CN101025455A - 一种光学补偿膜制法、以及具有该光学补偿膜的偏光板 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种光学补偿膜制法，主要是借由在基材上先后积层一光学补偿层与一光阻滞材料所构成。借由本光学补偿膜的光学补偿层材料以紫外线照射以产生交链化学反应的过程中，使其暴露于空气环境(含氧量不低于1％体积百分比浓度)并提供重量百分比浓度为0.5％～10％的光引发剂。因而控制使光学补偿层材料可对基材达成较佳的密着，且同时控制表面残留适量的活性基，而使得后续的光阻滞材料得以顺利密着于光学补偿层上。利用此制法可达到将光学补偿膜直接内建在偏光板上的目的。如此，偏光板不仅因具有光学补偿效果而有较佳视角范围与显示质量，且厚度亦较现有技术相对较低，透光率与光学特性因此也相对较佳。

Description

一种光学补偿膜制法、以及具有该光学补偿膜的偏光板

技术领域

本发明涉及一种光学补偿膜制法、以及具有该光学补偿膜的偏光板，尤指一种适用于LCD液晶显示装置的偏光板上的光学补偿膜，且可提供视角与色偏双重补偿的一种光学补偿膜及其制法。

背景技术

液晶显示器(Liquid Crystal Display；简称LCD)已广泛使用于各式电子信息装置上，例如电视、计算机、手机、个人数字助理(PDA)等等。而其中TFT-LCD由于具备快速应答特性与正视角高对比特性，近年来更俨然已成为液晶显示器的主流技术。

请参阅图1A，为一典型的传统液晶显示器10的剖面示意图。该传统液晶显示器10一般均包括：一液晶组件11、及两偏光板12、13(Polarizer)分别置于液晶组件11的上下两侧表面。该液晶组件11是由一玻璃基板及附着于玻璃基板上下两表面的液晶分子等组件所构成。偏光板12(或13)则是以两透明基板121、122(或131、132)夹覆一偏光薄膜123(或133)所构成，可进行色偏补偿。

然而，如图1A所示的传统液晶显示器10，其视角范围的对比曲线如图1B所示，其仅在垂直与水平方向有较佳可视效果，而在45度角或135度角的视角方向，不仅对比下降且色彩偏移，严重影响显示质量。

后有人研发出在液晶显示器上增设光学补偿膜，以提高在倾斜角度上的可视效果。请参阅图2，为现有技术于液晶显示器的偏光板20上增设光学补偿膜的生产流程示意图。现有技术的偏光板20主要是在两片透明基板211、212之间夹置一层偏光薄膜22以构成独立存在的一偏光板20结构(如步骤291所示)。另外，借由在一基材241上依序涂覆光学补偿层242与液晶材料243后，可构成独立存在的第一光线阻滞薄膜24结构(如步骤292所示)。此外，更独立生产有另一第二光线阻滞薄膜25结构(如步骤293所示)。该第一与第二光线阻滞薄膜24、25可对特定波长的光产生预定角度与方向的阻滞，以达到光学补偿的作用，进而改善液晶显示器于倾斜角度上的显示质量。并且，现有技术的偏光板20、第一光线阻滞薄膜24、及第二光线阻滞薄膜25三者为独立存在的个体，其三者均可个别被储存、运送及销售。借由在偏光板20的其中之一透明基板211上涂覆一层压力感应黏胶231(Pressure SensitiveAdhesive；简称PSA)，可将第一光线阻滞薄膜24以液晶材料243层向下、基材241向上的方式贴覆在偏光板20的透明基板211上使两者结合在一起(如步骤294所示)。之后，再将基材241撕掉除去，且此时该光学补偿层242与液晶材料243可合并称为该第一光线阻滞薄膜24且透过该压力感应黏胶层231而贴在偏光板20上(如步骤295所示)。之后，再于第一光线阻滞薄膜24与第二光线阻滞薄膜25上均分别涂上压力感应黏胶层232、233，然后再把第二光线阻滞薄膜25贴覆在第一光线阻滞薄膜24上。如此，如步骤296所示，便完成现有技术的具有光学补偿的偏光板20的制造。而此一具有光学补偿的偏光板20可再结合到如图1所示的液晶组件11上，以构成一液晶显示器。例如，中国台湾专利公告号第451071号、562955号、528882号、558643号、及美国专利号US6717642等已知前案，均揭露有在液晶显示器上增设光学补偿板以增加视角范围与显示质量的技术。

然而，前述的各已知前案，均如同图2所示的现有技术液晶显示器般，其是将偏光板20与光线阻滞薄膜24、25分别单独生产后、再以PSA黏胶贴合在一起。由于偏光板20和光线阻滞薄膜24、25需分别生产，所以其分别均需要有至少一透明基板211或基材241来提供足够的结构强度与硬度，且更需使用到三层压力感应黏胶(PSA)231、232、233来加以黏着。然而，所使用的透明基板与PSA层数愈多，则不仅液晶显示器整体厚度愈加提高、且透光率与光学特性亦将愈差，因而仍有进一步改良的空间。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种光学补偿膜制法。其借由以紫外线照射光学补偿层材料，在产生交链化学反应的过程中，使其暴露于空气环境(含氧量不低于1％体积百分比浓度)，并提供重量百分比为0.5％～10％的光引发剂。因而可在光学补偿层材料表面残留适量的活性基，例如压克力(即丙烯酸酯)基，而使得后续的光阻滞材料得以顺利密着于光学补偿层上。

本发明的另一目的是提供一种具有光学补偿膜的偏光板的制法，其是将光学补偿膜中的光线阻滞薄膜层直接内建于偏光板中而不须另使用压力感应黏胶来进行额外黏贴。如此一来，偏光板不仅因具有光学补偿效果而有较佳视角范围与显示质量，且厚度亦较现有技术相对较低，透光率与光学特性因此也相对较佳。

本发明的另一目的是提供一种具有光学补偿膜的偏光板。借由前述的制法，可将光学补偿膜中的光线阻滞薄膜层直接内建于偏光板中。于是，偏光板不仅因具有光学补偿效果而有较佳视角范围与显示质量，且厚度亦较现有技术相对较低，透光率与光学特性因此也相对较佳。

为达上述目的，具体来说，本发明所提供的光学补偿膜制法，包括有下列步骤：

(A)提供一用于覆盖偏光薄膜的透明基板；

(B)在该透明基板上涂覆一层光学补偿层；该光学补偿层材料为寡聚氨酯或寡聚酯等寡聚化合物，例如寡聚丙烯酸酯等。

(C)以约占光学补偿层用料的0.5％～10％重量的适量光引发剂涂敷于光学补偿层上，该光引发剂为本领域常用的光引发剂，将其配成一般常用溶剂中的溶液使用；且在含氧量体积不低于1％浓度的条件下，比如空气环境下，以紫外光照射该光学补偿层，使光学补偿层表面留下部分未反应完成的活性基，例如丙烯酸酯基等；

(D)在光学补偿层上涂覆光阻滞材料，所述光阻滞材料为本领域常用的液晶高分子材料，由于光学补偿层表面残留有活性基，可使光阻滞材料更易于密着于光学补偿层表面上；及

在空气环境或惰性气体下，以紫外光照射该光学补偿层与光阻滞材料使其硬化。

在本发明另一实施方案中，于步骤(D)之后还可包括下列步骤：

(E)提供一偏光薄膜，于该偏光薄膜中含有一两色染料；

(F)将该偏光薄膜施以预定方向与变形度的拉伸，使该偏光薄膜具有特定的偏光效果；

(G)将涂覆有光学补偿层以及光线阻滞材料的透明基板贴覆在该偏光薄膜的一侧表面上；

在本发明再一个实施方案中，于步骤(G)之后还可包括下列步骤：

(H)提供第一光线阻滞薄膜，该第一光线阻滞薄膜为满足nx＞ny＝nz关系且可简称为A-Plate薄膜；其中，nx为表示在光线阻滞薄膜表面上的x轴方向上的折射率、ny为表示在光线阻滞薄膜表面上的y轴方向上的折射率、且nz为表示在光线阻滞薄膜厚度上的z轴方向上的折射率；

(I)将第一光线阻滞薄膜借由一压力感应黏胶贴覆在涂覆有光学补偿层以及液晶材料的该透明基板上。

本法明还提供一种具有光学补偿膜的偏光板制法，其特征在于，包括下列步骤：

(a)提供一已设有偏光薄膜的偏光板；

(b)在该偏光板上涂覆一光学补偿层；

(c)以约占光学补偿层用料的0.5％～10％重量的适量光引发剂涂敷于光学补偿层上，该光引发剂为本领域常用的光引发剂，将其配成一般常用溶剂中的溶液使用；且在含氧量体积不低于1％浓度的条件下，比如空气环境下，以紫外光照射该光学补偿层，使光学补偿层表面留下部分未反应完成的活性基，例如丙烯酸酯基等；

(d)在光学补偿层上涂覆光线阻滞材料，于光学补偿层表面所残留的活性基可使光线阻滞材料中所含的多数光线阻滞粒子更易于结合于光学补偿层表面上；以及

(e)以紫外光照射该光学补偿层与光线阻滞材料；

其中，该光线阻滞材料结合光学补偿层可对特定波长的光产生预定角度与方向的阻滞，以提供光学补偿作用。

本发明还提供由上述方法所制成的偏光板。

附图说明

图1A为一典型的传统液晶显示器的剖面示意图。

图1B为图1A所示的传统液晶显示器的视角范围的对比曲线图。

图2为现有技术于液晶显示器的偏光板上增设光学补偿膜的生产流程示意图。

图3为本发明的光线阻滞薄膜的制法的示意流程图。

图4A与图4B为说明图3流程图的动作。

图5为涂覆有光学补偿层材料的透明基板，在纯氮且光引发剂浓度大于10wt％的环境下进行紫外线照射其多数光线阻滞粒子与光学补偿层材料附着结合状态的示意图。

图6为涂覆有光学补偿层材料的透明基板，在空气中且光引发剂浓度介于0.5wt％～10wt％的环境下进行紫外线照射，其多数光线阻滞粒子与光学补偿层材料附着结合状态的示意图。

图7为将图3、图4A与图4B所示流程所制成的光线阻滞薄膜直接内建到一偏光板上以取代偏光板原有的两透明基板其中之一的制造流程实施例示意图。

图8为将图7所示流程所制成的内建有光线阻滞薄膜的偏光板再增加贴覆另一层光线阻滞薄膜的制造流程实施例示意图。

图9为本发明整合前述图3至图8所述工艺来制造本发明内建有光线阻滞薄膜的偏光板的一制造流程实施例图。

附图标号说明：10现有技术液晶显示器；11液晶组件；12、13偏光板；121、122、131、132基板；123、133偏光膜；20现有技术偏光板；211、212透明基板；22偏光薄膜；231、232、233压力感应黏胶；24第一光线阻滞薄膜；241基材；243液晶材料；25第二光线阻滞薄膜；291～296、61～67、71～74流程步骤；80光线阻滞薄膜；81、92透明基板；82光学补偿层；821活性压克力基；83光线阻滞材料；831光线阻滞粒子；84紫外光；90偏光板；91偏光薄膜；911染料；912拉伸装置；913、914烤箱；93第一光线阻滞薄膜；941、942压力感应黏胶。

具体实施方式

本发明的具有光学补偿膜的偏光板的主要原理，是将光学补偿膜中的光线阻滞薄膜直接内建于偏光板中，而不须另使用压力感应黏胶来进行黏贴。而在本发明的光学补偿膜工艺中，更借由在光学补偿层材料以紫外线照射以产生交链化学反应的过程中，使其暴露于含氧量不低于1％体积百分比浓度、并提供重量百分比浓度为0.5％～10％的适量光引发剂。因而可在光学补偿层材料表面残留较多量的活性压克力基，使得后续的光阻滞材料得以顺利附着于光学补偿层上，达到将光线阻滞薄膜内建在偏光板的目的。如此一来，偏光板不仅因具有光学补偿效果而有较佳视角范围与显示质量，且厚度亦较现有技术相对较低，透光率与光学特性因此也相对较佳者。

请参阅图3、图4A及图4B，为本发明的光线阻滞薄膜80(亦可称为光学补偿膜)的制法，其可选择实施在一透明基板上以构成独立存在的光线阻滞薄膜、或亦可选择直接实施在已涂覆有偏光薄膜的透明基板上(也就是直接实施在偏光板上)，以构成本发明的具有光学补偿膜的偏光板。如图3所示，本发明的光线阻滞薄膜80的制法包括有下列步骤：

