CN101071275A - 一种旋转交换的双台系统 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种旋转交换的双台系统。现有技术中的双台系统存在结构复杂、成本过高以及双台交换时存有安全隐患的问题。本发明的旋转交换的双台系统，用于一具有主框架且具有两作业位的电子设备中，其包括设置在主框架上的基台、对应该两作业位且对称设置在该基台上的第一及第二作业台、用于驱动基台沿该基台中心转动的基台驱动装置以及用于控制基台驱动装置驱动基台转动以实现第一作业台与第二作业台换位的控制模块。采用本发明的旋转交换的双台系统可提高电子设备的效率并降低成本。

Description

一种旋转交换的双台系统

技术领域

本发明涉及半导体制造设备领域，特别涉及一种旋转交换的双台系统。

背景技术

光刻是将掩模版上的芯片图形通过光刻机转印到硅片上，其是半导体制造中的重要工序，故光刻的效率和质量对半导体芯片的制造效率和质量有着重要的影响。

早期的光刻机通常采用单作业台，光刻中的对准测量以及后续的曝光均是在该单作业台上进行的，该具有单作业台的光刻机一次只能光刻一片硅片，该硅片在扫描曝光区域完成对准测量后才能进行曝光工序，故该具有单作业台的光刻机生产效率低下，其成为制约光刻效率进一步提高的瓶颈。

为克服单作业台的效率低下的问题，设置有双作业台的光刻机是光刻机技术的发展趋势，硅片的对准测量工序及曝光工序分设在两个作业台上并行进行，于是该具有双作业台的光刻机可同时使两片硅片分别进行不同阶段的光刻工序，故可大大提高光刻效率。

现业界通常使用的双作业台系统如以下专利所示：

专利号为WO98/40791的欧洲专利提出了一种双作业台系统，该双作业台系统中每一作业台均通过一耦合连接座固定。具有该双作业台系统的光刻机在工作时，一作业台承载的硅片可以在对准测量作业位上进行曝光前的对准和测量工序，另一作业台承载的硅片则在曝光位上进行曝光工序。当两作业台上的操作都完成后，耦合连接座与作业台分离，两作业台将分别运动到交换位置，然后进行耦合连接座的交换，从而实现两作业台的交换。该专利中的双作业台系统可以缩短曝光系统中硅片的循环曝光的平均时间，在不提高作业台运动速度前提下，能大幅地提高系统的产率。

然而该专利号为WO98/40791的欧洲专利也存在一些问题：由于每个作业台与驱动单元间采用的是耦合连接方式，在交换过程中，耦合连接座与作业台需短暂分离，在两者分离后，虽通过定位装置(专利号为WO98/28665的欧洲专利和专利号为US6498350的美国专利均详细描述了该定位装置)的钳制来保证其分离位置的固定不动，但两者的分离仍会对系统的定位精度造成影响。如此就需相应地增加防护装置和检测装置，故会造成系统结构的复杂化。另外两作业台存在运动范围重叠区域，双台运动过程中有发生碰撞的可能性。

专利号为US6654100的美国专利和专利号为WO01/40875的欧洲专利提出了一种类似的双作业台系统，两专利所提出的双作业台系统的显著特点是每个作业台都独立拥有一套上片和下片模块和一套对准测量模块，一公用的曝光模块设置在两对准测量模块间，曝光位设置在两作业台间。当一作业台在曝光位执行曝光工序时，另一作业台可同时进行上片工序、下片工序或对准测量工序，当两作业台的操作全部完成后，处在曝光位的作业台直线移出曝光位，同时对准和测量完毕的作业台将移到曝光位，而完成硅片曝光的作业台执行下片及上新片工序，而后在其对应的对准测量位上进行曝光前的对准和测量操作。如此往复循环，完成所有需光刻硅片的光刻。

