CN1974744A - 活性聚光无机去污膏 - Google Patents
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Abstract
本发明是一种活性聚光无机去污膏，由活性剂、摩擦剂、抗沉淀剂，增稠剂等基本成分组成，其中活性剂采用烷基苯磺酸，增稠剂采用羧甲基纤维素钠，摩擦剂采用方解石粉，抗沉淀剂选用硫酸和硅酸钠的混合浆料。各种成分经一定处理后在均质机中搅拌，至均匀混合。本发明与通常的同类产品相比，去污力强，可用于物体表面各种污垢的清除，尤其可用于油泥、锈斑等硬性污垢的清除，同时对金属物表面还有一定的聚光作用。其制备可在常温常压下进行，工艺简单，成本低廉。
Description
本发明属于日用化工技术领域，是一种活性清除污垢，并具有聚光功用的活性聚光无机去污膏。
通常的膏状去污剂一般以脂肪酸的皂化材料作基质，因而合成需要在加温条件下进行，其中的抗沉淀剂均用价格较高的有机类“尼诺尔”或高子类的“聚乙二醇”等库存而生产工艺较为复杂，成本也较高。同时，通常的膏状去污剂对积污或生锈时间较短，或者对软性污垢，有较好的清除效果，但对一些硬性污垢往往无能为力。
本发明提出的去污膏由活性剂及其助剂，磨擦剂、抗沉淀剂、增调剂等基本成份组成，其中活性剂采用通常的烷基苯横酸，助剂采用三聚磷酸钠，增调剂采用羧甲基纤维素钠。磨擦剂采用方解石粉，抗淀剂选取用硫酸和硅酸钠的混合浆料。
本发明提出的制备工艺如下：
1、将液体烧碱用去离子水稀释，然后与烷基苯磺酸一起搅匀，PH值控制在8-10之间。
2、将硫酸逐渐加入硅酸钠内，并进行搅拌，控制PH值在5.5-6.5之间，待结晶渐出，滤去废液。
3、将羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠分别用去离子水溶解，将方解石粉与液体石蜡混合或不混合。
4、然后将上述各种配备好的组份加入均质机中，在常温常压下搅拌，至均匀混合。
根据需要在制造时可加入适量的防腐剂尼泊金乙酯。适量的芳得剂皂用香精。
制备过程如下：用去离子水总量的50％将液体烧碱稀释，再与烷基苯磺酸进一步搅匀。将PH值控制在8-10。将硫酸缓缓加入硅酸钠内，并进行搅拌。使PH值控制在5.5-6.5之间；待结晶渐出，用100目左右的尼龙筛过滤，滤去残液，用去离子水总量的30％溶解羧甲基纤维素钠，用去离子水总量的20％溶解三聚磷酸钠，把方解石粉与液体石蜡混合，然后将上述各种配备好的组份加入均质机中，并加入适量尼泊金乙酯和皂用香精，在常温常压下搅拌约一小时。至均匀混合，出料，装瓶。
上述3例的组份的去污膏均可由上述工艺流程制备。例1的去污膏筒度略低，例2的去污膏稠度适中，例3的去污膏稠度较高。对物体表面污垢均能有效清除。
附表：
| 成份(总量为100) | 例1 | 例2 | 例3 |
| 烷基苯磺酸 | 1.7 | 2.2 | 2.7 |
| 三聚磷酸钠 | 2.2 | 2.8 | 3.0 |
| 羧甲基纤维素钠 | 0.8 | 1 | 1.2 |
| 方解石粉 | 22 | 30 | 33 |
| 硫酸(含量98％) | 0.9 | 1.3 | 1.5 |
| 液体石蜡(工业级) | 0.8 | 1 | 1.4 |
| 液体烧碱(含量40％) | 0.8 | 1 | 1.4 |
| 去离子水 | 至100 | 至100 | 至100 |
| 硅酸钠(40Be) | 7 | 8 | 13 |
本发明采用方解石粉作为磨擦剂，提高了去污膏的去污力。由于方解石与活性剂两者比重悬殊，因此选用本发明的抗沉淀剂，抗沉淀效果就比较理想，而且这此材料场为无机物，价格比较便宜。由于不须皂化基质，基活性剂的去污作用明显改进，而且采用了磨擦剂，去污时，表面涌透与磨擦相结合，故去污力大为提高。本发明的活性剂虽然较少，但其表面硬污垢去污力超过现有粉状或液体去污材料。本发明中磨擦剂、抗沉淀剂价格都比较便宜，而且可在常温常压下制备。工艺简单，节省能源，成本降低。此外，本发明不含任何有机溶剂。所以产品不燃烧，不挥发，无异味，无刺激性。使用十分安全。可有效地去除物体表面的各种污垢，尤其可清除硬化的油污。同时对金属物表面还有一定的聚光作用。对于工业和民用均适合。
本发明对软硬污垢均有良好清除效果、工艺简单、成本低廉，是同类产品中最佳选择。
Claims (3)
1、一种活性聚光无机去污膏，由活性剂及其助剂、磨擦剂、抗沉淀剂、增稠剂等基本成份组成。所说的活性剂采用烷基苯磺酸，其助剂采用三聚磷酸钠，增稠剂采用羧甲基纤维素钠，其特征在于上述的磨擦剂采用方解石粉，抗沉淀剂采用硫酸和硅酸钠混合浆料。
2、根据权利要求1所述的活性聚光无机去污膏，其特征在在于各组份的重量配比如下(设总量为100)：
烷基苯磺酸：1.5-3.0
三聚磷酸钠：2.0-3.5
硫酸(98％含量)：20-35
羧甲基纤维素钠：0.5-2.0
方解石粉：20-35
硅酸钠(40Be)：6-15
液体石蜡(工业级)：08-1.5
液体烧碱(含量40％)：0.8-1.5
其余部分为去离子水。
3、一种活性聚光无机去污膏，根据重量配比范围称取各组份，其特征在于：
A、液体炮碱用去离子水稀释，然后与活性剂烷基苯磺酸一起搅匀，控制PH值在6-10之间。
B、硫酸逐渐加入硅酸钠中，进行搅拌，控制PH值在5.5-6.5之间，待结晶渐出，滤去残液。
C、将羧甲基纤维素钠，三聚磷酸钠分别用去离子水溶解，将方解石粉与石蜡或不混合。
D、然后上述各配备好的组份加入均质机中，在常温常压下搅拌，直至均匀混合。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 200510101655 CN1974744A (zh) | 2005-11-28 | 2005-11-28 | 活性聚光无机去污膏 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 200510101655 CN1974744A (zh) | 2005-11-28 | 2005-11-28 | 活性聚光无机去污膏 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN1974744A true CN1974744A (zh) | 2007-06-06 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| CN 200510101655 Pending CN1974744A (zh) | 2005-11-28 | 2005-11-28 | 活性聚光无机去污膏 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN1974744A (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106221586A (zh) * | 2016-08-14 | 2016-12-14 | 陈景芳 | 一种车用増亮剂 |
| CN109181889A (zh) * | 2018-09-30 | 2019-01-11 | 北京洛娃日化有限公司 | 一种多功能去污膏及制备方法 |
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2005
- 2005-11-28 CN CN 200510101655 patent/CN1974744A/zh active Pending
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| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |