CN101177652A - 安全聚光去污膏 - Google Patents

Abstract

本发明是一种安全聚光去污膏，由活性剂(采用烷基苯磺酸)，助剂(采用三聚磷酸钠)，增调剂(采用羧甲基纤维素钠)，磨擦剂(采用方解石粉)，抗淀剂(采用硫酸和硅酸钠的混合浆料)，增调剂等基本成份组成。本产品工艺简单，节省能源，成本降低。此外，本发明不含任何有机溶剂。所以产品不燃烧，不挥发，无异味，无刺激性。使用十分安全。同时对金属物表面还有一定的聚光作用。可有效地去除物体表面的各种污垢，尤其可清除硬化的油污。

Description

安全聚光去污膏

本发明属于日用化工技术领域，是一种对软硬污垢均有良好清除效果，并具有聚光功用的安全聚光去污膏。

普通的膏状去污剂一般以脂肪酸的皂化材料作基质，所以要在加温条件下才能合成。其抗沉淀剂均用价格较高的高子类的“聚乙二醇”或有机类“尼诺尔”。所以其生产工艺复杂，成本高。再者，普通的膏状去污剂只对积污或生锈时间较短的软性污垢，有较好的清除效果，对硬性污垢则不起作用。

本发明提出的去污膏由活性剂(采用烷基苯横酸)，助剂(采用三聚磷酸钠)，增调剂(采用羧甲基纤维素钠)，磨擦剂(采用方解石粉)，抗淀剂(采用硫酸和硅酸钠的混合浆料)，增调剂等基本成份组成。

制备过程如下：用去离子水总量的50％将液体烧碱稀释，再与烷基苯磺酸进一步搅匀。将PH值控制在8-10。将硫酸缓缓加入硅酸钠内，并进行搅拌。使PH值控制在5.5-6.5之间；待结晶渐出，用100目左右的尼龙筛过滤，滤去残液，用去离子水总量的30％溶解羧甲基纤维素钠，用去离子水总量的20％溶解三聚磷酸钠，把方解石粉与液体石蜡混合，然后将上述各种配备好的组份加入均质机中，并加入适量尼泊金乙酯和皂用香精，在常温常压下搅拌约一小时。至均匀混合，出料，装瓶。

上述3例的组份的去污膏均可由上述工艺流程制备。例1的去污膏筒度略低，例2的去污膏稠度适中，例3的去污膏稠度较高。对物体表面污垢均能有效清除。

附表：

成份(总量为100)	例1	例2	例3
				烷基苯磺酸	1.7	2.2	2.7
三聚磷酸钠	2.2	2.8	3.0
				羧甲基纤维素钠	0.8	1	1.2
方解石粉	22	30	33
				硫酸(含量98％)	0.9	1.3	1.5
液体石蜡(工业级)	0.8	1	1.4
				液体烧碱(含量40％)	0.8	1	1.4

去离子水	至100	至100	至100
				硅酸钠(40Be)	7	8	13

本发明中磨擦剂、抗沉淀剂价格都比较便宜，而且可在常温常压下制备。其活性剂虽然较少，但其表面硬污垢去污力超过现有粉状或液体去污材料。其采用方解石粉作为磨擦剂，提高了去污膏的去污力。由于方解石与活性剂两者比重悬殊，因此选用本发明的抗沉淀剂，抗沉淀效果就比较理想，而且这些材料均为无机物，价格比较便宜。由于不须皂化基质，其活性剂的去污作用明显改进，而且采用了磨擦剂，去污时，表面涌透与磨擦相结合，故去污力大为提高。本产品工艺简单，节省能源，成本降低。此外，本发明不含任何有机溶剂。所以产品不燃烧，不挥发，无异味，无刺激性。使用十分安全。同时对金属物表面还有一定的聚光作用。可有效地去除物体表面的各种污垢，尤其可清除硬化的油污。

本发明工艺简单、成本低廉、且对软硬污垢均有良好清除效果，是同类产品中最佳选择。

Claims (3)

1.一种安全聚光去污膏，本发明提出的去污膏由活性剂(采用烷基苯横酸)，助剂(采用三聚磷酸钠)，增调剂(采用羧甲基纤维素钠)，磨擦剂(采用方解石粉)，抗淀剂(采用硫酸和硅酸钠的混合浆料)，增调剂等基本成份组成。

2.根据权利要求1所述的安全聚光去污膏，其特征在在于各组份的重量配比如下(设总量为100)：

烷基苯磺酸：        1.5-3.0

三聚磷酸钠：        2.0-3.5

硫酸(98％含量)：    20-35

羧甲基纤维素钠：    0.5-2.0

方解石粉：          20-35

硅酸钠(40Be)：      6-15

液体石蜡(工业级)：  08-1.5

液体烧碱(含量40％)：0.8-1.5

其余部分为去离子水。

3.一种安全聚光去污膏，制备过程如下：用去离子水总量的50％将液体烧碱稀释，再与烷基苯磺酸进一步搅匀。将PH值控制在8-10。将硫酸缓缓加入硅酸钠内，并进行搅拌。使PH值控制在5.5-6.5之间；待结晶渐出，用100目左右的尼龙筛过滤，滤去残液，用去离子水总量的30％溶解羧甲基纤维素钠，用去离子水总量的20％溶解三聚磷酸钠，把方解石粉与液体石蜡混合，然后将上述各种配备好的组份加入均质机中，并加入适量尼泊金乙酯和皂用香精，在常温常压下搅拌约一小时。至均匀混合，出料，装瓶。