CN101191940A

CN101191940A - 玻璃基板重复使用的方法

Info

Publication number: CN101191940A
Application number: CNA2006101467740A
Authority: CN
Inventors: 杨闳舜
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2006-11-22
Filing date: 2006-11-22
Publication date: 2008-06-04

Abstract

本发明是有关于一种玻璃基板重复使用的方法，用来去除玻璃基板上至少一贴附层或一涂布层，所述方法包括：(A)提供至少一玻璃基板；(B)提供一处理溶液接触玻璃基板以去除贴附层，其中处理溶液包括：至少一氯化铁溶液、或者氯化铁溶液与至少一酸性溶液的混合液；以及(C)提供一硫酸溶液处理玻璃基板。其中所述贴附层为氧化铟锡层、光学间隔材(photo spacer)、多象限垂直配向层(MVA)或内平面转换层(IPS)，所述涂布层为保护膜(overcoat)、彩色层或黑色矩阵层。

Description

玻璃基板重复使用的方法

技术领域

本发明是有关于一种玻璃基板重复使用的方法，特别是有关于一种彩色滤光片玻璃基板重复使用的方法。

背景技术

随着目前信息科技的发展，目前各产业对于影音多媒体的显示与播放的需求与日遽增，因而刺激相关光电产业的蓬勃发展，其中又以各式新型的显示面板为众人积极研发改良的重点所在。

以显示面板中的液晶显示器(liquid crystal display，LCD)为例，其重要的关键零组件之一即为彩色滤光片(color filter)，其是以红(R)、绿(G)、蓝(B)三原色的彩色滤光片，并搭配不同灰阶亮度的液晶层而使液晶显示器得以显示各种色彩。

请参考图1和图2，绘示了二种传统的彩色滤光片结构。如图1所示，在玻璃基板10的其中一面涂布有彩色层12和黑色矩阵层14(black matrix，BM)，而在同一面则有氧化铟锡层16(Indium Tin Oxide，ITO)，于黑色矩阵层14之上更依序涂布有一保护层17(over coat，OC)以及一内平面转换层13(IPS)。图2所示为另一型彩色滤光片，该型彩色滤光片则是于黑色矩阵层14之上更依序涂布有一保护层17(over coat，OC)以及一多象限垂直配向层15(MVA)，并且氧化铟锡层16是存在于玻璃基板10上不具彩色层12与黑色矩阵层14的另一面。

其中，彩色层12是用来搭配不同的液晶灰阶亮度，藉由调配不同比例的三原色而得到欲显示的色彩。黑色矩阵层14则是位于彩色层12的边缘部分，用来遮住部分的彩色层12以及部分的透光区域，以防止漏光并提高液晶显示器的对比。而氧化铟锡层16则为一层导电透明金属，负责在驱动液晶时用来传输共同电压(common voltage)。此外，在制作液晶显示器面板时，需藉由间隔材(spacer)来维持上下二片基板的间隔，以灌注液晶。传统大多是利用洒布塑料球间隔材(plastic spacer)的方式来间隔，而目前较精确的作法是利用曝光显影工艺来将光学间隔材18(photo spacer)制作于氧化铟锡层16上，进而准确控制光学间隔材18的位置及大小，增加透光率。

一般而言，彩色层12是以着色材料分散于感旋光性树脂中来形成，历经反复的涂布、曝光、显影、硬烤而于玻璃基板10表面制作出红、绿、蓝三色。而光学间隔材18也是使用感旋光性树脂材料来制作，因此二者在许多特性上极为类似。此外，由于在彩色滤光片的制作过程中，玻璃基板10必须历经多次高低温变化的物理及化学处理程序，所以玻璃基板10质量的要求也比一般传统玻璃严苛，必须要符合密度、热安定性、热膨胀系数、耐化性以及表面质量等要求，因此成本也相对较高。

