CN100549790C - 液晶显示设备 - Google Patents

Abstract

一种全色横向电场LCD设备，其具有有机透明膜，该有机透明膜为具有RGB颜色的像素而具有三种不同厚度。有机透明膜的厚度d_R、d_G、d_B和彩色滤光片的代表性波长λ_R、λ_G、λ_B之间满足以下关系：d_R∶d_G∶d_B≒λ_R∶λ_G∶λ_B。该不同的厚度为LC层提供了不同的厚度，以改善在斜视方向上LCD设备的图像质量。

Description

液晶显示设备

技术领域

本发明涉及液晶显示(LCD)设备，更具体地，涉及横向电场模式LCD设备，例如平面内切换模式(IPS-mode)LCD设备。

背景技术

LCD设备可以分成两种类型：第一种类型是，其中LCD设备中的液晶(LC)层的朝向在与其间夹有LC层的基板的表面(基板表面)正交的平面内旋转；第二种类型是，其中的LC层的朝向在与基板表面平行的平面内旋转。第一种类型包括扭曲向列模式(TN-mode)LCD设备作为典型例子，而第二种类型包括IPS-mode LCD设备作为典型例子。

在TN-mode LCD设备中，由于LC层具有从与基板表面平行的平面偏离的朝向，因此更大的视角会导致透射光线的偏光角更大的偏离。结果，它使视角变窄。而另一方面，在IPS-mode LCD设备中，由于LC层具有在与基板表面平行的平面中的朝向，因此更大的视角不会导致偏光方向的偏离，因此能取得更宽的视角特性。这导致了近来大量使用横向电场模式(LEF-mode)LCD设备的趋势。然而，虽然LEF-mode

LCD设备相比于TN-mode LCD设备取得了更宽的视角特性；但公知的，当在斜视方向(slanted viewing direction)上观看时，LEF-mode LCD设备会产生更大程度的染色或颜色差问题。

总的来说，LCD设备设计来为在与基板表面正交的方向上由LC层所透射的光的RGB原色分量取得几乎均一的光强。然而，如果入射光的角度(入射角度)偏离了与基板表面正交的方向，则LC层的延迟(retardation)会改变，并且由此会改变透射光的光强。

该延迟由折射指数各向异性与光程长度的乘积确定，而并不取决于透射光的波长。然而，透射光的RGB分量的光强彼此独立地改变，由于透射光的光强随该延迟与透射光波长的比率而变化，从而会导致在透射光的RGB分量间的光强中显著的变化范围。这样，在斜视方向中观察到的图像会产生染色，其中透射光的RGB分量的一个或两个会增强以改变原始的彩色图像。该染色会降低原始画面的图像质量。

专利公开文本JP-3120751B描述了一种LCD设备，其中每个像素包含两个具有施加到LC层的不同电场方向的子像素区域。更具体地，在保持子像素区域间的朝向的对称关系的同时，LC层的朝向通过不同的电场方向而在子像素区域间在相反的旋转方向中旋转。在该公开文本中表述了，这样的结构补偿了其间的两个子像素区域的光学特性以抑制染色。

在上述公开的结构中，只有当灰阶电平表示明亮状态(bright state)时才会抑制染色，其中在两个子像素区域中的LC层的朝向彼此垂直。如果灰阶电平表示灰暗状态(dark state)或中间状态，其中在两个子像素区域间的LC层朝向的角度偏离90度，则光学特性的补偿就不足，从而就不会将染色抑制到所需的程度。

图8显示了在专利公开文本JP-2828073B中描述的LCD设备，其描述了为LCD设备中的RGB像素的彩色滤光片提供不同厚度的技术。在图8中，RGB像素101R、101G和101B包括具有不同厚度d”_R、d”_G和d”_B的彩色滤光片23R、23G和23B，从而LC层30在RGB像素101R、101G和101B中分别具有不同厚度d_R、d_G和d_B。在LC层30中的d_R∶d_G∶d_B比率设定为等于λ_R∶λ_G∶λ_B，其中假定λ_R、λ_G和λ_B为各个RGB像素的彩色滤光片的代表性波长。代表性波长的每个都从在由RGB像素的各个彩色滤光片23R、23G和23B透过的光谱中具有峰值波长70％的波长范围中选择。

