CN101150031A - 等离子体显示面板和形成等离子体显示面板的障肋的方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种形成等离子体显示面板障肋的方法，包括在衬底上提供障肋层并选择性地去除障肋层的若干部分，从而形成限定多个第一和第二放电单元的障肋结构，该障肋结构中的至少一个障肋具有沿其中轴线不对称的水平横截面，所述第一和第二放电单元具有不同的内表面面积。

Description

等离子体显示面板和形成等离子体显示面板的障肋的方法

技术领域

各实施例涉及一种等离子体显示面板(PDP)和形成PDP障肋的方法。

背景技术

通常，等离子体显示面板(PDP)是使用由气体放电产生的紫外线来激发荧光材料来显示预定图像的显示装置。PDP作为下一代薄板显示器由于其高分辨率和潜在的大屏幕尺寸而受到关注。

PDP可根据所使用的驱动方法分为例如直流(DC)PDP、交流(AC)PDP、混合型PDP。直流PDP和交流PDP可以根据其放电结构进一步分为例如对向放电式PDP或表面放电式PDP。最近，交流PDP已经得到普及。

在传统的PDP中，障肋可通过喷沙形成。但是，在大规模生产中，喷沙可以造成障肋中大量的开口缺陷。因此，可以在PDP的形成中采用蚀刻法作为使障肋减少开口缺陷的方法。该蚀刻法可以通过在将形成放电单元之处喷洒蚀刻溶液而将障肋图样化。

在PDP中，可以通过其中分别含有红、绿和蓝荧光层的红、绿和蓝放电单元来显示彩色图像。不过，红、绿和蓝的荧光材料可在不同程度上有助于显示亮度，增大发光效率，和/或提高色温。

传统的涉及均一障肋结构的PDP技术还未解决在不同荧光层之间的特性和性能差异这一相关问题。

发明内容

因此，各实施例涉及一种等离子体显示面板(PDP)和形成PDP障肋的方法，该面板和方法基本克服了由于现有技术的局限性和缺陷而造成的一个或多个问题。

因此，本发明的实施例的一个特征在于，提供一种PDP和制造该PDP障肋的方法，该方法减少了障肋的开口缺陷。

因此，实施例的另一特征在于，提供了一种PDP和制造该PDP的障肋的方法，该PDP包括放电单元中的不同的放电空间。

因此，实施例的另一特征在于，提供了一种PDP和制造该PDP的障肋的方法，该PDP具有对于不同放电空间的不同厚度的障肋。

因此，实施例的另一特征在于，提供了一种PDP和制造该PDP的障肋的方法，该PDP在不同的放电空间中具有不同的荧光材料。

因此，实施例的又一特征在于，提供了一种亮度增强的PDP。

因此，实施例的又一特征在于，提供了一种发光效率增大的PDP。

因此，本发明的实施例的又一特征在于，提供了一种提高色温的PDP。

上文中提及的以及其它的特征及优点中的至少一个可通过提供一种形成PDP障肋的方法来实现，该方法包括：在衬底上提供障肋层；并选择性地去除障肋层的若干部分，以形成限定多个第一和第二放电单元的障肋结构，该障肋结构中的至少一个障肋具有沿其中轴线不对称的水平横截面，该第一和第二放电单元具有不同的内表面面积。

提供障肋层这一步骤可包括在衬底上形成第一障肋层和第二障肋层，该第一和第二障肋层在衬底上邻接，且具有不同的蚀刻速度。选择性地去除这一步骤可包括提供一个蚀刻掩模，以暴露出第一障肋层的预定区域和第二障肋层的预定区域，并使用蚀刻掩模来蚀刻所述第一和第二障肋层暴露出的预定区域。

第一障肋层可具有针对蚀刻溶液的第一蚀刻速度，第二障肋层可具有针对所述蚀刻溶液的第二蚀刻速度，第二蚀刻速度可慢于第一蚀刻速度。

形成第一障肋层和第二障肋层这一步骤可包括：在衬底上将形成第一放电单元之处提供第一障肋层并在衬底上将形成第二放电单元之处提供第二障肋层。形成第一障肋层这一步骤可进一步包括在第一障肋层上提供第三障肋层。

所述第一和第二放电单元可提供以不同的荧光材料。所述不同的荧光材料可产生不同的颜色。第一放电单元在数量上可以是第二放电单元的两倍，并且所述至少一个障肋可位于其中一个第一放电单元和其中一个第二放电单元之间。所述至少一个障肋可限定具有不同宽度的邻接的放电单元。第一放电单元的内表面面积可大于第二放电单元的内表面面积。

选择性地去除这一步骤可包括在障肋层上提供第一蚀刻掩模，以暴露出该障肋层上将形成第一放电单元的第一预定区域，使用具有针对该障肋层的第一蚀刻速度的第一蚀刻溶液来蚀刻所暴露出的障肋层，在障肋层上提供第二蚀刻掩模，以暴露出该障肋层上将形成第二放电单元的第二预定区域，使用具有针对该障肋层的不同于第一蚀刻速度的第二蚀刻速度的第二蚀刻溶液来蚀刻所暴露出的障肋层。第二蚀刻速度可以慢于第一蚀刻速度。