此外，就前述的氧化铟锡层16而言，一般是以真空蒸镀法或是溅镀法来加以制备。而目前常用的溅镀法工艺是在真空反应室内施加电场，使氩气(Ar)产生弧光放电，让Ar离子在电场中获得动能冲击ITO靶材，进而将ITO材料溅镀到彩色滤光片表面。而依照溅镀时的工艺温度不同，氧化铟锡层16又可以分为高温氧化铟锡层16与低温氧化铟锡层16。

然而在上述彩色滤光片的制作过程中，常会因为各种不同因素产生不良品，例如膜层均匀度不佳、对位偏移、针孔(pin hole)、膜刮伤或是混色等缺陷。对于不良品的处理，传统作法是直接报废，但如此一来不但造成原物料的浪费，也易造成环保回收的问题。因此近来开始有各种彩色滤光片再生方法的研究，但其效果通常不如预期，常需要分段式的处理步骤以完成玻璃基板10的回收，并且过程中往往因为调配不当的强碱性溶液而造成玻璃基板10表面上过度的损耗，同时对于光刻胶的去除效果也不佳。

综上所述，现有技术对于在满足简便以及低回收成本的前提下，重复使用玻璃基板的技术仍存在改良的空间。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的即是提供一种玻璃基板重复使用的方法，对于玻璃基板上的涂布层或贴附层，例如感旋光性树脂层(彩色层)、黑色矩阵层、保护层(OC)、氧化铟锡层(ITO)、光学间隔材(PS)甚至是多象限垂直配向层(MVA)与内平面转换层(IPS)等，可藉由简易的处理步骤而获得良好的剥除效果，使不良的玻璃基板可重复回收进而导入生产线加以使用。

本发明的再一目的即是提供一种玻璃基板重复使用的方法，其藉由酸性溶液与碱性溶液搭配使用，可减少对玻璃基板表面的损伤而快速的完成不良的玻璃基板再生，其具有降低玻璃基板回收成本的优点。

根据本发明的实施方案，本发明揭露了一种通过去除玻璃基板上的涂布层或贴附层，实现玻璃基板重复使用的方法，前述的玻璃基板可用以制造彩色滤光片。

根据本发明的优选实施方案，首先提供一处理溶液接触玻璃基板以去除涂布层或贴附层，其中该处理溶液包括：至少一氯化铁溶液以及氯化铁溶液与至少一酸性溶液的混合液两者之一，该处理溶液是用以去除玻璃基板上的氧化铟锡层(ITO)以及贴附于ITO上的其它结构层。前述处理溶液接触该玻璃基板的方式可以为浸泡、喷洒或刷洗中的任意一种。

接着提供一硫酸溶液处理玻璃基板，硫酸溶液是用以将玻璃基板上的涂布层或贴附层，例如感旋光性树脂层(彩色层)、黑色矩阵层或是保护层(OC)进行脱水反应，以利后续玻璃基板的重复使用。

根据本发明的优选实施方案，也可先提供一硫酸溶液处理玻璃基板进行脱水反应，接着提供一处理溶液接触玻璃基板以去除涂布层或贴附层。

根据本发明的优选实施方案，所述处理溶液接触玻璃基板的温度介于30℃至75℃，优选为40℃至75℃，最优选为50℃至65℃；且所述酸性溶液包括硝酸溶液或者卤化氢溶液，或是为硝酸溶液与卤化氢溶液的混合液。

根据本发明的优选实施方案，所述硫酸溶液的浓度介于98％(重量百分浓度)与100％(重量百分浓度)之间，且硫酸溶液的温度介于30℃至65℃，优选为40℃至65℃，最优选为50℃至65℃。

根据本发明的优选实施方案，本发明的玻璃基板的重复使用方法还包括使用再生溶液接触玻璃基板的步骤，所述再生溶液可去除玻璃基板上至少一涂布层，例如感旋光性树脂层(彩色层)、黑色矩阵层或是保护层(OC)，再生溶液的酸碱值(pH)在12至16之间，优选为14至15.5之间，且再生溶液接触玻璃基板的温度介于40℃至85℃，优选为60℃至75℃之间。所述再生溶液包括一盐酸羟胺(Hydroxyamine)有机溶液，其重量百分浓度在2％至50％之间。

