CN101165500A - 半导体接面温度检测装置与方法 - Google Patents

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Abstract

一种半导体接面温度检测装置与方法,用于检测半导体的接面温度,该装置包括温控烤箱,可容置该受测半导体元件并依设定改变温度;测试单元,可输出测试电流至该半导体元件并测量其顺向偏压;处理单元,分别连接至该温控烤箱及该测试单元,且具有控制软件,可设定检测条件及控制该温控烤箱温度及该测试单元,并能读取其检测数据以算出接面温度。本发明可在不同温度下,测量并记录该受测半导体的顺向偏压对温度的变化,用以推算较精确半导体接面温度。

Description

半导体接面温度检测装置与方法
技术领域
本发明涉及一种半导体接面温度的检测装置与方法,且特别是涉及一种以不同温度条件及测试电流,半自动化测量半导体元件,以得到较精确的接面温度的检测装置与方法。
背景技术
电子产业的蓬勃发展带动电子元件的研发趋向于更高功能、密度更高的时代。其所产生的散热问题也愈来愈复杂,而电子元件内部的热能无法导出的结果,就是产品性能出现问题,因而电子封装的散热设计也格外重要。电子元件散热技术中最常用也最重要的参考是热阻值(thermal resistance),以半导体元件封装而言,最重要的参数是由芯片接面到固定位置的热阻,其定义如下:
Rth=(Tj-Tx)/P
其中Tj为二极管接面温度,Tx为某固定位置的温度(其可以为Tc封装温度、TL接脚温度或Ta环境温度),P为输入的发热功率(P=IT*VFT,即工作电流和工作顺向偏压的乘积)。热阻大表示热不容易传递,因此元件工作时的温度就会比较高,由热阻可以判断及预测元件的发热状况。电子元件相关产品设计时,为了预测电子元件的温度,需要使用热阻值的参考数据,因而设计者除了要提供良好散热设计产品,更需获得可靠的热阻数据供设计参考之用,而热阻值是由接面温度Tj及K系数(K factor)推导而来。
量测时首先需取得K系数(K factor),该值即二极管工作的顺向偏压值对温度的变化值。将受测物置于烤箱中加热到固定温度,等到封装内部及环境温度到达稳定,供应一微小电流Im到该受测元件,量测温度值,记录二极管顺向偏压值。记录不同的温度点T1、T2及其对应的第一偏压值VF1、第二偏压值VF2,做出一温度校正线,找出其斜率,此即称为K系数(K factor)。
K系数的量测法如下:
ΔVF=VF2-VF1
ΔT=T2-T1
K=ΔVF/ΔT
半导体材料具有一个基本特性,就是随着温度上升,顺向偏压会下降。而目前业界常用的热阻量测标准是JEDEC-51和MIL-STD-883,二者都是以K系数(K factor)去推算接面温度Tj。
接面温度Tj的量测法如下:
Tj=Ta+(VF2-VF1)/K
但是这样的量测方式是建立在顺向偏压对温度曲线变化(即K系数)是线性的基础上。请参阅美国发明专利证书号第US7 052180B2号,该案揭露了一种LED的接面温度检测器(LED JunctionTemperature Tester),利用二极管的顺向偏压对温度的线性关系去推导接面温度Tj(即假设K factor为线性),其是同一批材料中的二个元件,在不同温度下取得两元件的工作偏压VF1、VF2对温度T1、T2的关系以校正得知该元件的接面温度。前述的测量方法是假设K系数(K factor)在温度范围内皆为线性。但是很多材料的顺向偏压对温度曲线变化并不是完全线性的,如此一来,利用K系数(K factor)来推导接面温度Tj时,就会有计算上的误差。另外,传统的量测方法需要人力去注意、计算。常常单一材料的量测就需要一天的时间,因为不同测量电流间的切换,及温度控制等设定,人力成本较高,且量测上较易有人为误差,且其所需时间较长。
发明内容
鉴于上述的已知背景中,为了符合使用上的需求,本发明提供一种半导体接面温度的检测装置与方法,用以解决传统的接面温度检测常有的问题,且其所需时间较少,并可减少人为误差。
本发明的目的之一是提供一种半导体接面温度检测装置与方法,其可在不同温度下量测受测单元的顺向工作偏压对温度的变化,并由此得到较精确的接面温度值。
本发明的另一个目的是提供一种半导体接面温度检测装置与方法,其可利用计算机控制方式,半自动化的检测半导体接面温度,使测量时间缩短,并可减少人为误差。
本发明是提供一种半导体接面温度检测装置与方法,该装置包括一受测元件、一温控烤箱、一测试单元、一处理单元;该处理单元是连接至该温控烤箱及该测试单元,且该处理单元具有一控制软件,可设定温度检测条件并控制该温控烤箱的温度,及控制该测试单元输出测试电流,并能读取其检测数据(例如:顺向偏压、温度值);该温控烤箱可容置该受测元件,并在该处理单元控制下改变温度;该测试单元是连接至该温控烤箱,可输出测试电流至该受测元件并测量其顺向偏压;本发明可在该处理单元设定的温度下,半自动化测量并记录该受测元件的顺向偏压对温度的变化关系,以该受测元件的顺向偏压对温度曲线变化量做参考,再以内差法推导,得到较精确的接面温度,且以半自动化量测,减少人为误差,且所需时间较少。