在JP-2828073B中描述的LCD设备中RGB彩色滤光片具有不同的厚度，其中d_R∶d_G∶d_B＝λ_R∶λ_G∶λ_B的结构允许延迟与波长的比率在RGB像素间具有充分相同的值，而与相对基板表面的入射角度无关。这抑制了在透射光的RGB分量间光强的变化范围，从而抑制了在斜视方向所观察到的图像染色。

在JP-2828073B所描述的LCD设备中，应当注意的是，无论厚度如何，具有不同厚度的彩色滤光片23R、23G和23B都必须为透射光的RGB分量而具备相同的色度(chromaticity)。这样，在各个彩色滤光片中混和的色素(pigment)必须考虑到各个彩色滤光片的厚度而调整，以便为RGB分量取得相同的色度。

该色素调整使多种设计工作成为必需，包括吸收光谱的计算、色素浓度的确定、颜料膏的粘性、所得的RGB分量色度的测定、和基于该测定的色度的校正。也就是说，色素调整必须要包括复杂的设计工作并增加了LCD设备的成本。

发明内容

由于在传统技术中的上述问题，本发明的一个目的是提供一种LCD设备，其能抑制斜视方向中所观察到的图像中的染色问题，而无论灰阶电平如何，并无需复杂的设计工作。

本发明提供一种液晶显示(LCD)设备，其包括：液晶(LC)层、其间夹有LC层的TFT基板和彩色滤光片基板，LC层由TFT基板以横向电场模式驱动并限定像素阵列，彩色滤光片基板上安置有为各个像素限定第一到第三原色的第一到第三原色滤光片，其中：TFT基板具有相应于像素的第一到第三原色的三种不同厚度；在三种不同厚度间的关系是，三种不同厚度中相应于具有最长波长的第一原色的一个比三种不同厚度中相应于具有中间波长的第二原色的另一个要小，而三种厚度中的该另一个比三种不同厚度中相应于具有最短波长的第三原色的其余的一个要小。

本发明还提供了一种用来制造液晶显示(LCD)设备的方法，该液晶显示设备包括液晶(LC)层、和其间夹有LC层的TFT基板和彩色滤光片基板，该LC层由TFT基板以横向电场模式驱动并限定了像素阵列，而彩色滤光片基板上安置有为各个像素限定第一到第三原色的第一到第三原色滤光片。该方法包括步骤：在TFT基板和彩色滤光片基板中的一个上形成具有均一厚度的透明膜；通过具有相应于原色的不同光学透射因数的掩模将透明膜曝光；在相应于原色的每一种的不同区域中对曝光的透明膜显影以具有不同的厚度。

替代地，曝光步骤可以是，通过掩模将透明膜曝光到具有相应于原色的不同光强的光中。

根据本发明，具有相应于像素三原色的不同厚度的透明膜提供了在具有不同原色的各个像素中的LC层的不同厚度，从而无需涉及复杂的设计工作就能抑制LC层的染色。

本发明的以上和其他的目的、特性和优点将从以下参考附图的描述中变得更加清楚。

附图说明

图1是根据本发明的第一实施例的LCD设备的截面图。

图2是在图1中所示的TFT基板的顶视图。

图3是在对TFT基板中的光敏丙烯酸树脂膜进行曝光中所使用的光掩模的顶视图。

图4是在对TFT基板中的光敏丙烯酸树脂膜进行曝光中所使用的另一种光掩模的顶视图。

图5是在对TFT基板中的光敏丙烯酸树脂膜进行曝光中所使用的另一种光掩模的顶视图。

图6是在对TFT基板中的光敏丙烯酸树脂膜进行曝光中所使用的另一种光掩膜的顶视图。

图7是在根据本发明的第二实施例的LCD设备中所使用的TFT基板的顶视图。

图8是在公开文本中所描述的传统的LCD设备的截面图。

具体实施方式

现在，将参考附图更具体地描述本发明，其中在附图中相同的组成元件用相同的参考数字表示。

图1显示了根据本发明的第一实施例的LCD设备。用数字100指示的LCD设备为有源矩阵全色透射式LCD设备，在发射白光45的背光源前布置有RGB像素阵列，该RGB像素阵列通过使用像素的光转换功能而分别透过入射光的RGB分量。