上述双台结构，简单可靠，两作业台移动时互不干涉，并且运行路径短，交换速度快。克服了专利WO98/40791双台技术的一些不足，但是却多出了一套对准测量装置和上下片装置，成本显著增加。

专利号为US6788385的美国专利也提出了一种双作业台专利，该专利与专利号为WO98/40791的欧洲专利所提出的双作业台类似，整个双台系统包含一个曝光位和一个对准测量位。但与专利号为WO98/40791的欧洲专利所不同的是，其两作业台的承片台以悬臂的方式设置在x向驱动单元上，同时，承片台的底部高出x向驱动单元顶部平面。通过该种布局方式，能够实现两作业台从对准测量位到曝光位的相互换位。

与专利号为WO98/40791的欧洲专利相比，专利号为US6788385的美国专利的双台直接换位，无需耦合联结座装置和复杂的作业台的换位过程，简化了系统，提高了双台换位的效率。与专利号为US6654100的美国专利相比，该专利号为US6788385的美国专利只需一套对准测量模块和一套上下片模块，系统成本和复杂性有所降低。但是，该双台技术也存在一个问题，就是以悬臂方式设置的承片台在调平调焦过程中时出现的振动问题需要克服，同时需要特别设计硅片顶起和压紧装置。

综上所述，如何提供一种节约成本、定位精确以及安全简便高效的旋转交换的双台系统，即成为半导体行业内亟待解决的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种旋转交换的双台系统，通过所述旋转交换的双台系统可提高效率、降低成本和提高安全性。

本发明的目的是这样实现的：一种旋转交换的双台系统，用于一具有主框架且具有两作业位的电子设备中，该旋转交换的双台系统包括设置在主框架上的基台、对应该两作业位且对称设置在该基台上的第一及第二作业台、用于驱动基台沿该基台中心转动的基台驱动装置以及用于控制基台驱动装置驱动基台转动以实现第一作业台与第二作业台换位的控制模块。

在上述的旋转交换的双台系统中，该第一及第二作业台均包括平行排布在基台一侧的两X向导轨、跨设在该两X向导轨间的Y向导轨、设置在该Y向导轨上且用于承载硅片的承片台、分别驱动该承片台沿X方向以及Y方向运动的X向驱动单元以及Y向驱动单元。

在上述的旋转交换的双台系统中，该X向驱动单元以及Y向驱动单元驱动承片台的运动满足质心驱动原则。

在上述的旋转交换的双台系统中，该X向驱动单元及Y向驱动单元均为直线电机。

在上述的旋转交换的双台系统中，该控制模块包括一设置在基台上且用于检测基台转动角度的检测单元以及一用于控制基台驱动装置驱动基台转动的控制单元。

在上述的旋转交换的双台系统中，该主框架包括U型支架、平均分布在U型支架底部的多个减震结构以及设置在减震结构上用于支撑基台的支撑台。

在上述的旋转交换的双台系统中，该支撑台为气浮支撑台。

在上述的旋转交换的双台系统中，该基台驱动装置设置在该支撑台的底部。

在上述的旋转交换的双台系统中，该旋转交换的双台系统还包括设置在支撑台上且用于将基台锁固在该支撑台上的基台锁固单元，该控制模块还控制基台锁固单元将基台锁固在支撑台上。

在上述的旋转交换的双台系统中，该基台锁固单元为电磁耦合装置。

在上述的旋转交换的双台系统中，该U型支架末端还设置有用于驱动基台减速的减速模块。

在上述的旋转交换的双台系统中，该基台驱动装置为伺服电机。

在上述的旋转交换的双台系统中，该基台驱动装置包括一伺服电机以及一与伺服电机相连的变速装置。

在上述的旋转交换的双台系统中，该电子设备为光刻机。

在上述的旋转交换的双台系统中，该光刻机具有一上片模块和一下片模块。

在上述的旋转交换的双台系统中，该两作业位分别为对准测量位和曝光位。

与现有技术中的双作业台系统存在结构复杂、成本过高以及存有安全隐患等问题相比，本发明的旋转交换的双台系统的两作业台共用一套上片及下片模块，大大节约了成本，再者本发明的旋转交换的双台系统通过基台驱动装置驱动基台转动，即可完成设置在基台上的两作业台的换位，两作业台无运动重叠区域，避免了两作业台碰撞的安全隐患，再者，旋转交换的双台系统的结构也得到了简化。