步骤71：在一透明基板81上涂覆一光学补偿层材料82(如图4A所示)，该光学补偿层82至少包括寡聚化合物材料(Oligomer)。于本较佳实施例中，该透明基板81可以使用下列透明树脂材质其中之一：三乙酰基纤维素、丙酰基纤维素、聚酰胺系、聚碳酸酯系、聚酯系、聚苯乙烯系、聚丙烯酸系、聚降冰片烯系、及PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)等。然而，倘若考虑欲将本发明的制法直接实施在已涂覆有偏光薄膜的透明基板上(也就是直接实施在偏光板上)、或是本发明制法所制成的光线阻滞薄膜80稍后要用来涂覆或积层偏光薄膜时，则该透明基板81以三乙酰基纤维素的TAC板所构成为较佳。因TAC板可具有较佳的结构强度与硬度，而可用来支撑整个偏光板结构，并避免偏光板的偏光薄膜遭外力刮伤。于本较佳实施例中，该光学补偿层82可以是经由溶剂(例如市售的：EAC，MeOH，IPA，MEK，Toluene等溶剂)所稀释的寡聚化合物(Oligomer)为主，其材质可为市售的寡聚氨酯或寡聚酯系等寡聚化合物，例如UV紫外光型丙烯酸酯(Acrylate)树脂，其平均分子量可在200～4500等范围之间、黏度可以在5000cp～100000cp之间，官能基数可以由双官能基到六官能基为较佳。例如，公司名称为UCB、Sartomer、共荣社等公司，均有市售前述材料。

于另一较佳实施例中，该光学补偿层82亦可添加反应性单体化合物材料(Monomer)、或是例如安定剂(Stabilizer)或湿润剂等其它添加剂。该单体化合物材料(Monomer)一般是以单或双官能基UV紫外光型压克力(Arcrylate)树脂为主。

步骤72：以紫外光84照射(UV Curing)该光学补偿层82，以产生交链化学反应。于本较佳实施例中，该紫外线84照射的强度为30mj/cm2～1000mj/cm2，且以重量百分比介于0.5％～10％的光引发剂(Initiator)浓度、且在含氧量不低于1％体积百分比浓度的空气环境下进行，而可使光学补偿层82表面留下部分未反应完成的活性压克力基(Active Acrylate)。其中，所述的光引发剂可以为市售的产品，例如，由Ciba公司所贩卖的型号Irgacure907、Irgacure184、或Irgacure369等的光引发剂。

步骤73：在光学补偿层82上涂覆光阻滞材料83(如图4B所示)，于光学补偿层82表面所残留的活性压克力基可使光阻滞材料83(例如液晶材料)中所含的多数光阻滞微粒(例如多数液晶粒子)更易于密着于光学补偿层82表面上。其中，所述的光阻滞材料83可选用Smetic或Nematic型UV紫外光可聚合的单或双官能基液晶高分子所调配。光阻滞材料83与多数液晶粒子的相关技术内容可另参考英国专利GB2324382A案内容。

