CN101087006A - 一种晶体硅太阳电池热扩散制备pn结的方法 - Google Patents

一种晶体硅太阳电池热扩散制备pn结的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101087006A
CN101087006A CNA2006100272995A CN200610027299A CN101087006A CN 101087006 A CN101087006 A CN 101087006A CN A2006100272995 A CNA2006100272995 A CN A2006100272995A CN 200610027299 A CN200610027299 A CN 200610027299A CN 101087006 A CN101087006 A CN 101087006A
Authority
CN
China
Prior art keywords
diffusion
temperature
silicon
thermal diffusion
crystal silicon
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2006100272995A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101087006B (zh
Inventor
唐则祁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zhejiang Guangda Electronic Technology Co., Ltd.
Original Assignee
唐则祁
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 唐则祁 filed Critical 唐则祁
Priority to CN2006100272995A priority Critical patent/CN101087006B/zh
Publication of CN101087006A publication Critical patent/CN101087006A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101087006B publication Critical patent/CN101087006B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

本发明提供一种晶体硅太阳电池热扩散制备PN结的新方法,该方法涉及晶体硅太阳电池技术领域,其步骤包括:在常规晶体硅太阳电池生产工艺过程第(3)步热扩散制备PN结工艺中增加硅片降温、控制温度和时间等步骤,即硅片离开高温扩散炉前先降温,其方法是使石英管中硅片温度降低200℃~300℃。具体步骤如下:a.设置热扩散工艺参数制备PN结;b.对石英管中硅片降温,使硅片温度比扩散温度低200℃~300℃,降温时间为(10~60)分钟;c.从石英管中取出硅片。采用上述新方法,能降低晶体硅热损伤,减小热应力弯曲或碎裂,减少空气中杂质对PN结的影响,提高晶体硅太阳电池的电流、电压、功率及光电转换效率,降低生产成本。

Description

一种晶体硅太阳电池热扩散制备PN结的方法
技术领域
本发明涉及晶体硅太阳电池技术领域,具体的说,是一种晶体硅太阳电池热扩散制备PN结的新方法。
背景技术
目前,晶体硅太阳电池工业化生产通行的工艺路线是:采用(1)硅片清洗、(2)清除硅片损伤层及制备绒面、(3)热扩散制备PN结、(4)清除硅片周边PN结、(5)清除硅片光照面的氧化层、(6)制备减反射膜、(7)丝网印刷背电极银浆,背电场铝浆及正面电极银浆、(8)铝背场烧结及银电极合金、(9)测试检验。在热扩散制备PN结实际工作中,一般采用高温热扩散,但是高温会导致晶体硅热损伤,高温硅片出炉离开石英管时巨大温差会导致热应力弯曲或碎裂,高温硅片出炉遇到空气中杂质会影响PN结质量,这一切都会影响晶体硅太阳电池的电流、电压、功率及光电转换效率。
发明内容
本发明提供一种晶体硅太阳电池热扩散制备PN结的新方法,该方法能降低晶体硅热损伤,减小热应力弯曲或碎裂,减少空气中杂质对PN结的影响,提高晶体硅太阳电池的电流、电压、功率及光电转换效率,降低生产成本。本发明是这样实现的,在常规晶体硅太阳电池生产工艺(1)硅片清洗、(2)清除硅片损伤层及制备绒面、(3)热扩散制备PN结、(4)清除硅片周边PN结、(5)清除硅片光照面的氧化层、(6)制备减反射膜、(7)丝网印刷背电极银浆,背电场铝浆及正面电极银浆、(8)铝背场烧结及银电极合金、(9)测试检验中,在第(3)步热扩散制备PN结工艺中增加硅片降温、控制温度和时间等步骤,即硅片离开高温扩散炉前先降温,其方法是使石英管中硅片温度降低200℃~300℃。
采用上述新方法,取得的有益效果是:(1)提高晶体硅太阳电池的短路电流2%~5%;(2)提高晶体硅太阳电池输出功率5%~10%;(3)降低晶体硅太阳电池生产成本;(4)提高晶体硅太阳电池生产稳定性和质量一致性。
本发明晶体硅太阳电池热扩散制备PN结的新方法,其步骤为:
1、设置热扩散工艺参数制备PN结;
2、对石英管中硅片降温,使硅片温度比扩散温度低200℃~300℃,降温时间为(10~60)分钟;
3、从石英管中取出硅片。
实施例1、取经过清洗及表面处理后的一种晶体硅片放置扩散炉中,视扩散杂质源类型及扩散炉石英管规格设置一些特定的气体流量,扩散磷杂质源的扩散温度为800℃~950℃,扩散磷杂质源时间为(10~40)分钟,扩散磷杂质源结束后开始降温,降温时间为(10~60)分钟,当硅片温度比扩散温度低200℃~300℃时离开高温扩散炉进入下道工艺。
两种方法的结果对比如下表:
序号   电性能参数     原热扩散制备PN结方法     新热扩散制备PN结方法
1234   开路电压    (毫伏)短路电流    (毫安)输出功率    (瓦)光电转换效率(%)     59050402.2315.0     60053002.3916.1

Claims (3)