根据本发明的优选实施方案，再生溶液包括有碱金属氢氧化物水溶液、三乙醇胺(TEA)有机溶剂，以及添加有丙二醇甲醚(PGME)、N-甲基吡咯酮(NMP)、二甲基亚砜(DMSO)、单乙醇胺(MEA)、二次乙基二醇单丁醚(DB)中的任意一种或一种以上组成的混合物，并且所述碱金属氢氧化物水溶液为氢氧化钾、或者氢氧化钠、或是两者的混合液，其重量百分浓度在5％至40％之间，优选为8％至20％之间。

根据本发明的实施方案，还揭露了另一种通过去除玻璃基板上的涂布层或贴附层实现玻璃基板重复使用的方法，所述的玻璃基板可用以制造彩色滤光片。

根据本发明的优选实施方案，首先提供一碱性再生溶液处理该玻璃基板以去除至少一涂布层，例如感旋光性树脂层(彩色层)、黑色矩阵层或是保护层(OC)，碱性再生溶液的酸碱值(pH)在12至16之间，优选为14至15.5之间，且其接触玻璃基板的温度介于40℃至85℃。所述碱性再生溶液包括有碱金属氢氧化物水溶液、三乙醇胺(TEA)有机溶剂，以及添加有丙二醇甲醚(PGME)、N-甲基吡咯酮(NMP)、二甲基亚砜(DMSO)、单乙醇胺(MEA)、二次乙基二醇单丁醚(DB)中任意一种或一种以上组成的混合物，并且所述碱金属氢氧化物水溶液为氢氧化钾、或者氢氧化钠、或是两者的混合液，其重量百分浓度在5％至40％之间，优选为8％至20％之间。

接着提供一处理溶液接触玻璃基板，处理溶液是用以去除玻璃基板上的氧化铟锡层(ITO)以及贴附于ITO上的其它结构层，其中该处理溶液包括：至少一氯化铁溶液、或者氯化铁溶液与至少一酸性溶液的混合液。所述的酸性溶液包括硝酸溶液或卤化氢溶液、或者硝酸溶液与卤化氢溶液的混合液。处理溶液接触玻璃基板的方式为浸泡、喷洒或刷洗。

根据本发明的优选实施方案，可于碱性再生溶液处理玻璃基板之前，提供一硫酸溶液处理玻璃基板，将玻璃基板上的涂布层或贴附层，例如感旋光性树脂层(彩色层)、黑色矩阵层或是保护层(OC)进行脱水反应而便于去除，以利后续玻璃基板的重复使用。

根据本发明的优选实施方案，所述碱性再生溶液包括盐酸羟胺(Hydroxyamine)有机溶液，其重量百分浓度在2％至50％之间。

附图说明

图1为绘示传统彩色滤光片玻璃基板的结构示意图。

图2为绘示另一传统彩色滤光片玻璃基板的结构示意图。

图3为绘示本发明第一实施例的玻璃基板重复使用方法的流程示意图。

图4为绘示本发明第二实施例的玻璃基板重复使用方法的流程示意图。

图5为绘示本发明第三实施例的玻璃基板重复使用方法的流程示意图。

图6为绘示本发明第四实施例的玻璃基板重复使用方法的流程示意图。

图7为绘示本发明第五实施例的玻璃基板重复使用方法的流程示意图。

图中主要符号说明：

10彩色滤光片玻璃基板 12彩色层 13内平面转换层(IPS)

14黑色矩阵层(BM) 15多象限垂直配向层(MVA)

16氧化铟锡层(ITO) 17保护层(OC) 18光学间隔材(PS)

20玻璃基板 21处理溶液 22硫酸溶液 23再生溶液 3一般用水

具体实施方式

为让本发明的上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂，下文特列举优选实施例，并配合附图，作详细说明如下。