LCD设备100包括：LC层30，布置在LC层30的后侧或光入射侧的TFT基板10，和布置在LC层30的前侧或光射出侧的彩色滤光片基板20。TFT基板10包括：包括成组的RGB像素101R、101G、101B的RGB像素101的阵列，和其中的每个均与像素101中相应的一个关联的薄膜晶体管(TFT，在图中未示出)阵列。彩色滤光片基板20上安置有相应于RGB像素101R、101G、101B的彩色滤光片23R、23G、23B。在阵列中的像素101形成多个组，其中每组都包括RGB像素101R、101G和101B。每个像素101都被光屏蔽区域102的相应部分所环绕。

TFT基板10包括玻璃基板体11，其上安置有多条扫描线(未示出)、多条公共线(未示出)、和覆盖扫描线和公共线的氮化硅膜(未示出)。在氮化硅膜上，延伸多条数据线12用于像素101的每列。扫描线、公共线和数据线12在由TFT基板10的光屏蔽掩模102所覆盖的区域(掩模区域)中延伸。氮化硅所构成的钝化膜13覆盖在氮化硅膜上的数据线12。钝化膜13具有保护扫描线、公共线、数据线12等的功能。

在钝化膜13上形成用如丙烯酸树脂所构成的有机透明膜14，在其上的每个像素101中形成由透明导体所构成的像素电极15和公共电极16。LCD设备100控制在像素电极15和公共电极16之间的电压以产生施加到LC层30的各个部分的横向电场。公共线16具有比数据线12的宽度更大的宽度，并且为屏蔽由数据线12所产生的电场而与数据线12重叠。有机透明膜14具有足以降低在数据线12和公共电极16之间形成的寄生电容的相对大的厚度.

彩色滤光片基板20包括玻璃基板体21，其上形成有黑色矩阵22以构成光屏蔽区域102，用来环绕和分隔像素101。彩色滤光片23R、23G、23B形成在黑色矩阵22所暴露出的玻璃基板体21以及黑色矩阵22的一部分上。保护涂层膜(overcoat film)24覆盖彩色滤光片22R、22G、22B。

配向膜41覆盖了与LC层30接触的TFT基板10的表面。在B像素101B附近的光屏蔽区域102中，在与LC层30接触的彩色滤光片基板20上形成有多个柱状隔离物(未示出)。配向膜42覆盖包括柱状隔离物的彩色滤光片基板20。柱状隔离物的顶端与TFT基板10的表面接触以限定在TFT基板10和彩色滤光片基板20间的固定间隙。配向膜41、42预先在彼此平行的方向上摩擦。

为了以透射模式操作LCD设备100，将白光45入射到LCD设备100上。偏光膜43和44分别形成在TFT基板10的光入射表面和彩色滤光片基板20的光射出表面，并以彼此正交偏振(crossed nicols)布置。在TFT基板10上的偏光膜43具有与LC层30的初始朝向对准的吸收轴。

在本实施例的LCD设备100中，对于在RGB像素101R、101G和101B中的LC层30的厚度d_R、d_G、d_B和RGB彩色滤光片23R、23G、23B的代表性波长λ_R、λ_G、λ_B，存在以下的关系：

d_R∶d_G∶d_B＝λ_R∶λ_G∶λ_B

彩色滤光片23R、23G、23B的代表性波长λ_R、λ_G、λ_B中的每个从由彩色滤光片23R、23G、23B透射的光的相应分量的波长70％或更大的波长范围中选择。此外，在RGB像素101R、101G和101B中，LC层30的厚度d_R、d_G、d_B和有机透明膜14的厚度d_R’、d_G’、d_B’之和是恒定的，因此存在以下关系：

d_R’＜d_G’＜d_B’。

在以上实施例的一个实例中，RGB彩色滤光片23R、23G、23B的代表性波长λ_R、λ_G、λ_B确定为λ_R＝610nm、λ_G＝550nm、λ_B＝460nm。基于比率λ_R∶λ_G∶λ_B，在RGB像素中的LC层30的厚度确定为d_R＝3.3μm、d_G＝3.0μm、d_B＝2.5μm，基于其，确定RGB像素中有机透明膜14的厚度d_R’、d_G’、d_B’为d_R’＝1.2μm、d_G’＝1.5μm、d_B’＝2.0μm。