步骤74：在含氧量不低于1％体积百分比浓度的空气环境下，以30mj/cm²～1000mj/cm²强度的紫外光84照射该光学补偿层82与光线阻滞材料83使其硬化。

请参考图5及图6，其分别为涂覆有光学补偿层82材料的透明基板81，在纯氮且光引发剂浓度大于10wt％的环境下进行紫外线照射、与在空气中且光引发剂浓度介于0.5wt％～10wt％的环境下进行紫外线照射，其多数光阻滞微粒831(例如液晶粒子)与光学补偿层82材料附着结合状态的示意图。如图5所示，当涂覆有光学补偿层82材料的透明基板81，在纯氮且光引发剂浓度大于10wt％的环境下进行紫外线照射时，由于寡聚化合物(Oligomer)的交链反应可充分完成，因此光学补偿层82表面所残留的活性基极少。所以，虽然可得到一较平整光滑的光学补偿层表面，但多数光阻滞微粒831却相对较不易结合附着。相对地，于图6中，当涂覆有光学补偿层82材料的透明基板81，在空气中(含氧量大于1％)且光引发剂浓度介于0.5wt％～10wt％的环境下进行紫外线照射时，未反应完成所残留的活性基，例如压克力基821将会在光学补偿层82表面形成类似小凹陷且可较易于吸附光阻滞微粒831(例如液晶粒子)。多数光阻滞微粒831不仅较易于结合且密着性较佳，且各光阻滞微粒831亦更容易依循特定方向(例如垂直方向)排列。如此一来，将可令本发明的光阻滞微粒831更容易以类似直立的方向附着在光学补偿层82上，达到质量更高且更稳定的光线阻滞薄膜80(或亦可称为光学补偿膜)。进而使得本发明可以将光线阻滞薄膜80直接内建到偏光板上而不须单独制造，也不须担心因光线阻滞薄膜80的质量不稳定影响到偏光板的生产良率。此外，也因为本发明可借由未反应完成所残留的活性压克力基821来加强多数光阻滞微粒831易于依循特定方向附着在光学补偿层82上，所以本发明完全不须在光学补偿层82上添加界面活性剂(Surfactant)来加强结合效果。因此，本发明相较于英国专利GB2324382A案所揭露的需使用界面活性剂的现有技术而言，本发明可具有工艺成本更低、且产品良率更高的优点。

此外，经申请人实验发现，当将前述的光引发剂浓度进一步设定在2wt％～5wt％浓度、且空气环境的含氧量接近于20％左右的工艺条件下时，将可使光阻滞微粒831与光学补偿层82之间的密着性更进一步大幅提高，其所制成的光线阻滞薄膜80的产品稳定性与光学特性亦相对更佳。

请参阅图7，其为将图3、图4A与图4B所示流程所制成的光线阻滞薄膜80直接内建到一偏光板90上以取代偏光板90原有的两透明基板其中的一的制造流程实施例示意图。如图7所示，经由图3、图4A与图4B所示流程所制成的光线阻滞薄膜80经滚卷成一筒状备料。另，将一含聚乙烯醇的PVA偏光薄膜91先浸入两色染料911中(例如碘、碘化钾或其它两色染料)，之后将该浸有染料的偏光薄膜91借由一拉伸装置912施以预定方向与变形度的拉伸，使该偏光薄膜91具有特定的偏光效果。然后，将前述的光线阻滞薄膜80筒状备料、以及另一透明基板92(例如TAC基板)，于烤箱913、914加热环境中分别贴覆于偏光薄膜91的上下两侧表面上，如此便完成本发明的内建有光线阻滞薄膜80的偏光板90。由于本发明的光线阻滞薄膜80(包括有涂覆有光学补偿层82以及光线阻滞材料83的该透明基板81)直接内建在偏光板90上，光线阻滞薄膜80与偏光板90之间不仅不须要额外的透明基板结构、且更无PSA黏胶也无任何其它材质夹置其中。所以，经由本发明方法所制成的偏光板90不仅因内建有光线阻滞薄膜80而可提供光学补偿作用、且该光线阻滞薄膜80的透明基板81更可供作为偏光薄膜91表面上的一保护层。本发明之内建有光线阻滞薄膜80的偏光板90不仅可较如图2所示的现有技术减少至少一层PSA黏胶层或是TAC透明基板层，而可具有相对更薄的厚度，且透光率与光学特性也因此相对较佳。

于本较佳实施例中，该光线阻滞薄膜80可为满足nx＝ny＜nz关系与Rth＝-10～-300nm条件的一光线阻滞薄膜(简称C+薄膜)为较佳。并且，该光线阻滞薄膜80的Rth值以更进一步限制在Rth＝-30～-80nm条件时可具有更好的光学特性。其中，nx为表示在光线阻滞薄膜表面上的一x轴方向上的折射率、ny为表示在光线阻滞薄膜表面上的一y轴方向上的折射率、且nz为表示在光线阻滞薄膜厚度上的一z轴方向上的折射率，Rth＝{(nx+ny)/2-nz}*d，且d为光线阻滞薄膜的厚度。