上述和其他特征及优点中的至少一个实现方式如下：提供一种PDP，其包括后衬底、与后衬底隔开预定距离的前衬底、在前衬底和后衬底之间的障肋结构，该障肋结构限定多个第一和第二放电单元，该障肋结构中的至少一个障肋具有沿其中轴线不对称的水平横截面，所述第一和第二放电单元具有不同的内表面面积。

所述至少一个障肋可包括衬底上的第一材料和衬底上的第二材料，第二材料邻接第一材料，第一材料的第一侧壁与第二材料的第二侧壁具有不同斜率。所述至少一个障肋可进一步包括在第一材料上的第三材料，所述第二材料邻接第三材料。所述第二和第三材料可以相同。该第三材料的第三侧壁有与所述第一侧壁可具有不同斜率。

所述至少一个障肋可由单一材料制成。

所述PDP可包括在第一放电单元内的第一荧光材料，和在第二放电单元内的第二荧光材料，该第二荧光材料不同于所述第一荧光材料。所述第一和第二荧光材料可产生不同的颜色。

该PDP的第一放电单元在数量上可以是第二放电单元的两倍，且所述至少一个障肋可位于其中一个第一放电单元和其中一个第二放电单元之间。

附图说明

通过参照附图来详细描述本发明的示例性实施例，本发明的上述和其他特征及优点对于本领域的普通技术而言将变得愈加明显，在附图中：

图1-4示出了根据实施例的一种制造等离子体显示面板障肋的方法中的分阶段透视图；

图5A-6B示出了图4中示出的障肋分别沿线5A-5A′、5B-5B′、6A-6A′、6B-6B′截取的截面图；

图7-10示出了根据实施例的一种制造障肋的方法中的分阶段透视图；

图11A-12B示出了图10中示出的障肋分别沿线11A-11A′、11B-11B′、12A-12A′、12B-12B′截取的截面图；

图13-17示出了根据实施例的一种制造障肋的方法的分阶段透视图；

图18示出了根据实施例的一种等离子体显示面板的分解透视图；

图19-21示出了图18中示出的等离子体显示面板分别沿线19-19′、20-20′、21-21′截取的截面图；

图22示出了根据实施例的一种等离子体显示面板的分解透视图；和

图23-25示出了图22中示出的等离子体显示面板分别沿线23-23′、24-24′、25-25′截取的截面图。

具体实施方式

在2006年9月20日提交于韩国知识产权局的、标题为：“等离子显示面板和形成等离子显示面板障肋的方法(Plasma Display Panel and Method ofForming Barrier Ribs of the Plasma Display Panel)”的韩国专利申请No.10-2006-0091107号以其全部内容通过引用并入于此。

下文中将参照附图更为详尽地描述本发明，附图中图示了本发明的各示例性实施例。不过，本发明可以体现为不同的形式且不应解释为仅限于在此阐述的实施例。更确切地，这里提供的实施例使本公开全面而详尽，并使本公开可以向本领域技术人员充分传达本发明的范围。

附图中为进行清晰图示，可对各层和区域的尺寸进行放大。还可以理解的是，当层或元件被称为在另一层或衬底“上”时，该层或元件可以直接处于另一层或衬底上，或者也可以在其间存在中间层。进一步，可以理解的是，当层被称为在另一层“下”时，该层可以直接处于下方，也可以在其间存在一个或多个中间层。此外，也可以理解的是，当层被称为在两个层“之间”时，在所述两个层之间可以只有一层，也可以存在一个或多个中间层。贯穿全文，相同的附图标记指代相同的元件。

图1-4示出了根据本发明实施例的一种制造等离子显示面板(PDP)障肋的方法中的各阶段的透视图。图5A-6B示出了图4所示障肋的截面图。

参照图1，寻址电极122可处于后衬底121上，下介电层125可覆盖寻址电极122。后衬底121可包括第一障肋层200和第二障肋层220。更具体地，第一障肋层200可处于后衬底121的预定区域上，在邻近该预定区域处形成有绿或蓝放电单元。绿放电单元主要用于增大PDP的亮度和发光效率，而蓝放电单元主要用于提高色温。第二障肋层220可处于后衬底121上的另一预定区域上，在邻近该另一预定区域处形成有红放电单元。

第一障肋层200可包括约71.01％的粉末，该粉末包含约37.4％ZnO、13.5％BaO、23.7％B₂O₃、8.4％P₂O₅、1.0％Li₂O、1.0％Na₂O、5.0％Al₂O₃、和10.0％ZnO(或ZrO、或SnO)，采用约2.01％C₁₀H₁₈O和0.81％丁基卡必醇醋酸酯作为溶剂。其余的量可由添加剂提供。第二障肋层220可包括约71.91％的粉末，该粉末包含约30～50％ZnO、20-35％BaO、20-40％B₂O₃、5-20％P₂O₅、1-5％Li₂O、1-10％Mn₂O₃，、1-5％Cr₂O₃、3.0％Al₂O₃、和4.0％ZnO(或ZrO、或SnO)，采用约2.01％的C₁₀H₁₈O和0.81％的丁基卡必醇醋酸酯作为溶剂。其余的量可由添加剂提供。所述添加剂可为陶瓷粉末、热塑性树脂或可塑剂。所述陶瓷粉末用于保持形状，并且所使用的陶瓷粉末可组合从由氧化铝、氧化锆、锆石、氧化钛、堇青石、多铝红柱石、硅石、硅锌矿、氧化锡和氧化锌组成的组中选出的一种或两种或更多种材料。热塑性树脂用于在干燥后增大膜强度并提供弹性，且可例如为聚甲基丙烯酸丁酯(PBMA)、聚乙烯基丁缩醛、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯或乙基纤维素。可塑剂用于控制干燥速度并为经干燥的膜提供弹性，并且可为邻苯二甲酸丁苄酯、邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二癸酯、邻苯二甲酸二异辛酯、邻苯二甲酸二丁酯。上述附图所涉及的百分比为重量百分比。

可例如通过将可包含第一障肋层200和第二障肋层220的膜从迭片卷拢状态层叠化，从而在后衬底121上设置第一障肋层200和第二障肋层220。可替换地，第一障肋层200形成方式可如下：将构建第一障肋层200的糊状合成物涂覆到后衬底121的预定区域上，并烘烤该糊状合成物。第二障肋层220形成方式可如下：将构建第二障肋层220的糊状合成物涂覆在后衬底121的预定区域上，并烘烤该糊状合成物。但是，根据本发明的形成第一障肋层200和第二障肋层220的方法并不限于上述方法，而可以通过使用多种不同方法实现。

参照图2，蚀刻掩模层500可处于其上已经形成第一障肋层200和第二障肋层220的后衬底121上。在第一障肋层200和第二障肋层220上已经形成用于形成蚀刻掩模的层之后，在该层上可形成光刻层(未示出)。可通过使用光掩模对该光刻层曝光和显影来形成光刻图案层。然后，可通过使用光刻图案来蚀刻用于形成蚀刻掩模的层，来形成蚀刻掩模层500。可替换地，可以无需形成蚀刻掩模层，而将光刻图案层直接用作蚀刻掩模层500。

图2示出了具有矩阵形状的蚀刻掩模层500，但本发明并不限于此。也就是说，蚀刻掩模层500可以根据障肋形状(例如双障肋形状或带条纹的肋状)而具有不同的形状。

所形成的蚀刻掩模层500可以暴露出第一障肋层200和第二障肋层220中将形成放电单元的预定区域，并保护第一障肋层200和第二障肋层220中将形成障肋的其余区域。

参照图3，可以例如蚀刻地去除第一障肋层200和第二障肋层220，以便使用蚀刻掩模层500暴露出位于第一障肋层200a和第二障肋层220a下方的下介电层125。可以使用化学蚀刻方法，将蚀刻溶液均匀喷洒在连接到后衬底121的部分上。蚀刻溶液例如可为HNO₃。所述化学蚀刻方法例如可为各向同性蚀刻方法。因此，蚀刻溶液可以沿所有方向侵蚀第一障肋层200a和第二障肋层220a。相应地，由化学蚀刻方法形成的第一障肋层200a和第二障肋层220a可具有弯曲侧壁。

第一障肋层200a可具有针对特定蚀刻溶液的第一蚀刻速度。第二障肋层220a可具有针对上述蚀刻溶液的第二蚀刻速度，第二蚀刻速度可以慢于第一蚀刻速度。相应地，在相同的蚀刻时段内，第一障肋层200a比第二障肋层220a受到更多蚀刻。

参照图4，可以从图3的结果产物中去除蚀刻掩模层500，从而显露出具有矩阵型形状的障肋130。障肋130可包括多个水平障肋130a和多个竖直障肋130b。

图5A和图5B示出了水平障肋130a相应地沿图4中的线5A-5A′和5B-5B′截取的截面图。参照图5A，可限定红放电单元180a的第一水平障肋130a可以通过下部宽度为W₁的第二障肋层220a形成。参照图5B，可限定绿放电单元180b和蓝放电单元180c的第二水平障肋130a₂可以通过下部宽度为W₂的第一障肋层200a形成，宽度W₂可窄于W₁。因此，与红放电单元180a相比，绿放电单元180b和蓝放电单元180c可具有更大的放电空间，从而具有更宽的面积来设置荧光材料。

