CN101231428A - 液晶装置及电子设备 - Google Patents

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Abstract

本发明的液晶装置具备夹持液晶层的一对基板，使所述液晶层的取向状态从喷射取向向弯曲取向转移来进行显示，其中，在一个子像素区域内设置有反射显示区域(R)和透过显示区域(T)，并且在所述透过显示区域(T)与所述反射显示区域(R)之间使所述液晶层的层厚不同，所述透过显示区域(T)被所述反射显示区域(R)夹持。由此，可提供一种半透过反射型的液晶装置，该液晶装置能够以低电压迅速地进行使取向从喷射取向向弯曲取向转移的初始取向转移。

Description

液晶装置及电子设备
技术领域
本发明涉及液晶装置及电子设备。
背景技术
以往，作为便携式电子设备的显示部，采用了半透过反射型的液晶装置。近年来，为了提高运动图像显示的质量，提出了一种以响应速度出色的OCB(Optically Compensated Bend)模式构成半透过反射型液晶装置的方案(参照专利文献1～3)。
专利文献1公开了一种在反射电极的下层设置多间隙(multi gap)构造，并将液晶的预倾斜角设为10°以上的方案。专利文献2公开了一种在多间隙构造的透过部设置凹凸的初始转移构造的方案。专利文献3通过在反射部的电极上设置绝缘膜，使透过显示与反射显示的T-V(透过率-电压)特性一致，并进行了反射部的平坦化。
【专利文献1】特开2005-352134号公报
【专利文献2】特开2006-113259号公报
【专利文献3】特开2006-285128号公报
专利文献1～3所公开的全都是半透过反射型OCB模式的液晶装置，但对于OCB模式的液晶装置中所必须的从喷射(spray)取向向弯曲(bend)取向的初始取向转移的扩大而言，虽然在液晶装置的使用上或显示品质上极其重要，然而上述三个专利文献都几乎没有考虑。因此，在上述现有的构成中，虽然转移时间增加，但初始转移操作不充分，有可能在使用时或显示中发生不良情况。
发明内容
本发明鉴于上述现有技术问题而提出，其目的在于提供一种半透过反射型的液晶装置，该液晶装置能够以低电压迅速地进行使取向从喷射取向向弯曲取向转移的初始取向转移。
为了解决上述课题，本发明的液晶装置具备夹持液晶层的一对基板，使所述液晶层的取向状态从喷射取向向弯曲取向转移来进行显示，其特征在于，在一个子像素区域内设置有反射显示区域和透过显示区域，并且在所述透过显示区域与所述反射显示区域之间使所述液晶层的层厚不同，所述子像素区域的所述透过显示区域被所述反射显示区域夹持。
本发明的液晶装置是在子像素区域内根据部位使液晶层的层厚不同的多间隙构造的半透过反射型液晶装置。在该液晶装置中，由于反射显示区域的液晶层厚比透过显示区域的液晶层厚薄，所以，作用于反射显示区域的液晶层的电场强于透过显示区域中的电场。因此，如果在初始转移操作时对液晶层施加电压，则反射显示区域中比透过显示区域容易产生初始转移核(弯曲核)，而且初始转移核的传播也变得顺畅。
因此，在本发明中，鉴于这种反射显示区域的特性，将透过显示区域配置到被反射显示区域夹持的位置，并在初始转移操作时成为初始转移核的产生区域的信号布线(扫描线、数据线等)附近配置反射显示区域。由此，可以将子像素区域的周缘部产生的初始转移核顺畅地导入到反射显示区域，进而在反射显示区域中可使初始转移核顺畅地传播。
从而，根据本发明的液晶装置，可以在子像素区域的整体均匀且迅速地扩大初始转移，能够抑制因初始转移不充分而引起的显示上的不良情况。
而且，优选在所述一对基板的至少一方基板的所述液晶层侧，形成有遍及邻接的两个所述子像素区域的所述反射显示区域的液晶层厚调整层。
