反应室内残余气体抽干净。
本方案通过工艺参数的调整解决了PECVD沉积SiN薄膜的厚度和均匀性问题,使SiN薄膜能够很好的附着在硅片上。采用较低温度下沉积和调整真空室放电气压、反应气体比例、高频电源功率等参数,并在完成薄膜沉积前进行体钝化,使硅基体悬挂键饱和,从而让制作的薄膜具有应力小,附着性好、沉积效率高的优点。本发明制作的SiN薄膜,厚度可以达到600埃~667埃的厚度。
具体实施方案:
清洁单晶硅片:将二次清洗工序流至PECVD工序的硅片用氮气吹干净,保证表面干净无水渍。
体钝化:将清洁后的硅片插入石墨舟后,放入PECVD设备真空室内,抽真空,并开始升温至400℃,当反应室真空达到15Pa、温度达到400℃后,在反应室内通入流量3500ml/min NH3气体,使反应室真空保持在200Pa左右,将高频电源功率设置为1400w并开启,让硅片在反应室放电5分钟时间后关闭高频电源,切断NH3气体。
沉积:体钝化后,在反应室内通入流量245ml/min的SiH4气体和2800ml/min的NH3气体,并使反应室真空保持在265Pa左右1~2分钟时间,目的是让气体在反应室内各处保持一致,然后将高频电源设置为1500w并开启,让硅片在反应室放电2分钟后,停止高频放电,切断气体通入,将反应室内残余气体抽干净,再充入氮气后抽空,反复3次后,便可将硅片从反应室取出,沉积步骤完成。
其中,气体流量比例、沉积时间、高频电源功率、反应室温度、反应室压力均为重要参数,必须很好配合使用,才能制备最优的SiN减反射膜。
使用过程:在单晶硅片上沉积600埃~667埃厚度的SiN薄膜后,再经过丝网印刷、烧结等工艺环节,便可制备出反射率<1%的太阳能电池片。
根据本发明制作的200~300微米厚度的单晶硅太阳能电池片,减反射SiN薄膜厚度能控制在600埃~667埃之间,折射率为1.9左右,反射率<1%,配合各道工序工艺,最高转换效率能达到17%,平均转化效率能达到16.1%。
Claims (1)
1. 一种PECVD沉积SiN薄膜工艺,其特征在于:其工艺包括以下步骤:
(1)清洁单晶硅片:将二次清洗工序流至PECVD工序的硅片清理干净,保持硅片表面清洁无水渍。
(2)体钝化:将硅片放入PECVD真空室内,抽真空,并开始升温至300℃~400℃,温度达到后在反应室内通入适量NH3气体,开启高频电源放电5~10分钟时间。
(3)沉积:在反应室内通入一定比例的SiH4和NH3气体,保持1~2分钟时间,让气体在反应室内各处保持一致,然后开启高频电源放电2分钟后,停止高频放电,切断气体通入,将反应室内残余气体抽干净。
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Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101956180A (zh) * | 2010-07-14 | 2011-01-26 | 中国科学院电工研究所 | 一种减反射薄膜SiNx:H表面原位NH3等离子体处理方法 |
CN102071407A (zh) * | 2011-01-25 | 2011-05-25 | 山东舜亦新能源有限公司 | 一种在pn结硅芯片上形成减反射膜的方法 |
CN102154626A (zh) * | 2010-12-31 | 2011-08-17 | 常州天合光能有限公司 | 一种测量硅片扩散长度的表面处理方法 |
CN102185010A (zh) * | 2010-12-02 | 2011-09-14 | 江阴浚鑫科技有限公司 | 一种应用于太阳能电池的优化钝化方法 |
CN102199760A (zh) * | 2011-04-28 | 2011-09-28 | 浙江鸿禧光伏科技股份有限公司 | 一种双层氮化硅减反膜的制作方法 |
CN102222718A (zh) * | 2010-04-19 | 2011-10-19 | 浙江索日光电科技有限公司 | 太阳能电池片镀膜工艺 |
CN102420109A (zh) * | 2011-06-15 | 2012-04-18 | 上海华力微电子有限公司 | 一种提高mim器件电容均匀性的方法 |
WO2012058822A1 (zh) * | 2010-11-04 | 2012-05-10 | 中国科学院微电子研究所 | 一种黑硅钝化方法 |
CN103022256A (zh) * | 2012-12-27 | 2013-04-03 | 中利腾晖光伏科技有限公司 | 晶体硅太阳能电池镀膜方法 |
CN104037264A (zh) * | 2014-06-12 | 2014-09-10 | 中节能太阳能科技(镇江)有限公司 | 一种pecvd沉积低表面复合太阳电池介电层的方法 |
CN104752165A (zh) * | 2013-12-27 | 2015-07-01 | 株式会社Eugene科技 | 用于形成薄膜的循环沉积法、半导体制造方法和半导体器件 |
CN106328759A (zh) * | 2016-08-24 | 2017-01-11 | 山西潞安太阳能科技有限责任公司 | 一种提高多晶硅双面太阳能电池背面开压的镀膜工艺 |