图6A和6B示出了竖直障肋130b分别沿图4中的线6A-6A′和6B-6B′截取的截面图。参照图6A，第一竖直障肋130b₁可包括第一障肋层200a和第二障肋层220a。对于在第一竖直障肋130b₁的中轴线C两侧的预定蚀刻溶液而言，第一障肋层200a可具有第一蚀刻速度，第二障肋层220a可具有第二蚀刻速度，第二蚀刻速度可慢于第一蚀刻速度。第一障肋层200a可类似于第二障肋层220a。由于上文所述的不同的蚀刻速度，第一障肋层200a可具有与第二障肋层220a不同的曲率。因此，第一竖直障肋130b₁可相对于其中轴线C不对称。参照图6B，第二竖直障肋130b₂可包括第一障肋层200a，并且可相对于第二竖直障肋130b₂的中轴线C对称形成。

第一竖直障肋130b₁可限定红放电单元180a和绿放电单元180b之间的边界。第一竖直障肋130b₁可在朝向红放电单元180a的方向上更宽。第二竖直障肋130b₂可限定绿放电单元180b和蓝放电单元180c之间的边界。相应地，与红放电单元180a相比，绿放电单元180b和蓝放电单元180c可具有相对较大的放电空间，因此可具有更大的能够设置荧光材料的面积。

图7-10示出了根据实施例的一种制造障肋的方法的各阶段透视图，图11A-12B示出了图10中示出的障肋的截面图。

参照图7，第一障肋层205、第二障肋层220和第三障肋层210可处于后衬底121上，后衬底121可包含寻址电极122和下介电层125。更具体地，多重障肋层260可包括第一障肋层205和第三障肋层210。多重障肋层260可位于后衬底121上的将形成绿放电单元180b和蓝放电单元180c之处。与前述实施例相同，第二障肋层220可为单一层，在后衬底121上所处的位置对应于将形成红放电单元180a之处。第一障肋层205和第三障肋层210可分别由上文参照前述实施例的第一障肋层200和第二障肋层220所阐述的相同材料制成。进一步，如图7所示，第二和第三障肋层可形成连续层，但本发明并不限于此。

在本示例性实施例中，多重障肋层260为双层，但本发明并不限于此。多重障肋层260可包括下层所用材料蚀刻速度快于上层所用材料的复合层。

如参照图1所述，可以例如通过使用层压法或通过涂覆并烘烤糊状合成物或浆料，来形成多重障肋层260和第二障肋层220。

参照图8，可以在多重障肋层260和第二障肋层220上形成蚀刻掩模层500。如参照图2所述，可形成蚀刻掩模层500，以暴露出多重障肋层260和第二障肋层220上将形成放电单元的部分。光刻层(未示出)可以经曝光和显影来限定放电单元的位置。

参照图9，通过使用蚀刻掩模层500来蚀刻多重障肋层260和第二障肋层220，可形成放电单元180a、180b和180c。该蚀刻方法例如可为化学蚀刻方法。蚀刻溶液可以以第一蚀刻速度通过第一障肋层205渗透多重障肋层260，而第二障肋层220和第三障肋层210可以以第二速度进行蚀刻，该第二速度可慢于第一蚀刻速度。相应地，在多重障肋层260a的侧壁上可形成两种曲面。因此，多重障肋层260a的侧壁可具有特定的线性度，即，可以比单独的第二障肋层220a斜率更小。

可以使用相同的掩模和蚀刻溶液在多重障肋层260a上同时进行蚀刻过程。第一障肋层205a和第三障肋层210a可彼此邻接并可具有不同的蚀刻速度。第一障肋层205a和第三障肋层210a可同时暴露出。第一障肋层205a和第三障肋层210a均不用作蚀刻停止膜，但蚀刻过程可以以不同蚀刻速度进行。因此，在第一障肋层205a和第三障肋层210a之间的边界可相对平滑。

多重障肋层260a在侧壁上可具有至少两种曲面。因此，多重障肋层260a的侧壁表面可以大于第二障肋层220a的侧壁表面。

当去除蚀刻掩模层500时，障肋135可如图10所示。障肋135可为矩阵形状，并相应地可包括多个水平障肋135a和多个竖直障肋135b。

水平障肋135a可包括第一水平障肋135a₁和第二水平障肋135a₂，竖直障肋135b可包括第一竖直障肋135b₁和第二竖直障肋135b₂。

图11A示出了第一水平障肋135a₁沿图10中的线11A-11A’截取的截面图。第一水平障肋135a₁可形成于具有相对慢的第二蚀刻速度的第二障肋层220a上。第一水平障肋135a₁可以相对于第一水平障肋135b₁的中轴线C对称，并可以具有相对宽的下部宽度W₁，即，该第一水平障肋135a₁与图5A中示出的第一水平障肋130a₁相同。

图11B示出了第二水平障肋135a₂沿图10中的线11B-11B’截取的截面图。第二水平障肋135a₂可包括第一障肋层205a和形成在第一障肋层205a上的第三障肋层210a。第一障肋层205a可具有相对高的第一蚀刻速度，因此多重障肋层260a的下部宽度W₃窄于宽度W₁。由较宽的第一水平障肋135a₁限定的红放电单元180a可小于由较窄的第二水平障肋135a₂限定的绿放电单元180b或蓝放电单元180c。