附图说明

本发明的旋转交换的双台系统由以下的实施例及附图给出。

图1为本发明的旋转交换的双台系统的第一实施例的结构示意图；

图2为本发明的旋转交换的双台系统中第一及第二作业台的主视图；

图3为第一作业台处于上片位的示意图；

图4为第一作业台处于对准测量位的示意图；

图5为第一作业台处于停泊位的示意图；

图6为第一作业台处于曝光位的示意图；

图7为第一作业台处于下片位的示意图；

图8为装设有本发明的旋转交换的双台系统的光刻机光刻硅片W1、W2和W3的流程图；

图9为本发明的旋转交换的双台系统的第二实施例的结构示意图。

具体实施方式

以下将对本发明的旋转交换的双台系统作进一步的详细描述。

参见图1，其显示了本发明的旋转交换的双台系统的第一实施例的结构示意图，如图所示，所述旋转交换的双台系统用于一光刻机中，所述的旋转交换的双台系统包括基台10、基台驱动装置11、基台锁固单元12、第一作业台13、第二作业台14、控制模块15、减速模块16，其中，所述光刻机包括主框架20、对准测量模块21、曝光模块22、上片模块(未图示)、下片模块(未图示)。

主框架20包括U型支架20a、平均分布在U型支架底部的多个减震结构20b和设置在减震结构上的支撑台20c。在本实施例中，所述支撑台20c为气浮支撑台，所述减震结构20b的数量为3个，所述减震结构20b除具有被动减震的弹簧部分外，还设置有主动减震的主动减震机构，用于主动抵消掉基台10所产生的低频振动。

对准测量模块21经主动减震隔震系统(未图示)悬设在主框架20上且用于对待光刻硅片进行曝光前的对准测量工序。

曝光模块22经主动减震隔震系统(未图示)悬设在主框架20上且用于依据对准测量模块21的测量结果对待光刻硅片进行曝光工序。

所述上片模块及下片模块均设置在U型支架20a的外侧，所述上片模块用于将待光刻硅片载送到旋转交换的双台系统上以进行光刻，所述下片模块用于将完成曝光的硅片从基台10上卸载。在本实施例中，所述上片模块及下片模块分别设置在基台10左侧的U型支架20a的外侧。

以下对本发明旋转交换的双台系统的上述构成要件进行详细说明：

基台10设置在支撑台20c上。在本实施例中，所述气浮支撑台可缓冲基台10转动时的转动动量，另外也可避免外部的震动通过支撑台20c传到基台上而影响对准测量模块21或曝光模块22对硅片的对准测量精度或曝光精度。

基台驱动装置11设置在所述支撑台20c的底部且用于驱动基台10沿其中心转动。在本实施例中，所述基台驱动装置11包括直流伺服电机11a以及将直流伺服电机11a固定在支撑台20c上的固定架11b。

基台锁固单元12设置在支撑台20c边缘且用于将基台锁定在主框架20上。在本实施例中，所述基台锁固单元12为电磁耦合装置。

第一及第二作业台13及14对应对准测量模块21和曝光模块22且对称设置在所述基台10上，第一及第二作业台13及14均可通过对准测量模块21进行测量或通过曝光模块22进行曝光，但两作业台同时进行作业时只能有一者进行测量(或曝光)，另一者进行曝光(或测量)。