DE112017001567T5 (de) | 2016-09-14 | 2018-12-20 | Nano Technology Co., Ltd. | Ein Schnellherstellungsverfahren für ein Aerogel mit einer Mikroemulsion als Prekursor |
CN112635619A (zh) * | 2020-12-21 | 2021-04-09 | 韩华新能源(启东)有限公司 | 晶硅太阳能电池多层膜的等离子体处理方法及太阳能电池 |
CN113707526A (zh) * | 2020-05-20 | 2021-11-26 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 零部件、形成耐等离子体涂层的方法和等离子体反应装置 |
-
2007
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Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102222718A (zh) * | 2010-04-19 | 2011-10-19 | 浙江索日光电科技有限公司 | 太阳能电池片镀膜工艺 |
CN101956180A (zh) * | 2010-07-14 | 2011-01-26 | 中国科学院电工研究所 | 一种减反射薄膜SiNx:H表面原位NH3等离子体处理方法 |
WO2012058822A1 (zh) * | 2010-11-04 | 2012-05-10 | 中国科学院微电子研究所 | 一种黑硅钝化方法 |
CN102185010A (zh) * | 2010-12-02 | 2011-09-14 | 江阴浚鑫科技有限公司 | 一种应用于太阳能电池的优化钝化方法 |
CN102154626A (zh) * | 2010-12-31 | 2011-08-17 | 常州天合光能有限公司 | 一种测量硅片扩散长度的表面处理方法 |
CN102071407A (zh) * | 2011-01-25 | 2011-05-25 | 山东舜亦新能源有限公司 | 一种在pn结硅芯片上形成减反射膜的方法 |
CN102199760A (zh) * | 2011-04-28 | 2011-09-28 | 浙江鸿禧光伏科技股份有限公司 | 一种双层氮化硅减反膜的制作方法 |
CN102420109B (zh) * | 2011-06-15 | 2014-12-10 | 上海华力微电子有限公司 | 一种提高mim器件电容均匀性的方法 |
CN102420109A (zh) * | 2011-06-15 | 2012-04-18 | 上海华力微电子有限公司 | 一种提高mim器件电容均匀性的方法 |
CN103022256A (zh) * | 2012-12-27 | 2013-04-03 | 中利腾晖光伏科技有限公司 | 晶体硅太阳能电池镀膜方法 |
CN103022256B (zh) * | 2012-12-27 | 2015-04-22 | 中利腾晖光伏科技有限公司 | 晶体硅太阳能电池镀膜方法 |
CN104752165A (zh) * | 2013-12-27 | 2015-07-01 | 株式会社Eugene科技 | 用于形成薄膜的循环沉积法、半导体制造方法和半导体器件 |
CN104037264A (zh) * | 2014-06-12 | 2014-09-10 | 中节能太阳能科技(镇江)有限公司 | 一种pecvd沉积低表面复合太阳电池介电层的方法 |
CN106328759A (zh) * | 2016-08-24 | 2017-01-11 | 山西潞安太阳能科技有限责任公司 | 一种提高多晶硅双面太阳能电池背面开压的镀膜工艺 |
CN106328759B (zh) * | 2016-08-24 | 2018-03-02 | 山西潞安太阳能科技有限责任公司 | 一种提高多晶硅双面太阳能电池背面开压的镀膜工艺 |
DE112017001567T5 (de) | 2016-09-14 | 2018-12-20 | Nano Technology Co., Ltd. | Ein Schnellherstellungsverfahren für ein Aerogel mit einer Mikroemulsion als Prekursor |
CN113707526A (zh) * | 2020-05-20 | 2021-11-26 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 零部件、形成耐等离子体涂层的方法和等离子体反应装置 |
CN113707526B (zh) * | 2020-05-20 | 2024-05-24 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 零部件、形成耐等离子体涂层的方法和等离子体反应装置 |
CN112635619A (zh) * | 2020-12-21 | 2021-04-09 | 韩华新能源(启东)有限公司 | 晶硅太阳能电池多层膜的等离子体处理方法及太阳能电池 |
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