1、一种晶体硅太阳电池热扩散制备PN结的方法,扩散工艺参数包括扩散温度、扩散时间及气体流量等,其特征在于,所述的热扩散制备PN结,包括以下工艺步骤:
a、设置热扩散工艺参数制备PN结;
b、对石英管中硅片降温,使硅片温度比扩散温度低200℃~300℃,降温时间为(10~60)分钟;
c、从石英管中取出硅片。
2、根据权利要求1所述的一种晶体硅太阳电池热扩散制备PN结的新方法,其特征在于:热扩散磷杂质源的扩散温度为800℃~950℃;热扩散硼杂质源的扩散温度为1000℃~1500℃。
3、根据权利要求1所述的一种晶体硅太阳电池热扩散制备PN结的新方法,其特征在于:扩散杂质源时间为(10~40)分钟。
CN2006100272995A 2006-06-05 2006-06-05 一种晶体硅太阳电池热扩散制备pn结的方法 Active CN101087006B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2006100272995A CN101087006B (zh) 2006-06-05 2006-06-05 一种晶体硅太阳电池热扩散制备pn结的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2006100272995A CN101087006B (zh) 2006-06-05 2006-06-05 一种晶体硅太阳电池热扩散制备pn结的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101087006A true CN101087006A (zh) 2007-12-12
CN101087006B CN101087006B (zh) 2011-04-20

Family

ID=38937846

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2006100272995A Active CN101087006B (zh) 2006-06-05 2006-06-05 一种晶体硅太阳电池热扩散制备pn结的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN101087006B (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102157618A (zh) * 2011-01-30 2011-08-17 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种低成本晶体硅太阳能电池的扩散方法
CN102383198A (zh) * 2011-10-12 2012-03-21 润峰电力有限公司 一种晶硅电池的三步变温扩散工艺
CN102487100A (zh) * 2010-12-02 2012-06-06 浚鑫科技股份有限公司 一种用于太阳能电池的扩散方法
CN107190326A (zh) * 2017-05-13 2017-09-22 徐州中辉光伏科技有限公司 可实现残余热应力消除处理的太阳能电池用硅片扩散炉

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102487100A (zh) * 2010-12-02 2012-06-06 浚鑫科技股份有限公司 一种用于太阳能电池的扩散方法
CN102487100B (zh) * 2010-12-02 2014-04-16 中建材浚鑫科技股份有限公司 一种用于太阳能电池的扩散方法
CN102157618A (zh) * 2011-01-30 2011-08-17 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种低成本晶体硅太阳能电池的扩散方法
CN102383198A (zh) * 2011-10-12 2012-03-21 润峰电力有限公司 一种晶硅电池的三步变温扩散工艺
CN102383198B (zh) * 2011-10-12 2014-01-15 润峰电力有限公司 一种晶硅电池的三步变温扩散工艺
CN107190326A (zh) * 2017-05-13 2017-09-22 徐州中辉光伏科技有限公司 可实现残余热应力消除处理的太阳能电池用硅片扩散炉
CN107190326B (zh) * 2017-05-13 2018-03-13 徐州中辉光伏科技有限公司 可实现残余热应力消除处理的太阳能电池用硅片扩散炉

Also Published As

Publication number Publication date
CN101087006B (zh) 2011-04-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104538500B (zh) 用于晶体硅太阳能电池抗lid和pid的pecvd镀膜和烧结工艺
CN104868010B (zh) 一种利用强光辐照降低p型晶体硅太阳能电池及其组件光致衰减的方法
CN101087006B (zh) 一种晶体硅太阳电池热扩散制备pn结的方法
CN101834224B (zh) 一种用于太阳电池制造的硅片快速热处理磷扩散吸杂工艺
CN105914256A (zh) Perc晶体硅太阳能电池的制造方法
CN102263167B (zh) 单晶硅太阳电池的边沿钝化方法、单晶硅太阳电池及其制备方法和光伏组件
CN102270702A (zh) 一种制绒白斑单晶硅片的返工工艺
CN102629643A (zh) 高方阻太阳能电池制作方法
CN105280484A (zh) 一种晶硅高效高方阻电池片的扩散工艺
CN109888054A (zh) 一种光伏电池无损伤选择性发射极的制备方法
CN105185870A (zh) 一种硅片的磷吸杂扩散工艺
CN102569502A (zh) 一种湿法刻蚀工艺
CN105118896A (zh) 升温推结扩散工艺
CN109888062B (zh) 一种mwt太阳能电池激光se+碱抛光扩散工艺
CN110718605A (zh) 太阳能电池片的烧结方法、降低其光致衰减的方法及得到的太阳能电池片
CN104051570A (zh) 一种太阳能电池的制作方法
CN108257898A (zh) 修补破损的石墨舟叶片的方法
CN111341877B (zh) 双面perc电池的制备方法
CN104009114B (zh) 准单晶硅太阳能电池片的制造方法
CN102856438B (zh) 一种提高太阳能电池表面钝化的方法
CN103996742B (zh) 一种改善晶体硅太阳电池电性能的边缘刻蚀方法
CN104103715B (zh) 一种双层结构ito电极晶体硅太阳能电池的制备方法
CN103014839A (zh) 一种p型掺杂剂及其制备方法
CN103337563A (zh) 一种用于晶体硅太阳能电池印刷不良片的返工方法
CN109728109A (zh) 晶体硅双面电池及该晶体硅双面电池的热处理方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: ZHEJIANG GUANGDA ELECTRONIC TECHNOLOGY CO., LTD.

Free format text: FORMER OWNER: TANG ZEQI

Effective date: 20140714

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
COR Change of bibliographic data

Free format text: CORRECT: ADDRESS; FROM: 200042 CHANGNING, SHANGHAI TO: 325000 WENZHOU, ZHEJIANG PROVINCE

TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20140714

Address after: 325000, No. five, No. 308, Binhai Road, Wenzhou economic and Technological Development Zone, Zhejiang, Wenzhou

Patentee after: Zhejiang Guangda Electronic Technology Co., Ltd.

Address before: 200042, room 3, No. 111, Lane 406, Jiangsu North Road, Shanghai, Changning District

Patentee before: Tang Zeqi