参见图2，显示了第一及第二作业台13及14的详细结构，如图所示，所述第一作业台13包括平行排布在基台10左侧的两X向导轨13a及13b、跨设在所述两X向导轨13a及13b间的Y向导轨13c、设置在所述Y向导轨上用于承载硅片的第一承片台13d、驱动所述第一承片台13d沿X方向运动的X向驱动单元13e以及驱动第一承片台13d沿Y方向运动的Y向驱动单元13f。所述第一作业台13的X向及Y向驱动单元13e和13f驱动第一承片台13d的运动满足质心驱动原则。

第二作业台14包括平行排布在基台10右侧的两X向导轨14a及14b、跨设在所述两X向导轨14a及14b间的Y向导轨14c、设置在所述Y向导轨上用于承载硅片的第二承片台14d、驱动所述第二承片台14d沿X方向运动的X向驱动单元14e以及驱动第二承片台14d沿Y方向运动的Y向驱动单元14f。所述第二作业台14的X向及Y向驱动单元14e和14f驱动第二承片台14d的运动也满足质心驱动原则。

上述X向驱动单元13e和14e及Y向驱动单元13f和14f均为直线电机，相应的上述第一作业台13的X向导轨13a及13b、第二作业台14的X向导轨14a及14b均可为直线电机的定子，也可为单独设置的导轨，而直线电机的定子设置在所述导轨上。

所述第一及第二作业台13及14在靠近基台10的中心位置处设置有锁固件(未图示)，当基台驱动装置11驱动基台10转动前，或第一及第二作业台13及14在不使用时，均通过X向驱动单元及Y向驱动单元将作业台驱动到锁固件附近，然后通过所述锁固件将所述承片台锁固，如此有利于减小基台10旋转时的转动惯量。

控制模块15包括检测单元15a以及控制单元15b，其中，所述侦检测单元15a设置在基台10上且用于检测基台10的转动角度，所述控制单元15b用于依据对准测量模块21及曝光模块22的对应工序完成状况控制驱动装置驱动基台10转动，所述控制单元15b还依据检测单元15a的检测结果控制基台锁固单元12将基台10锁固在主框架20上。在本实施例中，所述检测单元15a为一圆弧光栅尺。

减速模块16设置在所述U型支架20a的末端且用于驱动基台10减速。在本实施例中，所述控制单元15b还依据检测单元15a的检测结果控制减速模块16驱动基台10减速。

使用装设有本发明的旋转交换的双台系统的光刻机进行光刻主要包括上片工序、对准测量工序、停泊工序、作业台换位工序、曝光工序和下片工序，其中，对准测量工序和曝光工序为光刻机的主要工序，其他工序为辅助工序。

所述第一作业台13及第二作业台14均包括对应上述工序且分别配合上片模块进行硅片载进的上片位、配合对准测量模块21对待光刻硅片进行测量的对准测量位、配合锁固件锁固承片台的停泊位、配合曝光模块22对硅片进行曝光的曝光位以及配合下片模块进行下片的下片位，其中，对准测量位和曝光位为光刻机的主要作业位，其他工序为辅助作业位。

参见图3至图7，配合参见图1和图2，图3至图7分别显示了第一作业台13处于上片位、对准测量位、停泊位、曝光位、下片位时第一作业台13上各部件在基台10上的排布状态。第二作业台14各作业位与第一作业台13相同，故在此不再详述。

以下以在本发明的旋转交换的双台系统上光刻三片涂覆有光阻的待光刻硅片W1、W2和W3来说明本发明的特点及功效，需说明的是，为简化说明，此处的光刻为仅光刻一图形的简化光刻(即无需更换曝光模块22中的掩模版)，在未进行光刻作业时，所述第一和第二作业台13和14分别设置在基台10的左右两侧且均处于停泊位，光刻硅片W1、W2和W3的流程图如图8所示，参见图8，光刻任务开始后，首先第一作业台13先进行上片工序(S10)，详细过程为：第一承片台13d从停泊位运动到上片位，并通过上片模块将待光刻硅片W1装载在第一承片台13d上。