图12A示出了第一竖直障肋135b₁沿图10中的线12A-12A’截取的截面图。第一竖直障肋135b₁可关于中轴线C不对称。在本示例性实施例中，第一竖直障肋135b₁可以在朝向红放电单元180a的方向上进一步延伸，因此红放电单元180a的放电空间可以相对小。

图12B示出了第二竖直障肋135b₁沿图10中的线12B-12B’截取的截面图。第二竖直障肋135b₂可包括多重障肋层260a，并可关于中轴线C对称。

图13-17示出了根据实施例的一种制造障肋的方法的分阶段透视图。

参照图13，障肋层240可形成在后衬底121上，在后衬底121上可形成寻址电极122和下介电层125。如上文针对图1的描述，可以通过使用层压法或通过涂覆并烘烤糊状合成物或浆料来形成障肋层240，但本发明并不限于此。

参照图14，在障肋层240上可形成第一蚀刻掩模层520。第一蚀刻掩模层520可暴露出障肋层240上将形成绿放电单元180b和蓝放电单元180c的预定区域。第一蚀刻掩模层520可通过曝光和显影过程形成图案。

参照图15，可以使用第一蚀刻掩模层520作为蚀刻遮光板而通过在图14的结果产物上喷洒第一蚀刻溶液来实现蚀刻过程。第一蚀刻溶液可具有关于障肋层240的第一蚀刻速度。因此，由上述蚀刻过程形成的障肋层240a可具有下部宽度相对窄的瓶颈形状。绿放电单元180b和蓝放电单元180c可由这种障肋层240a限定。

参照图16，可在障肋层240a上去除第一蚀刻掩模层520并形成第二蚀刻掩模层560，以暴露出障肋层240a上将形成红放电单元的预定区域。所形成的第二蚀刻掩模层560可以覆盖绿放电单元180b和蓝放电单元180c，从而就不能进一步蚀刻绿放电单元180b和蓝放电单元180c。

参照图17，第二蚀刻溶液被喷洒到障肋层240a上，以便根据第二蚀刻掩模层560蚀刻该障肋层。第二蚀刻溶液可具有在障肋层240a上执行的蚀刻过程所对应的第二蚀刻速度，第二蚀刻速度可慢于第一蚀刻速度。因此，障肋层240a的下部宽度可宽于由参照图16所描述的蚀刻过程形成的障肋层240a的下部宽度。

可以去除第二蚀刻掩模层560从而完成所述障肋的制造。本实施例中形成的障肋与图4-6B中描述的障肋形状相同，不过本实施例的这些障肋由单一材料制成。

图18示出了根据实施例的等离子体显示面板(PDP)的分解透视图。图19和图21示出了图18中示出的PDP的截面图。

参照图18，PDP 100可包括彼此相对而组合的前面板150和后面板160。前面板150可包括前衬底111，维持电极对131、132，上介电层114和钝化层115。后面板160可包括后衬底121，寻址电极122，下介电层125，障肋130和荧光层126a、126b和126c。

前衬底111和后衬底121可彼此相隔预定距离并彼此相对，以限定可发生等离子体放电的放电空间。前衬底111和后衬底121可例如为具有高可见光透射率或者被着色以提高亮室对比度的玻璃。

障肋130可位于前衬底111和后衬底121之间，更具体地，障肋130可以形成在下介电层125上。障肋130可以限定多个放电单元180a、180b和180c的放电空间，并可以避免放电单元180a、180b和180c之间出现光串扰和电串扰。

参照图18，障肋130可包括可以沿着与寻址电极122相同的方向(y方向)延伸的水平障肋130a和可以互连水平障肋130a的竖直障肋130b。

水平障肋130a可包括第一水平障肋130a₁和第二水平障肋130a₂，竖直障肋130b可包括第一竖直障肋130b₁和第二竖直障肋130b₂。

图19示出了PDP 100沿图18中的在Y方向上的线19-19′截取的截面图。参照图19，第一竖直障肋130b₁可包括彼此邻接的第一障肋层200a和第二障肋层220a。第二障肋层220a的蚀刻速度慢于第一障肋层200a的蚀刻速度。因此，邻近红放电单元180a的第二障肋层220a的下部宽度可宽于临近蓝放电单元180c或绿放电单元180b的第一障肋层200a的下部宽度。相应地，红放电单元180a的放电空间可小于其他放电单元的放电空间。因此，可以减小红荧光材料的设置面积。第二竖直障肋130b₂可由第一障肋层200a形成，并且可具有对称的薄瓶颈形状。

图20和21示出了PDP 100分别沿图18中在X方向上的线20-20′和21-21′截取的截面图。参照图20和21，第一水平障肋130a₁可由第二障肋层220a形成，第二水平障肋130a₂可由第一障肋层200a形成。第一水平障肋130a₁可具有相对慢的蚀刻速度，第二水平障肋130a₂可具有相对快的蚀刻速度。因此，第一水平障肋130a₁的下部宽度W₁可宽于第二水平障肋130a₂的下部宽度W₂。第一水平障肋130a₁和第二水平障肋130a₂彼此对照而呈现不对称；但是，第一水平障肋130a₁和第二水平障肋130a₂中的每个均关于其自身的中轴线对称。