在本实施例中的LC层30包括具有0.100的折射指数各向异性(Δn)和为10的介电指数各向异性(Δε)的LC材料。在光屏蔽区域102中形成的有机透明膜14具有例如等于在G像素101G中的有机透明膜14的厚度d_G’的厚度。

图2显示了图1中的TFT基板10以及LC层30的初始朝向，其相应于在图2中沿线I-I截取的截面图。每条扫描线51和每条公共线52沿像素101的两个相邻行间的像素101的行方向延伸。每条数据线12沿像素101的两个相邻列间的像素101的列方向延伸。

在每条扫描线51和每条数据线12间的相交处附近，为驱动相应的像素101而提供TFT 53。TFT 53包括源电极54、漏电极55和由扫描线51的部分所构成的栅电极。源电极54直接连接到数据线12，而漏电极55通过将插塞填充到分别形成在有机透明膜14和钝化膜13中的通孔56、57中而连接到上覆的像素电极15。

公共线52通过将插塞填充到分别形成在有机透明膜14和钝化膜13中的通孔58、59而连接到上覆的公共电极16。像素电极15和公共电极16为梳齿型的，其中像素电极15的梳齿与公共电极16的梳齿平行且交替地在像素列方向上延伸。

配向膜41和42都具有摩擦方向32，根据其来校准在LC层30中的LC分子的初始朝向。该摩擦方向32与像素电极15和公共电极16的梳齿的延伸方向偏离5到25度。

在像素电极15和公共电极16间没有施加电压的情况下，在LC层30中的LC分子31具有与在TFT基板10上的偏光膜41的吸收轴平行的朝向，从而入射到并穿过TFT基板10的光不会穿透彩色滤光片基板20。

在像素电极15和公共电极16间由于TFT 53的导通而施加有电压的情况下，LC层30施加有横向电场，从而LC分子31在与基板表面平行的平面中旋转。入射到并穿过TFT基板10的光穿透LC层30，并由于LC层30的双折射而穿过彩色滤光片基板20。施加的电压的控制控制了LC分子31的旋转角度，从而控制了透射光的光强。

在本实施例的LCD设备中，由于等式d_R∶d_G∶d_B＝λ_R∶λ_G∶λ_B，因此LC层30的延迟与波长的比率对于透射光的RGB分量来说是充分保持恒定的，而无论相对于基板表面的入射角度如何。这样，光强就在取决于相对于基板表面的入射角度的RGB分量间以均一量变化，从而抑制了在斜视角度中观察到的图像的染色或颜色变化。在全色RGB

LCD设备100中对染色的抑制改善了LCD设备的图像质量，并在表现出颜色的轻微渐变的同时再现了原始画面。

在本实施例的LCD设备中，基于以上等式的有机透明膜14的厚度满足不等式d_R’＜d_G’＜d_B’，从而使得彩色滤光片23R、23G、23B具有均一的厚度。这样，不需要色素浓度的控制，从而排除了为使用彩色滤光片23R、23G、23B的不同厚度的复杂的设计。

在本实施例的LCD设备100中，排除色素浓度的控制允许更容易地采用LC层30的厚度设计改变。例如，如果在作为参考厚度使用的G像素中的LC层10的厚度变为4μm或2μm，则有机透明膜14的厚度可以很容易地确定而无需额外的设计工作。

彩色滤光片23R、23G、23B的代表性波长λ_R、λ_G、λ_B并不限于在以上的实施例中所表述的610nm、550nm、460nm，而可以根据需要选择，只要所选择的代表性波长具有由各个彩色滤色片所透过的光的峰值波长的70％或更长的波长就行。LC层30的厚度d_R、d_G、d_B并不限于以上在实施例中所使用的值，而可以根据需要选择，只要其间的比率对应各个波长之间的比率就行。LC层30的厚度d_R、d_G、d_B间的比率并不需要等于波长λ_R、λ_G、λ_B间的比率，其中也可以使用d_R＞d_G＞d_B的结构，以在一定程度上获取本发明的益处。