所述第一作业台13继续进行对准测量工序(S11)，详细过程为：第一承片台13d运动到对准测量位，通过对准测量模块21对待光刻硅片W1的表面形貌进行测量，其中，所述对准测量模块21在完成硅片W1的测量后发送一测量完成触发信号至控制单元15b。

所述第一作业台13继续进行停泊工序(S12)，详细过程为：完成测量的第一承片台13d运动到停泊位，并通过锁固件锁固在停泊位。

之后本发明的旋转交换的双台系统继续进行作业台换位工序(S20)，详细过程为：控制单元15b接收到对准测量模块21发送的触发信号后控制基台驱动装置11驱动基台10沿其中心轴线旋转180度完成第一作业台13与第二作业台14的换位。此步骤中，设置在基台10上的检测单元检测基台10转动的角度，控制单元15b依据检测到的转动角度驱动减速模块16以使基台10减速，并在基台10转动了180度时控制基台锁固单元12将基台10锁固在支撑台20c上。

此后第一作业台13与第二作业台14并行运行。所述第一作业台13继续进行曝光工序(S13)，详细过程为：第一承片台13d从停泊位运动到曝光位，并通过曝光模块22对硅片W1进行曝光工序，其中，所述曝光模块22在完成硅片W1的曝光工序后发送一曝光完成触发信号至控制单元15b。

所述第一作业台13继续进行停泊工序(S14)，详细过程为：第一承片台13d从曝光位运动到停泊位，并通过锁固件锁固在停泊位。

而所述第二作业台14先进行上片工序(S30)，详细过程为：第二承片台14d从停泊位运动到上片位，并通过上片模块将待光刻硅片W2装载在第二承片台14d上。

所述第二作业台14继续进行对准测量工序(S31)，详细过程为：第二承片台14d运动到对准测量位，通过对准测量模块21对待光刻硅片W2的表面形貌进行测量，其中，所述对准测量模块21在完成硅片W2的测量后发送一测量完成触发信号至控制单元15b。

所述第二作业台14继续进行停泊工序(S32)，详细过程为：完成测量的第二承片台14d运动到停泊位，并通过锁固件锁固在停泊位。

之后本发明的旋转交换的双台系统进行作业台换位工序(S21)，详细过程为：控制单元15b接收到对准测量模块21发送的测量完成触发信号及曝光模块22发送的曝光完成触发信号后，控制基台驱动装置11驱动基台10沿其中心轴线旋转180度完成第一作业台13与第二作业台14的换位。

之后第一作业台13及第二作业台14并行工作。

所述第一作业台13继续进行下片工序(S15)，详细过程为：第一承片台13d从停泊位运动到下片位，并通过下片模块将已完成光刻的硅片W1从承片台上卸下。

第一作业台13继续进行上片工序(S16)，详细过程为：第一承片台13d从下片位运动到上片位，并通过上片模块将待光刻硅片W3装载在第一承片台13d上。

第一作业台13继续进行对准测量工序(S17)，详细过程为：第一承片台13d运动到对准测量位，通过对准测量模块21对待光刻硅片W3的表面形貌进行测量，其中，所述对准测量模块21在完成硅片W3的测量后发送一测量完成触发信号至控制单元15b。

所述第一作业台13继续进行停泊工序(S18)，详细过程为：第一承片台13d从对准测量位运动到停泊位，并通过锁固件锁固在停泊位。

而所述第二作业台14继续进行曝光工序(S33)，详细过程为：第二承片台14d从停泊位运动到曝光位，并通过曝光模块22对硅片W2进行曝光，其中，所述曝光模块22在完成硅片W2的曝光后发送一曝光完成触发信号至控制单元15b。

所述第二作业台14继续进行停泊工序(S34)，详细过程为：第二承片台14d从曝光位运动到停泊位，并通过锁固件锁固在停泊位。

之后本发明的旋转交换的双台系统进行作业台换位工序(S22)，详细过程为：控制单元15b接收到对准测量模块21发送的测量完成触发信号及曝光模块22发送的曝光完成触发信号后，控制基台驱动装置11驱动基台10沿其中心轴线旋转180度完成第一作业台13与第二作业台14的换位。