第一实施例

本发明的第一实施例，提供了一种玻璃基板20的重复使用方法，请一并参照图1、图2与图3，玻璃基板20可以是如图1与图2所绘示的彩色滤光片玻璃基板10，但不以图1或图2所绘示的彩色滤光片玻璃基板10为限。本实施例可用来去除彩色滤光片玻璃基板10上的涂布层或贴附层。如前所述，彩色滤光片玻璃基板10上的氧化铟锡层16是一种导电透明金属，用来在驱动液晶时传输共同电压(common voltage)。由于氧化铟锡层16是覆盖于整个玻璃基板20的任一表面，并且氧化铟锡层16之上可能还形成有光学间隔材18(PS)甚至是多象限垂直配向层15(MVA)与内平面转换层13(IPS)等结构层，从而如果想重复使用彩色滤光片玻璃基板20，势必需要将氧化铟锡层16先行自玻璃基板20完全除去，例如剥除或是溶解。

由于所述氧化铟锡层16为氧化铟(In₂O₃)与氧化锡(SnO₂)所组成，因此本实施例首先提供一处理溶液21接触玻璃基板20以去所涂布的氧化铟锡层16，所述处理溶液21选自表1所列举的A1至A6的化学混合溶液之一。

表1

处理溶液组成	FeCl₃	HNO₃	HCl	HBr	HI
处理溶液组成	FeCl₃	HNO₃	HCl	HBr	HI	A1	Y	Y	-	-	-
A2	Y	-	Y	-	-	A1	Y	Y	-	-	-
A2	Y	-	Y	-	-	A3	Y	-	-	Y	-
A4	Y	-	-	-	Y	A3	Y	-	-	Y	-
A4	Y	-	-	-	Y	A5	Y	Y	-	Y	-
A6	Y	Y	-	-	Y	A5	Y	Y	-	Y	-

注：表格中的“Y”表示处理溶液中含有所述物质，“-”表示不含有所述物质。

由于处理溶液21中含有卤素离子，例如Cl^-、Br^-、I^-其中之一，其可与氧化铟锡层16中的氧化铟在酸性环境下进行离子置换反应，其反应化学式为：

In₂O₃+6X→2In₃ ⁺6X+3O^2-

氧化铟锡层16(ITO)经过上述处理溶液21的浸泡、喷洒或刷洗的接触方式而从玻璃基板20上除去，并且可进一步将贴附于ITO上的其它结构层，例如光学间隔材18(PS)、多象限垂直配向层15(MVA)与内平面转换层13(IPS)等结构层同时除去，大幅省却后续所需的处理步骤与所耗费的时间与成本。

优选地，处理溶液21接触玻璃基板20的温度介于30℃至75℃，优选40℃至75℃，最优选50℃至65℃，处理溶液21的酸碱值(pH)小于1。

玻璃基板20经过处理溶液21处理之后，利用一般用水3洗涤玻璃基板20以除去残留的处理溶液21，优选地，一般用水3可替换为去离子水；接着提供一硫酸溶液22处理玻璃基板20。硫酸溶液22是用以将玻璃基板20上所剩余的涂布层或贴附层，例如感旋光性树脂层(彩色层12)、黑色矩阵层14或是保护层17(OC)进行脱水反应，以利后续玻璃基板20的重复使用。所述硫酸溶液22的浓度优选介于98％(重量百分浓度)与100％(重量百分浓度)之间，并且该硫酸溶液22的温度介于30℃至65℃。该硫酸溶液22处理玻璃基板20的方式可为浸泡、喷洒或刷洗。

本实施例更优选地还进一步包括一使用再生溶液23接触玻璃基板20的步骤，所述再生溶液23可去除玻璃基板20上所剩余的涂布层，例如保护膜(overcoat)、彩色层12或黑色矩阵层14。再生溶液23可选自表2所列出的B1至B31的化学混合溶液，其中Hydroxyamine(HA)表示盐酸羟胺、TEA表示三乙醇胺、NMP表示N-甲基吡咯酮、DMSO表示二甲基亚砜、MEA表示单乙醇胺、DB表示二次乙基二醇单丁醚、PGME表示丙二醇甲醚、PEMEA表示丙二醇甲醚酯。