根据这样的构成，由于子像素区域之间的区域中的液晶层厚成为与反射显示区域同等的厚度，所以，和反射显示区域同样容易产生初始转移核，而且其传播也变得顺畅。因此，由于可促进子像素区域的周缘部的初始转移核的产生，因此，能够可靠且迅速地进行初始转移操作。
优选所述一对基板中的一方基板具有和与所述子像素区域对应配置的开关元件电连接的信号布线，在所述一对基板中另一方基板的所述液晶层侧形成有液晶层厚调整层。即，优选成为液晶层厚调整层不设置在形成有信号布线的基板中的构成。
通过采用这样的构成，可减小在元件基板中作为转移核形成单元而发挥功能的信号布线或开关元件与液晶层的距离，能够高效地形成初始转移核。
优选所述反射显示区域配置在所述子像素区域的长度方向的两端部。
通过采用这样的构成，由于可以从子像素区域的长度方向的两端部使初始转移扩大，所以，子像素区域的整体能够均匀地进行初始转移。
还可以在所述反射显示区域内设置转移核形成单元。
通过这样在反射显示区域配置转移核形成单元，与将转移核形成单元配置到透过显示区域的情况相比，可顺畅地进行初始转移核的产生、传播。
可以在所述反射显示区域与所述透过显示区域之间设置转移核形成单元。
在多间隙构造的液晶装置中，由于对反射显示区域与透过显示区域之间的区域而言，液晶层的厚度连续变化，所以，液晶的取向容易紊乱。如果在这样的区域配置转移核形成单元，能够更可靠地产生转移核。
可以在邻接的子像素区域之间设置转移核形成单元。
如果这样在反射显示区域附近的子像素之间的区域配置转移核形成单元，则能够容易地在反射显示区域中扩大由转移核形成单元产生的初始转移。
优选所述转移核形成单元是和与所述子像素区域对应形成的开关元件电连接的信号布线、或与所述子像素区域对应形成的电极。即，可使用能够对液晶层施加所期望的电压的单元作为转移核形成单元。
所述转移核形成单元是所述液晶层中的、与所述子像素内的取向状态不同的取向状态的区域。
通过如此设置取向状态不同的区域，由于在该区域的液晶与子像素内的液晶之间容易发生旋错(disclination)，且其成为初始转移核，所以，能够在短时间内可靠地执行初始转移操作。
在所述不同取向状态的区域中，所述液晶层的液晶分子可以呈垂直取向，所述液晶分子也可以呈扭曲取向。任意一种取向状态，都会成为可在子像素区域中容易地扩大初始转移的液晶装置。
所述转移核形成单元可以是保持所述一对基板的间隔的隔离物。由于在隔离物的附近液晶分子的取向容易随机，易于产生初始转移核，所以，可利用隔离物作为转移核形成单元。
本发明的电子设备具备先前所述的本发明的液晶装置。根据该构成，可有效防止因初始转移操作引起的显示不良，能够提供一种具备可实现高画质、高速响应显示的显示部的电子设备。
附图说明
图1是表示第一实施方式的液晶装置的整体构成的图。
图2是第一实施方式的液晶装置的等效电路图。
图3是表示第一实施方式的液晶装置中的一个子像素区域的俯视图。
图4是沿着图3的IV-IV线的液晶装置的剖面图。
图5是表示液晶的取向状态的说明图。
图6是第二实施方式的液晶装置中的子像素区域的俯视图。
图7是沿着图6的VII-VII线的液晶装置的剖面图。
图8是第三实施方式的液晶显示装置中的子像素区域的局部俯视图。
图9是表示电子设备的一个例子的立体图。
图中：100、200-液晶装置，10-元件基板，20-对置基板，9-像素电极，19a、19b-反射电极，19c-透明电极，26-液晶层厚调整层，30、30A-TFT(开关元件)，50-液晶层，51-液晶分子，R-反射显示区域，T-透过显示区域。
具体实施方式
下面，参照附图对本发明的实施方式进行说明。
其中，以下的说明中所使用的各附图中，为了能够识别各部件的大小，对各部件进行了适当的比例变更。
(第一实施方式)
图1(a)是表示本实施方式的液晶装置的俯视图，图1(b)是沿着图1(a)的H-H’线的剖面图。图2是表示液晶装置的等效电路图，图3是子像素区域的平面构成图，图4是沿着图3的A-A’线的液晶装置的剖面图。图5是表示液晶分子的取向状态的概略图。