之后第一作业台13及第二作业台14并行工作。

所述第一作业台13继续进行曝光工序(S19)，详细过程为：第一承片台13d从停泊位运动到曝光位，并通过曝光模块22对硅片W3进行曝光工序，其中，所述曝光模块22在完成硅片W3的曝光工序后发送一曝光完成触发信号至控制单元15b。

所述第一作业台13继续进行停泊工序(S110)，详细过程为：第一承片台13d从曝光位运动到停泊位，并通过锁固件锁固在停泊位。

所述第二作业台1 4继续进行下片工序(S35)，详细过程为：第二承片台14d从停泊位运动到下片位，并通过下片模块将完成光刻的硅片W2从承片台上卸下。

所述第二作业台14继续进行停泊工序(S36)，详细过程为：第二承片台14d从下片位运动到停泊位，并通过锁固件锁固在停泊位。

之后本发明的旋转交换的双台系统进行作业台换位工序(S23)，详细过程为：控制单元15b接收到曝光模块22发送的曝光完成触发信号后，控制基台驱动装置11驱动基台10沿其中心轴线旋转180度完成第一作业台13与第二作业台14的换位。

所述第一作业台13继续进行下片工序(S111)，详细过程为：第一承片台13d从停泊位运动到下片位，并通过上片模块将完成光刻的硅片W3从承片台上卸下。

所述第一作业台13继续进行停泊工序(S112)，详细过程为：第一承片台13d从下片位运动到停泊位，并通过锁固件锁固在停泊位。

至此为止，发明的旋转交换的双台系统完成了覆盖有光阻的硅片W1、W2和W3的光刻。

当使用本发明的旋转交换的双台系统对大批量的硅片进行光刻时，在对准测量模块21侧，有序地进行上片工序、下片工序、对准测量工序和停泊工序，而在曝光模块22侧，有序地进行曝光工序和停泊工序，同时旋转交换的双台系统有序地进行作业台换位工序供完成曝光工序的硅片进行下片工序，并供完成对准测量工序的硅片进行曝光工序，于是批量硅片的光刻在本发明的旋转交换的双台系统上高效安全的进行。

需说明的是，基台驱动装置11驱动基台10沿其中心轴线旋转180度时，可顺时针旋转也可逆时针旋转。

参见图8，其显示了本发明的旋转交换的双台系统的第二实施例的结构示意图，本发明的第二实施例主要是针对高加速度起停的大质量作业台，本实施例中的旋转交换的双台系统用于一光刻机中，本发明的旋转交换的双台系统包括基台30、基台驱动装置31、基台锁固单元32、第一作业台33、第二作业台34、控制模块35、减速模块36、连接单元37，其中，所述控制模块35包括检测单元35a和控制单元35b，其中，所述光刻机包括主框架40、对准测量模块41、曝光模块42、上片模块(未图示)、下片模块(未图示)。

第二实施例与第一实施例不同之处如下：

主框架40实施为一具有缓冲减震功能的气浮支撑台，所述气浮支撑台通过气浮结构40a来实现缓冲减震功能，所述主框架为n型框架。

所述基台30为一可将作业台13、14的运动反力转化为内力而消除的平衡质量体。

所述基台驱动装置31包括伺服电机31a以及与伺服电机31a相连的变速装置31b。在本实施例中，可通过伺服电机31a与变速装置31b的共同运作驱动基台30的转动。

第一作业台33和第二作业台34与基台30间设置有缓冲减震结构(未图示)。所述第一作业台33与第二作业台34在进行作业时，所产生的运动反力可通过平衡质量体及缓冲减震结构化解为内力而抵消。