表2

再生溶液23中所含的碱性成分如氢氧化钾、氢氧化钠或是盐酸羟胺(HA)可破坏保护层17(overcoat)、彩色层12或黑色矩阵层14与玻璃基板20间的分子键结并且令上述结构层松动。再生溶液23中所含的有机溶剂，例如三乙醇胺、N-甲基吡咯酮、二甲基亚砜、单乙醇胺、二次乙基二醇单丁醚、丙二醇甲醚以及PEMEA则是将已松动的结构层予以溶解或剥除。

应注意的是，由于玻璃基板20易遭碱性溶液所侵蚀，所以若再生溶液23包含有氢氧化钾或氢氧化钠或是两者的混合液时，其重量百分浓度最好控制在5％至40％之间，优选8％至20％之间，其余部分则为再生溶液23中的其它组成。若再生溶液23含有盐酸羟胺(HA)时，则再生溶液23中的盐酸羟胺的重量百分浓度在2％至50％之间。

再生溶液23的酸碱值(pH)是介于12至16之间，优选14至15.5之间，其接触玻璃基板20的温度介于40℃至85℃。同样地，再生溶液23接触玻璃基板20的方式可为浸泡、喷洒或刷洗。

上述酸性处理溶液21与碱性再生溶液23处理玻璃基板20的反应条件是以实际操作而得知，但在使用或添加其他化合物质或处理不同制造条件的涂布层或贴附层时，可视实际需要加以调整而得到最佳的玻璃基板20回收率。

玻璃基板20经由本实施例的酸性处理溶液21与碱性再生溶液23处理后，再次利用一般用水3洗涤玻璃基板20以除去其表面所残留的化学物质与杂质，从而得到可重复使用的玻璃基板20。

第二实施例

请一并参照图1、图2与图4，本实施例的玻璃基板20重复使用方法同样利用如第一实施例的酸性处理溶液21与碱性再生溶液23处理玻璃基板20，处理溶液21与碱性再生溶液23各自所含化学成分及其浓度与反应条件也如第一实施例所述，这里不再赘述。

本实施例与第一实施例的相异处在于，本实施例中提供硫酸溶液22处理玻璃基板20的步骤是在处理溶液21接触玻璃基板20的步骤之前进行。硫酸溶液22先行将玻璃基板20上的涂布层或贴附层，例如感旋光性树脂层(彩色层12)、黑色矩阵层14或是保护层17(OC)进行脱水反应，以利后续玻璃基板20的重复使用。硫酸溶液22的优选浓度介于98％(重量百分浓度)与100％(重量百分浓度)之间，并且该硫酸溶液22的温度介于30℃至65℃，优选40℃至65℃，最优选50℃至65℃。硫酸溶液22处理玻璃基板20的方式为浸泡、喷洒或刷洗。

第三实施例

请一并参照图1、图2与图5，本实施例的玻璃基板20重复使用方法同样利用如第一实施例的酸性处理溶液21与碱性再生溶液23处理玻璃基板20，处理溶液21与碱性再生溶液23各自所含化学成分及其浓度与反应条件也如第一实施例所述，这里不再赘述。

本实施例与第一实施例的相异处在于，本实施例中的玻璃基板20经碱性再生溶液23处理后，以一般用水3洗涤玻璃基板20除去其表面所残留的碱性再生溶液23与杂质，再次利用酸性处理溶液21接触玻璃基板20，从而得到更洁净的玻璃基板20。

第四实施例

请一并参照图1、图2与图6，本实施例提供一种玻璃基板20的重复使用方法，玻璃基板20可以是如图1与图2所绘示的彩色滤光片玻璃基板10，本实施例可用来去除彩色滤光片玻璃基板10上的涂布层或贴附层。首先使用再生溶液23接触玻璃基板20，所述再生溶液23可去除玻璃基板20上的涂布层，例如保护层17(overcoat)、彩色层12或黑色矩阵层14。再生溶液23可选自第一实施例中表2所列举的B1至B31的化学混合溶液中的一种。