本实施方式的液晶装置100是有源矩阵方式的透过型液晶装置，由输出R(红)、G(绿)、B(蓝)各色光的三个子像素构成一个像素。这里，将构成显示的最小单位的显示区域称为“子像素区域”，将由三个子像素形成的显示区域称为“像素区域”。
如图1所示，液晶装置100具备：元件基板(第一基板)10、与元件基板10对置配置的对置基板(第二基板)20、和夹持在元件基板10及对置基板20之间的液晶层50。而且，液晶装置100通过密封件52将元件基板10及对置基板20粘接在一起，并将液晶层50密封到由密封件52划分的区域内。沿着密封件52的内周形成有周边划分部53，将被周边划分部53包围的俯视(从对置基板20侧观察元件基板10的状态)为矩形形状的区域设为图像显示区域10a。另外，液晶装置100还具备：在密封件52的外侧区域设置的数据线驱动电路101及扫描线驱动电路104、与数据线驱动电路101及扫描线驱动电路104导通的连接端子102、和对扫描线驱动电路104之间进行连接的布线105。
如图2所示，在液晶装置100的图像显示区域10a中，以俯视为矩阵状排列有多个子像素区域。对应各子像素区域，设置有像素电极9、和对像素电极9进行开关控制的TFT(Thin Film Transistor：薄膜晶体管)30。在图像显示区域10a中还以栅格状延伸形成有多条数据线6a和扫描线3a。
数据线6a与TFT30的源极电连接，扫描线3a与TFT30的栅极电连接。TFT30的漏极与像素电极9电连接。数据线6a与数据线驱动电路101连接，将由数据线驱动电路101供给的图像信号S1、S2、…Sn提供给各子像素区域。扫描线3a与扫描线驱动电路104连接，将由扫描线驱动电路104供给的扫描信号G1、G2、…Gm提供给各子像素区域。
从数据线驱动电路101向数据线6a供给的图像信号S1～Sn可以按该顺序线性顺次供给，也能够按组对相互邻接的多条数据线6a彼此进行供给。扫描线驱动电路104以规定的定时按脉冲方式向扫描线3a线性顺次供给扫描信号G1～Gm。
液晶装置100构成为：作为开关元件的TFT30基于扫描信号G1～Gm的输入而导通一定期间，由此，由数据线6a供给的图像信号S1～Sn以规定的定时被写入到像素电极9中。并且，经由像素电极9写入到液晶中的规定电平的图像信号S1～Sn，在像素电极9与隔着液晶层50对置配置的后述公共电极之间保持一定期间。
这里，为了防止所保持的图像信号S1～Sn发生泄漏，使蓄积电容17与在像素电极9和公共电极之间形成的液晶电容并联连接。蓄积电容17设置在TFT30的漏极与电容线3b之间。
接着，参照图3及图4，对液晶装置100的详细构成进行说明。图3中，将俯视下大致为矩形状的子像素区域的长轴方向、像素电极9的长轴方向及数据线6a的延伸方向规定为X轴方向；将子像素区域的短轴方向、像素电极9的短轴方向、扫描线3a及电容线3b的延伸方向规定为Y轴方向。
如图4所示，液晶装置100具备：夹持液晶层50而对置的元件基板10及对置基板20、配置在元件基板10的外侧(与液晶层50相反一侧)的相位差板33及偏光板36、配置在对置基板20的外侧(与液晶层50相反一侧)的相位差板34及偏光板37、和设置在偏光板36的外侧并从元件基板10的外面侧照射照明光的照明装置60。液晶层50以OCB模式动作，在液晶装置100动作时，如图4所示，液晶分子51呈以近似弓形取向的弯曲取向。
如图3所示，在各子像素区域中，沿着在一个方向(X轴方向)上较长的俯视形状为矩形的像素电极9。在像素电极9的边中，数据线6a沿着长边的缘延伸，扫描线3a沿着短边的缘延伸。在扫描线3a的像素电极9侧，形成有与扫描线3a平行延伸的电容线3b。