在图18中，障肋130可以将放电单元180a、180b和180c限定为具有矩形状水平横截面的矩阵，但本发明并不限于此。也就是说，障肋130可以将放电单元180a，180b和180c限定为各种不同的封闭形状，举例而言，诸如三角形或五边形的多边形，圆形或椭圆形，或者限定为例如条状的各种不同的开放形状。此外，障肋130可以将放电单元180a，180b和180c限定为三角形形状的排列。

再次参照图18，维持电极对131、132可在面对后衬底121的前衬底111上。维持电极对131、132可在前衬底111上彼此平行。每个维持电极对131、132可包括可用作维持电极的X电极131和可用作扫描电极的Y电极132。

X电极131和Y电极132可分别包括透明电极131a和132a以及总线电极131b和132b。透明电极131a和132a的形成材料可为诸如氧化铟锡(ITO)的导电且透明的材料，这类材料不会阻挡荧光层126a、126b和126c产生的可见光。但是，这种导体可具有高电阻。当只使用透明电极形成放电电极时，由于沿该电极的电压降较大，而使能量消耗增大且响应时间增长。为了避免上述问题，可以由具有高传导率的金属制成窄总线电极131b和132b，并将窄总线电极131b和132b置于透明电极131a和132a上。例如可以通过例如光电蚀刻法或者光刻法形成透明电极131a和132a以及总线电极131b和132b。

现在将描述X电极131和Y电极132的形状和排列。总线电极131b和132b彼此相隔预定距离，可在单位放电单元180内彼此平行，并可延伸穿过放电单元180。如上所述，透明电极131a和132a可以分别电连接到总线电极131b和132b。但是，矩形形状的透明电极131a和132a可以在每个单位放电单元180内不连续，由此透明电极131a和132a的一端可分别连接到总线电极131b和132b，并且透明电极131a和132a的另一端可分别面朝放电单元180a、180b和180c的中心部分。

上介电层114可以遮蔽维持电极对131、132，并可形成在前衬底111上。上介电层114不仅可以防止相邻的X电极131和Y电极132之间的电连接，还可以防止X和Y电极131和132由于与带电粒子和电子直接撞击而受损。上介电层114可以由多种材料形成，例如PbO、B₂O₃或SiO₂。

PDP 100可以进一步包括上介电层114上的钝化层115。钝化层115可以防止上介电层114由于放电期间与带电粒子和电子撞击而受损。可以例如通过对二次电子发射系数较高且可见光反射率较高的材料进行溅射(sputtering)或电子束沉积，来形成钝化层115。

寻址电极122可形成于面向前衬底111的后衬底121上。寻址电极122可延伸穿过单位放电单元并与X电极131和Y电极132交叉。寻址电极122可产生寻址放电，该寻址放电帮助X电极131和Y电极132之间进行维持放电。更具体地，寻址电极122可减小产生维持放电的电压。该寻址放电可以产生在Y电极132和寻址电极122之间。

下介电层125可遮蔽寻址电极122，并可形成在后衬底121和障肋130之间。下介电层125可由诸如PbO、B₂O₃或SiO₂的绝缘材料形成，从而可以防止寻址电极122由于与带电粒子和电子撞击而受损，并可以促进充电。

红、绿和蓝荧光层126a、126b和126c可处于在下介电层125上所形成的障肋130的两侧表面上，并可处于下介电层125上没有形成障肋130的整个表面上。荧光层126a、126b和126c可包括接收真空紫外(VUV)光并对此做出响应而产生可见光的成分。红放电单元180a可包括例如Y(V，P)O₄:Eu的荧光层126a，绿放电单元180b可包括例如Zn₂SiO₄:Mn或YBO₃:Tb的荧光层126b，蓝放电单元180c可包括例如BAM:Eu的荧光层126c。

诸如氖气和/或氙气的放电气体混合物可以充满放电单元180a、180b和180c。然后可以在前衬底111和后衬底121的边缘上使用诸如烧结玻璃的密封件(未示出)将前衬底111和后衬底121彼此连接，并可将放电气体混合物密封在内部。

现在将描述图18中所示PDP 100的操作过程。可发生在PDP 100中的等离子体放电可以粗略地分为寻址放电和维持放电。通过将寻址放电电压施加在寻址电极122和Y电极132之间，在寻址电极122和Y电极132之间可产生寻址放电。寻址放电的结果是，可以选出要产生维持放电的单位放电单元180。然后，当所选出的单位放电单元180的X电极131和Y电极132之间施加维持脉冲电压时，在单位放电单元180中可产生维持放电。在维持放电期间，由于上介电层114产生的电子可供应给单位放电单元180，且二次电子可以由钝化层115产生，所以可以进一步主动产生维持放电。放电气体可在维持放电期间被激发，并可随着放电气体能级的下降而发出VUV光。该VUV光可激发单位放电单元180中的荧光材料126。随着该荧光材料的能级下降，可以从该荧光材料发出可见光。该可见光可发出而穿过前衬底111，从而可以显示图像。