附图说明
图1,是本发明优选实施例的方块图。
图2,是本发明优选实施例的工作顺向偏压测量方块图。
图3,是本发明优选实施例的流程图。
图4,是本发明优选实施例的顺向偏压对温度的变化图。
图5,是本发明优选实施例的工作顺向偏压对接面温度的示意图。
具体实施方式
有关本发明的详细说明及技术内容,现就配合图式说明如下:
请参阅图1,是本发明优选实施例的半导体接面温度检测装置方块图,如图所示:本发明是用以检测一半导体元件,可定义为一受测元件40(未示于图1中)。本发明的优选实施例,包括有一温控烤箱30,可容置该受测元件40,并依设定改变温度,该温控烤箱30可以为一可与计算机联机的温控烤箱30,并可回传温度值;一测试单元20,该测试单元20是包括一电源供应器及一电压计(未示于图中),其可输出一测试电流至该受测元件40并测量其偏压值,该测试单元20具有计算机联机功能,可由计算机控制并和计算机进行数据的交换,且其具有一测试线21,可连接至该受测元件40,用以输出电流及测量电压;一处理单元10,其具有一控制软件,可联机控制该温控烤箱30及该测试单元20;该控制软件可接受输入参数并制作图表,该输入参数包括:测试电流、测量温度点及温度平衡时间;该处理单元10具有多条传输线11,是连接至该温控烤箱30及该测试单元20,并可依该输入参数控制该温控烤箱30改变温度及该测试单元20以输出测试电流并读取电压值。该处理单元10还可接受该温控烤箱30及该测试单元20回传的温度及电压数据,并利用该控制软件以产生图表或储存。请参阅图2,其是将欲测量接面温度的受测元件40连接于该测试单元20,该测试单元20可输出一工作电流至该受测元件40;待工作温度稳定后,该测试单元20可停止该工作电流,并输出一测试电流通过该受测元件40并量测该受测元件40以得到一工作顺向偏压值。视实际情况,可于该测试单元加设一感温元件,用以连接该受测元件40并测量温度。
本发明的另一优选实施例还包括一密封箱(未示于图中),该密封箱具有多支感温器(视实际应用情况,可以为热电偶ThermalCoupler)及一温度记录器;该受测元件40是可容置于该密封箱,该测试单元20可连接至该密封箱内的受测元件40,并提供一工作电流或测试电流以及测量该受测元件40的工作顺向偏压值;该温度记录器是连接于该多支感温器及该处理单元10之间,可利用感温器连接至该受测元件40以量测温度并回传至该处理单元10。
请参阅图3,其示出本优选实施例的一种半导体接面温度检测方法流程图。此目的在于测量并记录一受测元件40在一固定的测量电流通过时,其顺向偏量对温度曲线变化,用来做为该受测元件40接面温度推算的参考数据。首先,如步骤51所示,先输入测试参数,包括设定测量电流值Im(可视实际情况需求,设定为多组以上测量电流Im1、Im2...ImN,且另加设一测量间隔时间Td),温度点(例如:温度范围0℃~200℃)T1、T2、T3、T4...TN,且可设定材料的极性,及一温度平衡时间。设定完成后,如步骤52,将受测元件40加热至温度点T1,并依前述设定持续该温度平衡时间内,保持在该温度点(该温度平衡时间不少于10分钟)。待温度稳定于T1时之后,如步骤53,依前述设定的测量电流设定,输出一测量电流Im至该受测元件40,并测量该顺向偏压VF1。然后,如步骤54所示(请参阅图4),依设定继续测量,重复前二个步骤52、53,以依序取得VF2、VF3、VF4…VFN的测量数据(视实际情况需求,如该测量电流Im为多组以上,则每等待一测量间隔时间Td,即依序输出不同的测量电流Im1、Im2...ImN并分别读取其顺向偏压)。数据取得后,如步骤55,储存并制作图表。下一步骤56,是运用该测试单元20,连接该受测元件40并依设定输出一工作电流,并测量其工作顺向偏压VF。下一步骤57所示(请参阅图5),是利用前述步骤取得的工作顺向偏压VF,对应至步骤55所产生的图表,找出该工作顺向偏压VF所对应的位置,并以内差法取得该受测元件40实际工作时的接面温度Tj。
内差法的计算方法如下:
VF是落在VFX与VFX+1之间,对应至图表中,Tj落在TX与TX+1之间,并以该区间的温度系数K由以下公式推算接面温度。
公式:
Tj=TX+(VF-VFX)*K
K=(TX+1-TX)/(VFX+1-VFX)
最后,依前述的步骤计算出该受测元件的接面温度,结束测试工作。
以上仅为本发明的优选实施例而已,并非用来限定本发明的实施范围,即凡根据本发明申请专利范围的内容所为的等效变化与修饰,皆应为本发明的技术范畴。