连接单元37与变速装置31b相连，用于基台驱动装置31驱动基台30转动时连接基台30和基台驱动装置31。在本实施例中，所述连接单元为电磁耦合装置。

为减少基台驱动装置31的震动对基台30造成影响，可将变速装置31b的输出轴31c设置为升降轴，在需驱动基台转动时，启动升降轴使连接单元37与基台30接触，形成基台30与基台驱动装置31的连接，若基台转动完成时，可将升降轴放下，使连接单元37不与基台30相接触，如此可避免基台驱动装置31的震动影响基台30。

上述第二实施例中的旋转交换的双台系统避免了大质量作业台换位所造成的震动问题，大大提高了旋转换位的稳定性。

综上所述，本发明的旋转交换的双台系统的两作业台共用一套上片及下片模块，大大节约了成本，再者本发明的旋转交换的双台系统通过基台驱动装置驱动基台转动，即可完成设置在基台上的两作业台的换位，两作业台无运动重叠区域，避免了两作业台碰撞的隐患，再者，旋转交换的双台系统的结构也得到了简化。

Claims (16)

1、一种旋转交换的双台系统，用于一具有主框架且具有两作业位的电子设备中，其特征在于，该旋转交换的双台系统包括设置在主框架上的基台、对应该两作业位且对称设置在该基台上的第一及第二作业台、用于驱动基台沿该基台中心转动的基台驱动装置以及用于控制基台驱动装置驱动基台转动以实现第一作业台与第二作业台换位的控制模块。

2、如权利要求1所述的旋转交换的双台系统，其特征在于，该第一及第二作业台均包括平行排布在基台一侧的两X向导轨、跨设在该两X向导轨间的Y向导轨、设置在该Y向导轨上且用于承载硅片的承片台、分别驱动该承片台沿X方向以及Y方向运动的X向驱动单元以及Y向驱动单元。

3、如权利要求2所述的旋转交换的双台系统，其特征在于，该X向驱动单元以及Y向驱动单元驱动承片台的运动均满足质心驱动原则。

4、如权利要求2所述的旋转交换的双台系统，其特征在于，该X向驱动单元及Y向驱动单元均为直线电机。

5、如权利要求1所述的旋转交换的双台系统，其特征在于，该控制模块包括一设置在基台上且用于检测基台转动角度的检测单元以及一用于控制基台驱动装置驱动基台转动的控制单元。

6、如权利要求1所述的旋转交换的双台系统，其特征在于，该主框架包括U型支架、平均分布在U型支架底部的多个减震结构以及设置在减震结构上用于支撑基台的支撑台。

7、如权利要求6所述的旋转交换的双台系统，其特征在于，该支撑台为气浮支撑台。

8、如权利要求6所述的旋转交换的双台系统，其特征在于，该基台驱动装置设置在该支撑台的底部。

9、如权利要求6所述的旋转交换的双台系统，其特征在于，该旋转交换的双台系统还包括设置在支撑台上且用于将基台锁固在该支撑台上的基台锁固单元，该控制模块还控制基台锁固单元将基台锁固在支撑台上。

10、如权利要求9所述的旋转交换的双台系统，其特征在于，该基台锁固单元为电磁耦合装置。

11、如权利要求6所述的旋转交换的双台系统，其特征在于，该U型支架末端还设置有用于驱动基台减速的减速模块。

12、如权利要求1所述的旋转交换的双台系统，其特征在于，该基台驱动装置为伺服电机。

13、如权利要求1所述的旋转交换的双台系统，其特征在于，该基台驱动装置包括一伺服电机以及一与伺服电机相连的变速装置。

14、如权利要求1所述的旋转交换的双台系统，其特征在于，该电子设备为光刻机。

15、如权利要求14所述的旋转交换的双台系统，其特征在于，该光刻机具有一上片模块和一下片模块。

16、如权利要求14所述的旋转交换的双台系统，其特征在于，该两作业位分别为对准测量位和曝光位。

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