图22示出了根据实施例的PDP 120的分解透视图。图23-25示出了图22中示出的等离子体显示面板分别沿线23-23′；24-24′；和25-25′截取的截面图。

图22中图示的PDP 120可类似于图18中的PDP 100，相应地，其中的元件和操作方法基本上与参照图18-21所述的相同。因此在下文中，将详细描述图22中所示PDP 120和图18中所示PDP 100之间的区别。

参照图22，后面板170可包括寻址电极122和下介电层125。障肋135可形成于包括寻址电极122和下介电层125在内的后衬底121上。

障肋135可以包括多个水平障肋135a和多个竖直障肋135b。每个水平障肋135a可包括可以由单一障肋层形成的第一水平障肋135a₁和可以由多重障肋层形成的第二障肋135a₂。每个竖直障肋135b可包括第一竖直障肋135b₁和第二竖直障肋135b₂，第一竖直障肋135b₁关于第一竖直障肋135b₁的中轴线不对称。

图23示出了图22中示出的等离子体显示面板120沿在Y方向上的线23-23′截取的截面图。参照图23，第一竖直障肋135b₁可具有包括多重障肋层260a的不对称结构。多重障肋层260a可包括蚀刻速度相对较快的第一障肋层205a和形成在第一障肋层205a上的第三障肋层210a。多重障肋层260a和第二障肋层220a可形成在第一障肋135b₁的关于其中轴线的相邻两侧上。多重障肋层260a的下部可由第一障肋层205a形成，该障肋层具有相对快的蚀刻速度，也就是说，快于第二障肋层220a或和第三障肋层210a。因此，多重障肋层260a下部的蚀刻可以执行得相对较快。

因此，多重障肋层260a可具有比邻接的第二障肋层220a更线性的结构。因此，由多重障肋层260a限定的绿放电单元180b和蓝放电单元180c的放电空间可以相对大。因此，在这些放电空间中的面积相对较宽。绿荧光材料可具有高发光效率。因此，绿放电单元180b的放电空间的增加和绿荧光材料的更宽的荧光粉涂覆面积可提高PDP 120的亮度。蓝荧光材料可提高色温。因此，蓝放电单元180c的放电空间的增加和蓝荧光材料的更宽的荧光粉涂覆面积可以提高PDP 120的色温。单一障肋层250a可以包括蚀刻速度相对慢的第二障肋层220a。因此，蚀刻溶液渗透进入单一障肋层250下部的可能性较低，这样就不能顺利完成单一障肋层250下部的蚀刻。因此，该单一障肋层可具有朝向红放电单元180a的宽下部宽度。相应地，相对地减小红放电单元180a的放电空间，进而也减小了可用来涂覆红荧光材料的有效面积。

图24和25示出了图22中示出的等离子体显示面板120沿X方向上的线24-24′和25-25′截取的截面图。参照图24和25，第一水平障肋135a₁可以包括蚀刻速度相对慢的第二障肋层220a。因此，下部宽度W₁可相对较宽，且第二障肋层220a可呈瓶状。由于第二水平障肋135a₂可由多重障肋层260a形成，因此第二水平障肋135a₂的下部宽度W₃窄于下部宽度W₁。第二水平障肋135a₂可具有在其侧表面可形成至少两个曲面的结构。

比较实例

观察并记录图22中所示的PDP 120的亮度、发光效率和色温。将PDP120与传统的PDP进行比较，其放电空间相同，也就是说，不考虑在此提供的荧光材料，结果在表1中示出。

[表1]

	传统PDP	PDP 120	差异	增量百分比
					亮度	174cd/m2	201cd/m2	27cd/m2	15.5％
发光效率	1.07lu/w	1.17lu/w	0.10lu/w	9.34％
					色温	8500	9650	1150	13.5％

如表1中所示，比起传统的PDP，根据实施例的PDP 120显示，亮度提高约15.5％，发光效率提高约9.34％，而色温提高约13.5％。

通过使用蚀刻来形成PDP的障肋，可以减小障肋的开口缺陷(openingfailure)。进一步，根据实施例，例如通过从多个障肋层蚀刻障肋和/或采用分阶段多重蚀刻，所述障肋结构的至少一个障肋可关于其中轴线不对称。因此，这些障肋的厚度和/或可提供荧光材料的表面面积对于每个放电单元或每种放电单元类型而言均不同。

在根据实施例的PDP中，障肋的厚度和/或表面面积可针对每个放电单元进行控制，这就允许不同的放电单元中具有不同量的荧光材料。因此，那些有助于增加亮度和发光效率或提高色温的荧光材料所对应的放电单元可以较大，可以允许其中设置更多的荧光材料，从而增大PDP的亮度和发光效率并提高PDP的色温。