现在，将在以下描述用于制造图1的LCD设备100的方法。首先准备好玻璃基板体11，并在其上通过溅射法沉积金属膜。接着使用公知的光刻和蚀刻技术对该金属膜构图，以形成扫描线和公共线。金属膜可以由例如铬构成。

之后，使用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术，连续地沉积出400nm厚度的氮化硅膜、200nm厚度的无掺杂非晶硅膜和30nm厚度的n型非晶硅膜。接着进行干刻蚀处理以对无掺杂非晶硅膜和n型非晶硅膜构图，从而形成数据线12。接着在数据线12和氮化硅膜上沉积200nm厚度的钝化膜13，然后通过使用涂覆技术在钝化膜13上形成具有均一厚度的光敏丙烯酸树脂膜14。

随后，通过使用光掩模将光敏丙烯酸树脂膜14曝光，并显影。图3显示了用来为相应于图2中所示的像素的部分曝光光敏丙烯酸树脂所使用的光掩模。光掩模60包括用来曝光通孔56、58部分的第一图案61，用来曝光R和G像素101R、101G区域的第二图案62R、62G，和用来曝光光屏蔽区域102的第三图案63。光掩模60还具有相应于B像素101B的光屏蔽图案64。

第一图案61具有100％的光学透射比，而用于R和G像素的第二图案62R、62G的光学透射比T_R、T_G为T_R＞T_G。第三图案63具有与用于G像素的第二图案62G的光学透射比相等的光学透射比。

在光敏丙烯酸树脂膜的曝光和显影中，曝光量越大，则根据显影液提供的树脂膜的溶解速度就越高。也就是说，在图3中所示的光掩模60，在光掩模60中较高光学透射比的区域中提供的树脂膜厚度较大，而在较低光学透射比的区域中的厚度较小。这样，所得到的RGB像素中的有机透明膜14的厚度d_R’、d_G’、d_B’为d_R’＜d_G’＜d_B’，并且在光屏蔽区域102中的有机透明膜14的厚度等于在G像素101G中的有机透明膜14的厚度d_G’。

使用第一图案61来为通孔曝光允许光敏丙烯酸树脂膜的整个厚度形成树脂膜中的通孔56、58。相应于密封树脂区域和外部区域的光敏丙烯酸树脂膜的部分也从整个厚度中除去。随后对光敏丙烯酸树脂的烘焙处理提供了有机透明膜的最终结构。

在对光敏丙烯酸树脂膜的涂覆和曝光步骤中，设计在第二图案62R、62B中涂层膜的厚度、曝光的强度和光掩模的光学透射比，使得最终的有机透明膜14在RGB像素中具有厚度d_R’＝1.2μm、d_G’＝1.5μm、d_B’＝2.0μm。用于有机透明膜14的材料并不限于光敏丙烯酸树脂，也可以是光敏聚酰亚胺或其他具有较高光学透射比和适当的光敏性的材料。

随后，进行干刻蚀处理来去除从通孔56、58的底部暴露出的钝化膜13的部分，从而形成通孔57、59，其藉此暴露出漏电极和公共线的部分。接着，在填充通孔56到59的同时在有机透明膜14上形成ITO(氧化铟锡)膜。接着，对ITO膜构图，从而得到连接到漏电极和公共线的插塞以及在插塞的顶部形成的像素电极15和公共电极16，从而完成TFT基板10的结构。

接着，在与彩色滤光片基板20相对的TFT基板10上形成配向膜41，并对其沿特定的方向进行摩擦处理。彩色滤光片基板20使用公知的处理来制造，并在与TFT基板10相对的彩色滤光片基板20的表面上形成柱状隔离物。随后，在包括了柱状隔离物的整个表面上形成配向膜42，并对其在特定的方向上进行摩擦处理。