像素电极9由配置成沿长轴方向划分子像素区域的2个反射电极19a、19b和透明电极19c构成。反射电极19a、19b及透明电极19c相互电连接。反射电极19a和反射电极19b分别配置在子像素区域的长轴方向的两端部，透明电极19c配置在被这些反射电极19a、19b夹持的位置。在本实施方式中，反射电极19a、19b的形成区域是使外光反射来进行显示的反射显示区域R，透明电极19c的形成区域是利用由照明装置60供给的照明光来进行显示的透过显示区域T。
反射电极19a、19b由铝或银等光反射性的金属膜等构成，透明电极19c由ITO(铟锡氧化物)等透明导电膜构成。
俯视下，反射电极19b与电容线3b局部重合配置，反射电极19a与邻接的子像素区域的扫描线3a局部重合配置。在反射电极19b与电容线3b俯视下重合的区域形成有像素电极9与TFT30的连接部。而且，在反射电极19a的平面区域中，在扫描线3a与数据线6a的交叉部附近形成有将元件基板10和对置基板20的间隔(液晶层50的层厚)保持恒定的隔离物(spacer)40。
在扫描线3a上形成有作为开关元件的TFT30。TFT30具有：岛状的由非晶硅膜构成的半导体层35、和被配置成与半导体层35局部平面重合的源电极6b及漏电极32。扫描线3a在与半导体层35平面重合的位置作为TFT30的栅电极发挥功能。
源电极6b在与半导体层35相反一侧的端部和数据线6a连接。漏电极32在与半导体层35相反一侧的端部构成电容电极31。电容电极31被配置在电容线3b的平面区域内，在该位置形成有将电容电极31和电容线3b作为电极的蓄积电容17。通过经由在电容电极31的平面区域内形成的像素接触孔14将像素电极9与电容电极31电连接，使得TFT30的漏极和像素电极9导通。
如图4所示，元件基板10具有例如由玻璃或石英、塑料等透光性材料构成的基板主体11作为基体。在基板主体11的内侧(液晶层50侧)形成有扫描线3a及电容线3b、覆盖扫描线3a及电容线3b的栅极绝缘膜12、隔着栅极绝缘膜12与扫描线3a对置的半导体层35、与半导体层35连接的源电极6b(数据线6a)及漏电极32、与漏电极32连接并隔着栅极绝缘膜12与电容线3b对置的电容电极31。即，在基板主体11上形成有TFT30和与之连接的蓄积电容17。
形成有覆盖TFT30、使因TFT30等引起的基板11上的凹凸平坦化的平坦化膜13。还形成有贯通平坦化膜13、到达电容电极31的像素接触孔14，在平坦化膜13上形成的像素电极9和电容电极31通过像素接触孔14而电连接。
在构成像素电极9的反射电极19a与平坦化膜13之间、及反射电极19b与平坦化膜13之间，分别形成有在表面具有凹凸形状的树脂膜19s。并且，在该树脂膜19s上形成的反射电极19a、19b的表面也具有与树脂膜19s相似的凹凸形状。由此，反射电极19a、19b可作为使入射光漫射并反射的漫射反射层而发挥功能。
形成有覆盖像素电极9的取向膜18。取向膜18例如由聚酰亚胺构成，在子像素区域的长轴方向(X轴方向)被抛光处理。通过该取向膜18，液晶分子51沿着图3的虚线箭头所示的取向方向18a进行取向。
对置基板20具有例如由玻璃或石英、塑料等透光性材料构成的基板主体21作为基体。在基板主体21的内侧(液晶层50侧)形成有：按照对各子像素区域进行镶边的方式而形成的遮光膜(黑矩阵)23、和由与各个子像素区域对应的颜色种类的颜色材料层构成的滤色器22。滤色器22上，在俯视下元件基板10与反射电极19a、19b重合的区域(反射显示区域R)，分别形成有在子像素区域内使液晶层厚局部不同的液晶层厚调整层26。形成有液晶层厚调整层26的滤色器22的表面，可通过能够由树脂材料等形成的平坦化膜进行平坦化。
形成有覆盖液晶层厚调整层26和滤色器22、由ITO等透明导电材料构成的公共电极25。公共电极25为覆盖多个子像素区域的平面形状。形成有覆盖公共电极25并由聚酰亚胺等构成的取向膜29。如图3中实线箭头29a所示，对取向膜29的表面实施了子像素区域的长轴方向(X轴方向)的抛光处理。通过该取向膜29，液晶分子5 1沿着图3中由实线箭头所示的取向方向29a进行取向。