在此已经公开了本发明的各示例性实施例，尽管在此采用了特定术语，然而所采用的这些术语应被理解成仅仅旨在进行概括和描述，而非意在限制。举例而言，虽然在上述实施例中只描述了两种不同的放电单元结构，但本领域技术人员应理解的是，该制造障肋的方法可以被控制而实现三种或更多种不同的放电单元结构。相应地，本领域技术人员应理解的是，在不偏离所附权利要求中阐述的本发明的精神和范围的情况下，可以在形式和细节上进行多种改造。

Claims (21)

1.一种形成等离子体显示面板的障肋的方法，包括：

在衬底上提供障肋层；和

选择性地去除所述障肋层的若干部分，以形成限定多个第一和第二放电单元的障肋结构，该障肋结构中的至少一个障肋具有沿其中轴线不对称的水平横截面，所述第一和第二放电单元具有不同的内表面面积。

2.根据权利要求1所述的方法，其中：

提供所述障肋层这一步骤包括在所述衬底上形成第一障肋层和第二障肋层，所述第一和第二障肋层在所述衬底上邻接并具有不同的蚀刻速度；并且

选择性地去除这一步骤包括

提供蚀刻掩模以暴露出所述第一障肋层的预定区域和所述第二障肋层的预定区域，并且

使用所述蚀刻掩模来蚀刻所述第一和第二障肋层的暴露出的预定区域。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述第一障肋层具有针对蚀刻溶液的第一蚀刻速度，所述第二障肋层具有针对所述蚀刻溶液的第二蚀刻速度，所述第二蚀刻速度慢于所述第一蚀刻速度。

4.根据权利要求2所述的方法，其中形成所述第一障肋层和第二障肋层这一步骤包括：

在所述衬底上将形成所述第一放电单元之处提供所述第一障肋层；并且

在所述衬底上将形成所述第二放电单元之处提供所述第二障肋层。

5.根据权利要求4所述的方法，其中形成第一障肋层这一步骤进一步包括在所述第一障肋层上提供第三障肋层。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一和第二放电单元被提供以不同的荧光材料。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述不同的荧光材料产生不同颜色。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一放电单元在数量上为所述第二放电单元的两倍，且所述至少一个障肋位于其中一个所述第一放电单元和其中一个所述第二放电单元之间。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述至少一个障肋限定邻接的具有不同宽度的放电单元。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一放电单元的内表面面积大于所述第二放电单元的内表面面积。

11.根据权利要求1所述的方法，其中选择性地去除这一步骤包括：

在所述障肋层上提供第一蚀刻掩模，以暴露出所述障肋层上的将形成第一放电单元的第一预定区域；

使用具有针对所述障肋层的第一蚀刻速度的第一蚀刻溶液来蚀刻所暴露出的障肋层；

在所述障肋层上提供第二蚀刻掩模，以暴露出该障肋层上将形成第二放电单元的第二预定区域；

使用具有针对所述障肋层的第二蚀刻速度的第二蚀刻溶液来蚀刻所暴露出的障肋层，其中该第二蚀刻速度不同于所述第一蚀刻速度。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述第二蚀刻速度慢于所述第一蚀刻速度。

13.一种等离子体显示面板，包括：

后衬底；

与所述后衬底隔开预定距离的前衬底；和

在所述前衬底和后衬底之间的障肋结构，该障肋结构限定多个第一和第二放电单元，该障肋结构中的至少一个障肋具有沿其中轴线不对称的水平横截面，所述第一和第二放电单元具有不同的内表面面积。

14.根据权利要求13中所述的等离子体显示面板，其中所述至少一个障肋包括在所述衬底上的第一材料和在所述衬底上的第二材料，所述第二材料邻接所述第一材料，所述第一材料的第一侧壁与所述第二材料的第二侧壁具有不同斜率。

15.根据权利要求14所述的等离子体显示面板，其中所述至少一个障肋进一步包括在所述第一材料上的第三材料，所述第二材料邻接所述第三材料。

16.根据权利要求15所述的等离子体显示面板，其中所述第二和第三材料相同。

17.根据权利要求15所述的等离子体显示面板，其中所述第三材料的第三侧壁与所述第一侧壁具有不同斜率。

18.根据权利要求13所述的等离子体显示面板，其中所述至少一个障肋由单一材料制成。

19.根据权利要求13所述的等离子体显示面板，进一步包括：

在所述第一放电单元中的第一荧光材料；和

在所述第二放电单元中的第二荧光材料，所述第二荧光材料不同于所述第一荧光材料。

20.根据权利要求19所述的等离子体显示面板，其中所述第一和第二荧光材料产生不同的颜色。

21.根据权利要求13所述的等离子体显示面板，其中所述第一放电单元在数量上为所述第二放电单元的两倍，且所述至少一个障肋位于其中一个所述第一放电单元和其中一个所述第二放电单元之间。

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