请参阅图8，其是将图7所示流程所制成之内建有光线阻滞薄膜80的偏光板90再增加贴覆另一层光线阻滞薄膜93的制造流程实施例示意图。首先，提供另一光线阻滞薄膜93(以下称之为第一光线阻滞薄膜93)。该第一光线阻滞薄膜93为满足nx＞ny＝nz关系与Ro＝0.1～220nm条件的光线阻滞薄膜且可简称为A-Plate薄膜。其中，Ro＝(nx-ny)*d。于一更佳实施例中，若将该第一光线阻滞薄膜93的Ro更进一步限制在Ro＝80～130nm条件下时将可具备更好的光学特性。其中，该两不同的光线阻滞薄膜80、93可分别对特定波长的光产生预定角度与方向的阻滞，以提供光学补偿作用，进而达到使液晶显示器在倾斜角度方向上可提供更佳显示质量的功效。之后，将内建有光线阻滞薄膜80的偏光板90的上表面上(亦即具有光线阻滞薄膜80的侧表面上)涂上一层压力感应黏胶941(例如PSA)，且在第一光线阻滞薄膜相对于偏光板90的另一侧表面也涂有压力感应黏胶942。然后，将该第一光线阻滞薄膜93贴覆在该内建有光线阻滞薄膜80的偏光板90上，而构成一适于使用在In-Plane Switching(IPS)LCD上的偏光板成品。如此，便可在本发明的偏光板90上结合两层光线阻滞薄膜80、93，以提供更良好的光学补偿功效。

请参阅图9，为本发明整合前述图3至图8所述工艺来制造本发明内建有光线阻滞薄膜的偏光板的一制造流程实施例图。

如图9所示，本发明具有光学补偿的偏光板的制造流程可包括下列步骤：

步骤61：在一透明基板81上涂覆一光学补偿层82，并且，以重量百分比介于0.5％～10％的光引发剂浓度、且在含氧量不低于1％体积百分比的空气环境下，以30mj/cm²～1000mj/cm²强度的紫外光照射该光学补偿层82，使光学补偿层82表面留下部分未反应完成的活性压克力基。

步骤62：在光学补偿层82上涂覆光线阻滞材料83(例如液晶材料)，于光学补偿层82表面所残留的活性压克力基可使光线阻滞材料83中所含的多数光线阻滞粒子(例如液晶粒子)更易于结合于光学补偿层82表面上。之后，在惰性气体或空气环境下，以紫外光照射该光学补偿层与光线阻滞材料使其硬化。其中，该涂覆光线阻滞材料结合光学补偿层可对特定波长的光产生预定角度与方向的阻滞，以提供光学补偿作用。

步骤63：提供一偏光薄膜91，于该偏光薄膜91中含有一染料。之后，将该偏光薄膜施以预定方向与变形度的拉伸，使该偏光薄膜具有特定的偏光效果。

步骤64：将涂覆有光学补偿层82以及光线阻滞材料83的该透明基板81、以及另一透明基板92，分别贴覆在该偏光薄膜91的上下两侧表面上。其中，该两透明基板81、92可提供相对较高的硬度与结构强度以作为偏光薄膜91表面上的保护层。

步骤65：提供另一光线阻滞薄膜93(亦即第一光线阻滞薄93)。

步骤66：将第一光线阻滞薄膜93借由一压力感应黏胶941贴覆在涂覆有光学补偿层82以及光线阻滞材料83的该透明基板81上。并且，于第一光线阻滞薄膜93较远离偏光板90的侧亦涂有压力感应黏胶942以作为黏着玻璃与偏光板用。

如此，便完成如步骤67所示的本发明内建有光线阻滞薄膜80、93而可提供光学补偿的偏光板90。

以上所述的实施例不应用于限制本发明的可应用范围，本发明的保护范围应以本发明的权利要求范围内容所界定技术精神及其均等变化所含括的权利要求范围为主。即大凡依本发明权利要求范围所做的均等变化及修饰，仍将不失本发明的要义所在，亦不脱离本发明的精神和范围，故都应视为本发明的进一步实施状况。

Claims (10)

1.一种光学补偿膜制法，其特征在于，包括有下列步骤：

(A)在一透明基板上涂覆一层光学补偿层；

(B)以约占光学补偿层用料的0.5％～10％重量的适量光引发剂涂敷于光学补偿层上；且在含氧量体积不低于1％浓度的条件下，以紫外光照射该光学补偿层，使光学补偿层表面留下部分未反应完成的活性基；