玻璃基板20经过再生溶液23处理之后，利用一般用水3洗涤玻璃基板20以除去残留的再生溶液23，接着提供一处理溶液21接触玻璃基板20以去所涂布的氧化铟锡层16，所述处理溶液21选自第一实施例中表1所列举的A1至A6的化学混合溶液中的一种。

应注意的是，本实施例所使用的碱性再生溶液23处理与酸性处理溶液21其酸碱值、浓度以及反应温度概如第一实施例中所述。玻璃基板20经由本实施例的碱性再生溶液23处理与酸性处理溶液21后，再次利用一般用水3洗涤玻璃基板20以除去其表面所残留的化学物质与杂质，从而得到可重复使用的玻璃基板20。

优选地，本实施例可于酸性处理溶液21接触玻璃基板20后，再次使用碱性再生溶液23处理玻璃基板20，进一步得到更洁净的玻璃基板20。

第五实施例

请一并参照图1、图2与图7，本实施例的玻璃基板20重复使用方法同样利用如第四实施例的酸性处理溶液21与碱性再生溶液23处理玻璃基板20，处理溶液21与碱性再生溶液23各自所含化学成分及其浓度与反应条件也如第一实施例所述，这里不再赘述。

本实施例与第四实施例的相异处在于，本实施例中在利用再生溶液23接触玻璃基板20的步骤之前，先提供一硫酸溶液22处理玻璃基板20的步骤。硫酸溶液22先行将玻璃基板20上的涂布层或贴附层，例如感旋光性树脂层(彩色层12)、黑色矩阵层14或是保护层17(OC)进行脱水反应，以利后续玻璃基板20的重复使用。硫酸溶液22优选的浓度介于98％(重量百分浓度)与100％(重量百分浓度)之间，并且该硫酸溶液22的温度介于30℃至65℃，优选40℃至65℃，最优选50℃至65℃。硫酸溶液22处理玻璃基板20的方式为浸泡、喷洒或刷洗。

综上所述，本发明的优点为：可在兼顾玻璃基板20再生流程简便与回收玻璃基板20经济成本的双重需求下，无须进行额外繁复化学处理步骤，仅需利用酸性处理溶液21与碱性再生溶液23视需要变更处理玻璃基板20的顺序，辅以硫酸溶液22进行脱水反应，即可得到纯净的玻璃基板20，以利后续玻璃基板20的再加工处理。

虽然本发明已以数个实施例揭露如上，但这些实施例并非用以限定本发明，任何熟习本领域的技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，可作些许的更动与润饰，均应属于本发明的保护范围内。

Claims

1.一种玻璃基板重复使用的方法，用来去除该玻璃基板上至少一贴附层，该方法包括：

(A)提供至少一玻璃基板；

(B)提供一处理溶液接触玻璃基板以去除贴附层，该处理溶液包括：至少一氯化铁溶液、或者氯化铁溶液与至少一酸性溶液的混合液；以及

(C)提供一硫酸溶液处理玻璃基板。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃基板为形成彩色滤光片的玻璃基板，且所述贴附层为氧化铟锡层、光学间隔材、多象限垂直配向层和/或内平面转换层。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述处理溶液接触玻璃基板的温度介于30℃至75℃，且所述酸性溶液包括硝酸溶液、卤化氢溶液、或硝酸溶液与卤化氢溶液的混合液，该酸性溶液的pH值小于1。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述处理溶液接触玻璃基板的温度介于40℃至75℃，所述卤化氢溶液选自氟化氢溶液、氯化氢溶液、溴化氢溶液以及碘化氢溶液中的一种或一种以上组成的混合液。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述硫酸溶液的重量百分浓度介于98％与100％之间，且该硫酸溶液的温度介于30℃至65℃。

6.根据权利要求1所述的方法，该方法进一步包括步骤：

(D)使用一再生溶液接触玻璃基板，去除玻璃基板上至少一涂布层；所述再生溶液的pH值在12至16之间，该再生溶液接触玻璃基板的温度介于40℃至85℃；所述涂布层为保护膜、彩色层和/或黑色矩阵层。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述再生溶液的pH值在14至15.5之间，该再生溶液接触玻璃基板的温度介于60℃至75℃，并且包括盐酸羟胺有机溶液。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述盐酸羟胺有机溶液的重量百分浓度在2％至50％之间。