Claims (11)

1.一种半导体接面温度检测装置,其特征在于,包括:
受测元件(40);
温控烤箱(30),可容置所述受测元件(40),并依设定对所述受测元件(40)加温;
测试单元(20),具有计算机联机功能,可由计算机控制并和计算机进行数据的交换,并可输出测试电流或工作电流至所述受测元件(40)并测量偏压;
处理单元(10),其具有控制软件,可接受输入参数、联机及控制所述温控烤箱(30)改变温度及所述测试单元(20)输出测量电流并读取电压值。
2.根据权利要求1所述的半导体接面温度检测装置,其特征在于,所述温控烤箱(30)可以为可与计算机联机的所述温控烤箱(30),并可回传温度值。
3.根据权利要求1所述的半导体接面温度检测装置,其特征在于,所述测试单元包括电源供应器及电压计。
4.根据权利要求1所述的半导体接面温度检测装置,其特征在于,所述测试单元是包括感温元件,用以连接所述受测元件(40)并测量温度。
5.根据权利要求1所述的半导体接面温度检测装置,其特征在于,所述控制软件可依所述温控烤箱(30)及所述测试单元(20)回传的数据产生图表。
6.根据权利要求1所述的半导体接面温度检测装置,其特征在于,包括密封箱,所述密封箱具有多支感温器及温度记录器;
所述受测元件(40)是可容置于所述密封箱,所述测试单元(20)可连接至所述密封箱内的所述受测元件(40),并提供工作电流或测试电流以及测量所述受测元件(40)的工作顺向偏压值;
所述温度记录器是连接于所述多支感温器及所述处理单元(10)之间,可利用感温器连接至所述受测元件(40)以量测温度并回传至所述处理单元(10)。
7.一种根据权利要求1所述的半导体接面温度检测装置的半导体接面温度检测方法,其特征在于,包括下列步骤:
(a)设定多个温度点及测量电流值;
(b)运用温控烤箱(30)加热受测元件(40);
(c)待所述受测元件(40)加热达设定温度点并保持温度平衡时间,运用测试单元(20)提供测试电流通过所述受测元件(40)并量测所述受测元件(40)的顺向偏压值;
(d)重复前二步骤,以取得在不同测试电流通过所述受测元件(40)时,温度对顺向偏压变化的测量值;
(e)制作所述受测元件(40)在不同测试电流下,其温度对所述顺向偏压变化的曲线图表;
(f)取得所述受测元件(40)的工作顺向偏压;
(g)对照所述曲线图表,以所述工作顺向偏压值并利用内差法求得接面温度。
8.根据权利要求7所述的半导体接面温度检测方法,其特征在于,测试温度范围为0℃~200℃。
9.根据权利要求7所述的半导体接面温度检测方法,其特征在于,取得所述受测元件(40)的工作顺向偏压的步骤包括:
(a)所述受测元件(40)连接至所述测试单元(20),通过工作电流;
(b)停止所述工作电流,运用所述测试单元(20)提供测试电流通过所述受测元件(40)并量测所述受测元件(40)以得到工作顺向偏压值。
10.根据权利要求7所述的半导体接面温度检测方法,其特征在于,所述接面温度值Tj是以内差法取得,其公式如下:
Tj=TX+(VF-VFX)*K
K=(TX+1-TX)/(VFX+1-VFX)
11.根据权利要求7所述的半导体接面温度检测方法,其特征在于,所述温度平衡时间不少于10分钟。
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