本实施方式的液晶装置100是在一个子像素区域内具备反射显示区域R和透过显示区域T的半透过反射型，且对应反射显示区域R形成有液晶层厚调整层26的多间隙方式的液晶装置。通过液晶层厚调整层26对液晶层50的层厚进行调整的结果是，反射显示区域R的液晶层厚dr比透过显示区域T的液晶层厚dt薄，反射显示区域R的液晶层厚dr为透过显示区域T的液晶层厚dt的1/2左右。通过采用上述多间隙构造，可以将反射显示区域R中的液晶层50的延迟(retardation)与透过显示区域T中的液晶层50的延迟设定为近似相同。由此，能够在反射显示区域R与透过显示区域T中得到均匀的图像显示。
偏光板36、37被配置成二者的透过轴相互大致垂直。在偏光板36的内面侧设置的相位差板33、及在偏光板37的内面侧设置的相位差板34是对透过光赋予大致1/4波长的相位差的λ/4相位差板，也可以是λ/4相位差板与λ/2相位差板的层叠体。
并且，还可以在偏光板36、37一方或双方的内侧进一步追加配置光学补偿膜。通过配置光学补偿膜，可以进一步提高对比度。作为光学补偿膜可举出：使折射率各向异性为负的盘状液晶(discotic liquid crystal)等混合取向的负的一轴性介质、或使折射率各向异性为正的线状(nematic)液晶等混合取向的正的一轴性介质。并且，还可以采用使负的一轴性介质与正的一轴性介质组合的介质、或各方向的折射率为nx＞ny＞nz的二轴性介质。
接着，根据附图对OCB模式的液晶装置100的初始转移操作进行说明。这里，图5是表示OCB模式的液晶分子的取向状态的说明图。
OCB模式的液晶装置中，在其初始状态(非动作时)下如图5(b)所示，液晶分子51成为以喷射状开启的取向状态(喷射取向)，在显示动作时，如图5(a)所示，液晶分子51处于弯曲成弓形的取向状态(弯曲取向)。并且，通过在显示动作时以弯曲取向的弯曲程度调制透过率，液晶装置100成为可实现显示动作的高速响应性的构成。
在OCB模式的液晶装置100的情况下，由于切断电源时液晶分子的取向状态为图5(b)所示的喷射取向，所以，需要在接通电源时通过对液晶层50施加某一阈值以上的电压，使液晶分子的取向状态从图5(b)所示的初始的喷射取向转移为图5(a)所示的显示动作时的弯曲取向，即所谓的初始转移操作。在没有充分进行初始转移的情况下，会产生显示不良、无法得到所期望的高速响应性。作为液晶层50的初始转移操作，可以采用线性顺次接通扫描线3a，同时在像素电极9与公共电极25之间施加脉冲电压的方法。
这里，在本实施方式的液晶装置100中，将液晶层50的层厚减小的反射显示区域R配置在子像素区域的长轴的两端侧。即，将反射电极19a及反射电极19b配置在夹持像素电极9形成于其两侧的扫描线3a的附近，并将液晶层厚大的透过显示区域T配置在子像素区域的中央部。通过这样将液晶层厚小的区域配置到扫描线3a的附近，在本实施方式的液晶装置100中能够以低电压、短时间执行初始转移操作。
首先，当为了初始转移操作而在像素电极9与公共电极25之间施加了电压V时，由于在液晶层厚dr为透过显示区域T的液晶层厚dt的一半左右的反射显示区域R中，作用于液晶层50的电场Er(＝V/dr)比透过显示区域T中作用于液晶层50的电场Et(＝V/dt)大，所以，容易产生初始转移核(弯曲核)，而且，所产生的初始转移核的传播也可顺畅进行。
并且，在本实施方式中，将反射显示区域R配置在子像素区域中靠近成为初始转移核的产生区域的扫描线3a与像素电极9的交界区域、及数据线6a与像素电极9的交界区域双方的位置。因此，能够将在这些交界区域中产生的初始转移核顺畅地导入到反射显示区域R内，并且，初始转移核还能够在反射显示区域R内高效地传播到像素电极9上。结果，能够在子像素区域的整体均匀地进行初始转移。
而且，在本实施方式的液晶装置100中，由于如上所述利用反射显示区域R的特性有效地进行初始转移操作，所以，不需要设置以往公知的作为转移核形成单元的突起、凹陷或电极狭缝。因此，可防止因设置这些转移核形成单元而导致数值孔径降低，从而可得到明亮的显示。
另外，在本实施方式的液晶装置100中，将液晶层厚调整层26形成在基板主体21(对置基板20)的液晶层50侧，但液晶层厚调整层26也可以形成在基板主体11(元件基板10)的液晶层50侧，还可以成为元件基板10和对置基板20双方具有液晶层厚调整层的结构。
如本实施方式所述，通过在对置基板20上而不是元件基板10上形成液晶层厚调整层26，在元件基板10中，扫描线3a或数据线6a与液晶层50的距离变窄，当初始转移操作时，容易在扫描线3a与数据线6a的附近产生初始转移核。因此，该构成可降低用于初始转移操作的施加电压，而且能够在短时间内均匀地进行初始转移操作。
并且，本实施方式中如图3所示，在各子像素区域的反射显示区域R中配置有隔离物40。在隔离物40的周边，由于液晶分子51的取向容易变得随机，所以，易于产生初始转移核，因此，隔离物40还作为液晶装置100的转移核形成单元而发挥功能。进而，如果在反射显示区域R中配置隔离物40，则由于可通过隔离物40顺畅地传播所产生的初始转移核，因此，能够提高初始转移操作的迅速性、可靠性。
(第二实施方式)
接着，参照图6及图7对本发明的第二实施方式进行说明。
图6是表示本实施方式的液晶装置200的一个子像素区域的概略构成的俯视图。图7是沿着图6的B-B’线的液晶装置200的剖面图。
其中，本实施方式的液晶装置除了像素电极9的形状及液晶层厚调整层的形成区域不同之外，是与先前的第一实施方式同样的构成。因此，在图6及图7中对与先前的第一实施方式同样的构成要素赋予相同的符号，并省略其详细的说明。
如图6所示，在本实施方式的液晶装置200的子像素区域形成有：具有反射电极19a、19b和透明电极19c的像素电极9 TFT30；信号布线(扫描线3a、电容线3b、数据线6a)。在本实施方式的情况下，像素电极9的短边(近似沿着Y轴方向延伸的边)形成为弯曲形状，按照邻接的像素电极9的短边彼此啮合的方式，反射电极19a的边端形状和反射电极19b的边端形状成为倒凹凸。另外，对于扫描线3a及电容线3b而言，也成为与位于它们附近的像素电极9的短边的形状相似的弯曲形状。
图7所示的截面构造中，在对置基板20的液晶层50侧形成有使反射显示区域R的液晶层厚dr成为透过显示区域T的液晶层厚dt的一半左右的液晶层厚调整层26。在本实施方式的情况下，液晶层厚调整层26遍及在数据线6a的延伸方向(X轴方向)邻接的2个像素区域的反射显示区域而连续形成。即，在数据线6a的延伸方向邻接的子像素区域之间的区域(扫描线3a的形成区域)中的液晶层50的层厚，与反射显示区域R中的液晶层厚dr成为同等的厚度。
在具备上述构成的本实施方式的液晶装置200中，由于像素电极9的短边具有弯曲形状，所以，初始转移操作时在扫描线3a与像素电极9之间形成的横向电场(基板面方向的电场)的方向，在像素电极9的短边上成为多个方向。而且，这样的电场作用于液晶层50的结果是：在像素电极9的短边的各弯曲部19d、19e中产生了旋错，它们成为初始转移核。因此，像素电极9的短边作为本实施方式的液晶装置200的转移核形成单元而发挥作用。
而且，由于上述横向电场的方向是与像素电极9的短边正交的方向、与取向方向18a、29a交叉的方向，所以，位于像素电极9的短边附近的液晶分子51成为扭曲(twist)状态，易于向弯曲取向转移。因此，根据本实施方式，可以在扫描线3a与像素电极9的交界区域形成多个初始转移核，从而能够顺畅且迅速地扩大初始转移。