将TFT基板10和彩色滤光片基板20重叠在一起，使得在其间形成由柱状隔离物所限定的间隙，配向膜41、42夹在TFT基板10和彩色滤光片基板20之间。两个基板10、20的外围密封，随后通过注入口在间隙中注入LC并密封该注入口。

接着，将偏光膜43、44粘合在TFT基板10的光入射侧和彩色滤光片基板20的光射出侧。在TFT基板10上的偏光膜43具有与LC分子31的初始朝向对准的光学吸收轴，并且偏光膜43、44的偏光轴彼此正交偏振。驱动器IC和信号处理板区域附着在LCD设备100上，从而得到LCD设备100的最终结构。

在用来制造LCD设备100的处理中，通过为满足关系T_R＞T_G＞T_B的RGB像素使用具有光学透射比T_R、T_G、T_B的光掩模来对光敏丙烯酸树脂膜曝光，以简单的处理提供了具有满足关系d_R’＜d_G’＜d_B’的厚度d_R’、d_G’、d_B’的有机透明膜。

在以上实施例的替换实施例中，在保护涂层膜24上可以提供具有满足关系d_R’＜d_G’＜d_B’的厚度d_R’、d_G’、d_B’的另一种膜。在这种情况下，该另一种膜应当具有更大的厚度，以便得到接近代表性波长间的比率λ_R∶λ_G∶λ_B的厚度间的比率d_R∶d_G∶d_B。有机透明膜14一般具有在TFT基板10上的膜中最大的厚度。因此，更优选地调整有机透明膜14的厚度。

图4到6显示了用来制造图1的LCD设备的另一种处理中用于曝光光敏丙烯酸树脂膜的光掩模。图4到6中所示的光掩模部分相应于图2中所示的区域。在图4到6中所示的光掩模70到72包括图案开口73到75，它们具有100％的光学透射比并形成在具有0％的光学透射比的光屏蔽区域76中。

为了曝光光敏丙烯酸树脂膜，首先使用图4中所示的光掩模70来暴露出穿透有机透明膜14的通孔56、58的区域。接着，使用图5中所示的光掩模71来在相对于光掩模71移动TFT基板的同时曝光R像素101R区域，然后是G像素101G区域。在该曝光中，R像素101R的区域曝露到具有比曝光G像素101G区域的光的光强I_G要高的光强I_R的光中。也就是说，光强的关系是I_R＞I_G。该曝光在有机透明膜中提供的厚度是d_B＞d_G＞d_R。

随后，使用在图6中所示的光掩模72来曝光光屏蔽区域102。在该曝光中的光强与用来曝光G像素101G的光的光强相等。这样，在光屏蔽区域102中的有机透明膜14具有与在G像素101G中的有机透明膜14的厚度d_G’相等的厚度。

图7显示了在根据本发明的第二实施例的LCD设备中的TFT基板。TFT基板17包括：具有摩擦方向33的配向膜41、42，和包括初始朝向与扫描线51和公共线52的延伸方向正交的LC分子31的LC层。像素电极15和公共电极16具有沿与摩擦方向33轻微偏离的方向延伸的梳齿。此外，梳齿关于布置在TFT 53附近的第一半区(第一子像素区域)103和远离TFT 53布置的第二半区(第二子像素区域)104之间的边界对称。

在第二实施例的LCD设备的结构中，当在像素电极15和公共电极16之间施加电压时，LC分子31在第一子像素区域103和第二子像素区域104之间在相反的旋转方向上旋转。相反的旋转方向补偿了在第一子像素区域103和第二子像素区域104之间的LC层的光学特性，从而在灰阶电平的明亮状态下显示时，能抑制在斜视方向上所观察到的图像的染色。除了在本实施例中的像素101和光屏蔽区域102的平面形状与第一实施例中的不同外，本实施例的LCD设备能使用类似于形成第一实施例的LCD设备100的处理方法来制造。

在第一和第二实施例中，具有相应于像素的三原色的不同厚度的有机透明膜在各个具有不同原色的像素中提供了不同的LC层厚度，从而抑制了LC层的染色而无需像传统技术一样需要复杂的设计工作。