(C)在光学补偿层上涂覆光线阻滞材料，光学补偿层表面所残留的活性基，可使光线阻滞材料中所含的多数光线阻滞粒子更易于结合于光学补偿层表面上；以及

(D)以紫外光照射该光学补偿层与光线阻滞材料；

其中，该光线阻滞材料结合光学补偿层可对特定波长的光产生预定角度与方向的阻滞，以提供光学补偿作用。

2.如权利要求1所述的光学补偿膜制法，其特征在于，该光学补偿层至少包括寡聚化合物材料，且该寡聚化合物可为寡聚氨酯或寡聚酯等寡聚化合物，例如UV紫外光型丙烯酸酯树脂，其平均分子量可在200～4500等范围之间、黏度可以在5000cp～100000cp之间，官能基数可以由双官能基到六官能基。

3.如权利要求1所述的光学补偿膜制法，其特征在于，该光引发剂的用量更进一步限制于2wt％～5wt％范围内。

4.如权利要求1所述的光学补偿膜制法，其特征在于，该紫外光照射的强度为30mj/cm²～1000mj/cm²，且含氧量不小于1％体积百分比浓度的环境为空气环境。

5.如权利要求1所述的光学补偿膜制法，其特征在于，在该透明基板上同时设有一偏光薄膜，可提供光学补偿以及偏光功能。

6.如权利要求1所述的光学补偿膜制法，其特征在于，该涂覆有光学补偿层以及液晶材料的该透明基板为满足nx＝ny＜nz关系的光线阻滞薄膜；其中，nx为表示在光线阻滞薄膜表面上的x轴方向上的折射率、ny为表示在光线阻滞薄膜表面上的y轴方向上的折射率、且nz为表示在光线阻滞薄膜厚度上的z轴方向上的折射率，并且，该光线阻滞薄膜还满足Rth＝-30～-80nm条件，其中，Rth＝{(nx+ny)/2-nz}*d，而d为光线阻滞薄膜的厚度。

7.如权利要求1所述的光学补偿膜制法，其特征在于，于步骤(D)之后还包括有下列步骤：

(E)提供一偏光薄膜，于该偏光薄膜中含有一两色染料；

(F)将该偏光薄膜施以预定方向与变形度的拉伸，使该偏光薄膜具有特定的偏光效果；

(G)将涂覆有光学补偿层以及光线阻滞材料的透明基板贴覆在该偏光薄膜的一侧表面上；

其中，该涂覆有光学补偿层以及光线阻滞材料的该透明基板不仅可提供光学补偿作用、且更可供作为偏光薄膜表面上的一保护层。

8.如权利要求7所述的光学补偿膜制法，其特征在于，于步骤(G)之后还包括有下列步骤：

(H)提供第一光线阻滞薄膜，该第一光线阻滞薄膜为满足nx＞ny＝nz关系且可简称为A-Plate薄膜；其中，nx为表示在光线阻滞薄膜表面上的x轴方向上的折射率、ny为表示在光线阻滞薄膜表面上的y轴方向上的折射率、且nz为表示在光线阻滞薄膜厚度上的z轴方向上的折射率；

(I)将第一光线阻滞薄膜借由一压力感应黏胶贴覆在涂覆有光学补偿层以及液晶材料的该透明基板上；

其中，该第一光线阻滞薄膜还满足Ro＝80～130nm条件，其中，Ro＝(nx-ny)*d，而d为光线阻滞薄膜的厚度。

9.一种具有光学补偿膜的偏光板制法，其特征在于，包括有下列步骤：

(a)提供一已设有偏光薄膜的偏光板；

(b)在该偏光板上涂覆一光学补偿层；

(c)以约占光学补偿层用料的0.5％～10％重量的适量光引发剂涂敷于光学补偿层上；且在含氧量体积不低于1％浓度的条件下，以紫外光照射该光学补偿层，使光学补偿层表面留下部分未反应完成的活性基；

(d)在光学补偿层上涂覆光线阻滞材料，于光学补偿层表面所残留的活性基可使光线阻滞材料中所含的多数光线阻滞粒子更易于结合于光学补偿层表面上；以及

(e)以紫外光照射该光学补偿层与光线阻滞材料；

其中，该光线阻滞材料结合光学补偿层可对特定波长的光产生预定角度与方向的阻滞，以提供光学补偿作用。

10.一种权利要求9所述的制法所制成的偏光板。

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