并且，在本实施方式中，由于邻接的子像素区域之间的区域中的液晶层厚与反射显示区域R的液晶层厚dr相等，成为透过显示区域T的液晶层厚dt的一半左右，所以，在子像素间的液晶层50中也容易产生初始转移核，而且初始转移核易于传播。因此，能够在初始转移操作时极其容易地产生初始转移核，从而使初始转移操作迅速化。
(第三实施方式)
接着，参照图8对本发明的第三实施方式进行说明。
图8是表示本实施方式的液晶装置的一个子像素区域的概略构成的局部俯视图。
对于本实施方式的液晶装置而言，具备双源极(double source)构造的TFT30A作为像素开关元件。该构成能够与上述第一及第二实施方式的任意一个组合。
如图8所示，在本实施方式的液晶装置的子像素区域形成有与像素电极9电连接的TFT30A。TFT30A具有：形成在扫描线3a上的岛状半导体层35；和与半导体层35电连接的源电极6b及漏电极32。源电极6b由从数据线6a分支并与扫描线3a平行延伸的布线部16a、和从布线部16a分支并延伸到半导体层35上的第一电极部16b及第二电极部16c构成。并且，TFT30A具有第一电极部16b和第二电极部16c分别作为TFT30A的源电极发挥功能的双源极构造。
上述构成的TFT30A中，由于在隔着漏电极32的Y轴方向(扫描线3a的延伸方向)的两侧分别形成有第一电极部16b和第二电极部16c，所以，如果在初始转移操作时使TFT30A动作，则在TFT30A上可形成从漏电极32朝向第一电极部16b的电场、和从漏电极32朝向第二电极部16c的电场，并分别作用于液晶层50。由于这些电场在基板面方向相互逆向，所以如图所示，在漏电极32的宽度方向(Y轴方向)中央部形成旋错线DL，其成为初始转移核，使初始转移扩大。因此，在本实施方式的液晶装置中，TFT30A作为初始转移操作中的转移核形成单元发挥功能。
而且，由于形成在TFT30A上的电场是与液晶分子的初始取向方向(取向方向18a、29a)交叉的方向，所以，在TFT30A上液晶分子易于扭曲而进行取向转移。因此，根据本实施方式的液晶装置，由于可以在TFT30A上可靠地产生初始转移核，并使该初始转移核顺畅地传播，所以，能够实现初始转移操作的低电压化、迅速化。
另外，以上的第一～第三实施方式中所说明的促进初始转移核的产生的构成只是一个例子，还可以组合使用其他的转移核形成单元。例如在第一实施方式的液晶装置100中，可采用在子像素区域内、或邻接的子像素区域之间的区域形成了作为转移核形成单元的突起或凹陷、电极狭缝的构成。该情况下，还优选在位于反射显示区域R的附近的扫描线3a上与数据线6a上的区域形成上述突起或凹陷。在像素电极9上形成电极狭缝的情况下，也优选在构成反射显示区域R的反射电极19a、19b上形成电极狭缝。
而且，在本实施方式的情况下，由于在反射显示区域R与透过显示区域T之间具有因液晶层厚调整层26的阶梯差而引起液晶层厚连续变化的区域(倾斜部70)，所以，可以在该倾斜部70上形成上述突起、凹陷或电极狭缝。
并且，可以采用通过其他途径形成了用于形成初始转移核的电极的构成作为转移核形成单元。该情况下，还优选在位于邻接的像素电极9之间的区域的扫描线3a上或数据线6a上形成能够控制电位的电极，更优选在靠近反射显示区域R的位置形成。或者，可以与像素电极9独立地将能够控制电位的电极形成在倾斜部70的平面区域内。
或者，可以在子像素区域及其周围的区域中形成取向状态不同的多个液晶区域。该情况下，可以通过对取向膜18、取向膜29的至少一方实施多抛光处理、或由被平面划分的多个取向膜构成的结构来实现。例如，通过沿着与取向方向18a、29a交叉的方向对位于像素电极9外侧区域(子像素间的区域)的取向膜18实施抛光处理，可以在像素电极9上和像素电极9的外侧区域使液晶的取向状态不同。另外，也可以在所述子像素间的区域选择性地形成使液晶分子沿着基板法线方向取向的取向膜。在这些情况下，与像素电极9上的液晶区域不同取向状态的液晶区域作为转移核形成单元发挥功能。