虽然在本发明中优选地是

但其中d_R＞d_G＞d_B的结构也可以提供本发明的益处。优选地，

从而可以使彩色滤光片23R、23G、23B具有均一的厚度。三原色系统也可以是不同于红、绿和蓝的其他颜色系统。

由于上述的实施例仅仅是示例性地描述，因此本发明并不限于以上的实施例，本领域的技术人员可以在不背离本发明范围的情况下轻易地作出修改或变更。

Claims (9)

1.一种液晶显示(LCD)设备，其包括：液晶(LC)层，和其间夹有所述LC层的TFT基板和彩色滤光片基板，所述LC层由所述TFT基板以横向电场模式驱动并限定像素阵列，所述彩色滤光片基板上安置有为各个所述像素限定第一到第三原色的第一到第三原色滤光片，其中：

所述TFT基板具有相应于所述像素的所述第一到第三原色的三种不同厚度；和

在所述三种不同厚度间的关系是，所述三种不同厚度中相应于具有最长波长的所述第一原色的一个比所述三种不同厚度中相应于具有中间波长的所述第二原色的另一个要小，而所述的三种厚度中的该另一个比所述三种不同厚度中相应于具有最短波长的所述第三原色的其余一个要小，其中：

向所述像素施加公共电势的公共电极线与将像素数据信号提供给所述像素的列的数据线重叠；

其中，钝化膜覆盖所述数据线，在所述钝化膜上形成透明膜，并且在所述透明膜上形成像素电极和所述公共电极线；以及

所述透明膜具有相应于所述第一到第三原色的三个不同的厚度，以允许所述TFT基板具有所述三个不同的厚度。

2.根据权利要求1的LCD设备，其中：

所述透明膜具有第一到第三厚度d_R’、d_G’、d_B’，所述第一到第三厚度d_R’、d_G’、d_B’分别相应于所述像素的所述第一到第三原色；并满足关系d_R’＜d_G’＜d_B’。

3.根据权利要求2的LCD设备，其中：所述LC层具有分别相应于所述像素的所述第一到第三原色的第一到第三厚度d_R、d_G、d_B，并满足以下关系：

给定的λ_R、λ_G和λ_B分别表示不小于由所述第一到第三彩色滤光片透过的光谱中峰值波长的70％的波长。

4.根据权利要求3的LCD设备，其中满足以下关系：

5.根据权利要求3的LCD设备，其中所述透明膜由有机材料构成。

6.根据权利要求1的LCD设备，其中，所述像素中的每一个包括对所述LC层中的LC分子具有相同的初始朝向方向的第一和第二子像素区域，并且当施加横向电场时，所述LC分子在所述第一子像素区域和所述第二子像素区域间沿相反的旋转方向旋转。

7.根据权利要求1的LCD设备，其中所述三原色包括红、绿和蓝色。

8.一种用来制造液晶显示(LCD)设备的方法，其中该液晶显示设备包括液晶(LC)层，和其间夹有所述LC层的TFT基板和彩色滤光片基板，所述LC层由所述TFT基板以横向电场模式驱动并限定像素阵列，所述彩色滤光片基板上安置有为各个所述像素限定第一到第三原色的第一到第三原色滤光片，所述方法包括步骤：

在所述TFT基板和所述彩色滤光片基板中的一个上形成具有均一厚度的透明膜；

通过具有相应于所述原色的不同光学透射因数的掩模将所述透明膜曝光；和

显影所述曝光的透明膜，以使得分别相应于所述三原色的区域中的每一个区域具有三种不同厚度中的一种厚度。

9.一种用来制造液晶显示(LCD)设备的方法，其中该液晶显示设备包括液晶(LC)层，和其间夹有所述LC层的TFT基板和彩色滤光片基板，所述LC层由所述TFT基板以横向电场模式驱动并限定像素阵列，所述彩色滤光片基板上安置有为各个所述像素限定第一到第三原色的第一到第三原色滤光片，所述方法包括步骤：

在所述TFT基板和所述彩色滤光片基板中的一个上形成具有均一厚度的透明膜；

通过掩膜将所述透明膜曝光到具有相应于所述原色的不同光强的光中；和

显影所述曝光的透明膜，以使得分别相应于所述三原色的区域中的每一个区域具有三种不同厚度中的一种厚度。

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