9.根据权利要求6、7或8所述的方法，其中所述再生溶液更包括有碱金属氢氧化物水溶液与有机溶剂。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述再生溶液更包括丙二醇甲醚或丙二醇甲醚酯，且所述碱金属氢氧化物水溶液的重量百分浓度在5％至40％之间，其为氢氧化钾或氢氧化钠或是两者的混合液。

11.根据权利要求9所述的方法，其中所述有机溶剂包括三乙醇胺。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述有机溶剂更包括N-甲基吡咯酮、二甲基亚砜、单乙醇胺中的任意一种或者一种以上组成的混合物。

13.根据权利要求9所述的方法，其中所述有机溶剂更包括二次乙基二醇单丁醚。

14.根据权利要求1所述的方法，其中所述处理溶液接触玻璃基板的方式为浸泡、喷洒或刷洗。

15.一种玻璃基板重复使用的方法，用来去除该玻璃基板上至少一贴附层和至少一涂布层，该方法包括：

(a)提供至少一玻璃基板；

(b)提供一碱性再生溶液处理玻璃基板以去除至少一涂布层；以及

(c)提供一处理溶液接触玻璃基板以去除贴附层，该处理溶液包括：至少一氯化铁溶液、或者氯化铁溶液与至少一酸性溶液的混合液。

16.根据权利要求15所述的方法，其中所述玻璃基板为形成彩色滤光片的玻璃基板，且所述贴附层为氧化铟锡层、光学间隔材、多象限垂直配向层和/或内平面转换层，所述涂布层为保护膜或彩色层。

17.根据权利要求15所述的方法，其中所述处理溶液接触玻璃基板的温度介于30℃至75℃，且所述酸性溶液包括硝酸溶液、卤化氢溶液、或是硝酸溶液与卤化氢溶液的混合液，该酸性溶液的pH值小于1。

18.根据权利要求17所述的方法，其中所述处理溶液接触玻璃基板的温度介于40℃至75℃，所述卤化氢溶液选自氟化氢溶液、氯化氢溶液、溴化氢溶液以及碘化氢溶液中的一种或一种以上组成的混合液。

19.根据权利要求15所述的方法，该方法进一步包括步骤：

(d)提供一硫酸溶液处理玻璃基板，该硫酸溶液的重量百分浓度介于98％与100％之间，且该硫酸溶液的温度介于30℃至65℃。

20.根据权利要求15所述的方法，其中所述碱性再生溶液的pH值在12至16之间，该碱性再生溶液接触玻璃基板的温度介于40℃至85℃。

21.根据权利要求20所述的方法，其中所述再生溶液的pH值在14至15.5之间，该再生溶液接触玻璃基板的温度介于60℃至75℃，并且该碱性再生溶液包括盐酸羟胺有机溶液。

22.根据权利要求21所述的方法，其中所述盐酸羟胺有机溶液的重量百分浓度在2％至50％之间。

23.根据权利要求20、21或22所述的方法，其中所述碱性再生溶液更包括有碱金属氢氧化物水溶液与有机溶剂。

24.根据权利要求23所述的方法，其中所述碱性再生溶液更包括丙二醇甲醚或丙二醇甲醚酯，且所述碱金属氢氧化物水溶液的重量百分浓度在5％至40％之间，且其为氢氧化钾或氢氧化钠或是两者的混合液。

25.根据权利要求23所述的方法，其中所述有机溶剂包括三乙醇胺。

26.根据权利要求25所述的方法，其中所述有机溶剂更包括N-甲基吡咯酮、二甲基亚砜、单乙醇胺中的任意一种或者一种以上组成的混合物。

27.根据权利要求23所述的方法，其中所述有机溶剂更包括二次乙基二醇单丁醚。

28.根据权利要求15所述的方法，其中所述处理溶液接触玻璃基板的方式为浸泡、喷洒或刷洗。