并且，在上述各实施方式中，对分别在子像素区域的两端配置了反射显示区域R的情况进行了说明，但在本发明中，由于只要是透过显示区域T在子像素区域中被夹持于反射显示区域R的构成即可，所以，不限定于先前实施方式的构成。例如，可以是沿着子像素区域的周缘以框状形成反射显示区域R，在该框状反射显示区域R的内侧形成透过显示区域的构成。具体而言，在图3所示的子像素区域中，还可以在透过显示区域T的数据线6a侧(Y轴方向的两端侧)形成有反射显示区域R。该情况下，由于构成在产生初始转移核的扫描线3a与数据线6a的附近，只配置液晶层厚小的反射显示区域R的结构，所以，不仅可进一步促进初始转移核的产生，而且能够使初始转移核的传播更加顺畅。
(电子设备)
具有上述构成的本发明的液晶装置，例如可以用作图9所示的移动电话机1300的显示部1301。移动电话机1300是在框体上具备多个操作按钮1302、受话口1303、送话口1304及上述显示部1301的构成。
根据移动电话机1300，由于能够在短时间内可靠地进行初始转移操作，所以，可得到无显示不良的高速响应的显示。
并且，作为具备本发明的液晶装置的电子设备不限定于移动电话机，还可以是PDA(Personal Digital Assistant：便携信息终端)、个人计算机、笔记本型计算机、工作站、数字静态照相机、车载用监视器、车辆导航装置、前导显示器、数字摄像机、电视接收机、取景型或监控直视型的录像机、寻呼机、电子记事本、电脑、电子书与投影仪、文字处理器、可视电话机、POS终端、具备触摸屏的设备、照明装置等其他的电子设备。

Claims (13)

1.一种液晶装置，具备夹持液晶层的一对基板，使所述液晶层的取向状态从喷射取向向弯曲取向转移来进行显示，
在一个子像素区域内设置有反射显示区域和透过显示区域，并且在所述透过显示区域与所述反射显示区域之间使所述液晶层的层厚不同，
所述子像素区域的所述透过显示区域被所述反射显示区域夹持。
2.根据权利要求1所述的液晶装置，其特征在于，
在所述一对基板的至少一方基板的所述液晶层侧形成有液晶层厚调整层，其遍及邻接的两个所述子像素区域的所述反射显示区域。
3.根据权利要求1所述的液晶装置，其特征在于，
所述一对基板中的一方基板具有和与所述子像素区域对应配置的开关元件电连接的信号布线，
在所述一对基板中另一方基板的所述液晶层侧形成有液晶层厚调整层。
4.根据权利要求1～3中任意一项所述的液晶装置，其特征在于，
所述反射显示区域配置在所述子像素区域的长度方向的两端部。
5.根据权利要求1～4中任意一项所述的液晶装置，其特征在于，
在所述反射显示区域内设置有转移核形成单元。
6.根据权利要求1～4中任意一项所述的液晶装置，其特征在于，
在所述反射显示区域与所述透过显示区域之间设置有转移核形成单元。
7.根据权利要求1～4中任意一项所述的液晶装置，其特征在于，
在邻接的子像素区域彼此之间设置有转移核形成单元。
8.根据权利要求5～7中任意一项所述的液晶装置，其特征在于，
所述转移核形成单元是和与所述子像素区域对应形成的开关元件电连接的信号布线、或与所述子像素区域对应形成的电极。
9.根据权利要求5～7中任意一项所述的液晶装置，其特征在于，
所述转移核形成单元是所述液晶层中的、与所述子像素内的取向状态不同的取向状态的区域。
10.根据权利要求9所述的液晶装置，其特征在于，在所述不同取向状态的区域中，所述液晶层的液晶分子呈垂直取向。
11.根据权利要求9所述的液晶装置，其特征在于，在所述不同取向状态的区域中，所述液晶层的液晶分子呈扭曲取向。
12.根据权利要求5～7中任意一项所述的液晶装置，其特征在于，所述转移核形成单元是保持所述一对基板的间隔的隔离物。
13.一种电子设备，具备权利要求1～12中任意一项所述的液晶装置。
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