CN100520597C

CN100520597C - 用于光学临近修正的方法和系统

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Publication number: CN100520597C
Application number: CNB2006100730230A
Authority: CN
Inventors: 马哈拉·马克赫吉; 斯科特·M·曼斯菲尔德; 艾伦·E·罗森布拉特; 卡费·莱
Original assignee: International Business Machines Corp
Current assignee: Google LLC
Priority date: 2005-05-26
Filing date: 2006-04-10
Publication date: 2009-07-29
Anticipated expiration: 2026-04-10
Also published as: TW200705175A; US7343582B2; US20060271905A1; CN1869819A; TWI360759B

Abstract

本发明公开了用于执行光学临近修正(OPC)的方法、程序产品和系统，其中基于邻近形状对需要分段的形状的成像过程的有效影响，对掩模形状进行分段。在确定邻近形状对感兴趣的形状的分段的影响之前，对邻近形状进行平滑，其中邻近形状的平滑量随着邻近形状对感兴趣的形状的成像过程影响的减小而增加。优选的实施方式包括在感兴趣的形状周围使用多个相互作用区域(ROI)，并为给定的相互作用区域分配平滑参数，该参数随着相互作用区域内的形状对需要分段的形状的影响的减小而增加。本发明提供了精确而有效的光学临近修正。

Description

用于光学临近修正的方法和系统

技术领域

本发明一般涉及光刻工艺，并且更特别地涉及为光刻工艺效果而修正集成电路掩模布局的方法。

技术背景

在集成电路制造中，照相平版印刷术或平版印刷术通常用来将与集成电路的布局相关的图案转移到晶片衬底上。该晶片衬底包括，但不局限于，例如硅、硅锗(SiGe)、绝缘体硅(SOI)以及其各种组合物等材料。改进超大规模集成(VLSI)电路性能的努力，导致了对减小图形尺寸和增加布局密度的需求的增长。这又更加需要使用分辨率增强技术(RET)以扩展光刻工艺的能力。RET包括例如使用光学临近修正(OPC)、次分辨率辅助图形增强光刻(SRAF)和相位移增强掩模光刻(PSM)的技术。

尽管分辨率增强技术(RET)的几种形式有惊人的进步，但是迭代的基于模型的光学临近修正(MBOPC)已将其自身确认为为光刻工艺效果而补偿掩模形状的可选择的方法。常规的MBOPC工具类似于下列方式进行操作并包括下列步骤。掩模设计(下面称为掩模)上的形状通常定义为多边形。执行预处理步骤将每个掩模形状的边分为较小的线段。MBOPC工具的核心是在特定点模拟图像强度的模拟器，该点通常是在每个线段的中心。然后将这些线段在MBOPC的每个迭代步骤中从它们在掩模形状上的原始位置来回移动，也就是从图形内部向外或向内移动。当(作为掩模形状的修正结果)在这些预先选择的点处的图像强度匹配于在公差范围内的阈值强度水平时，就停止迭代。

虽然OPC的质量可以随着线段数量的增加而改善，但是MBOPC工具的效率可能会随着它在每个迭代步骤中所模拟和迭代的线段数量的增加而降低。线段数又依赖于每个掩模形状的边数，因此，希望被修正的线段只是为获得期望的光刻质量所必需的线段。

分割通常是以两种方式执行的。第一种分割依赖于特定的掩模形状本身。这种类型的分割试图捕获例如拐角、凹凸等的形状的变化。图1A中说明了这种分割的示例，此图示出了两个掩模形状100和110。在此示例中，通过在描绘形状100的轮廓的多边形的拐角a、d、g、j、m、p、s和v处放置定义线段的边的节点a、b、c...x来分割掩模形状100，并且该掩模形状包括在拐角之间的一些中间点。线段的长度和中间点的间隔通常由例如掩模制作能力限制和MBOPC在晶片上精确再现掩模形状的能力的标准所确定。为说明的目的，只说明了掩模形状100的分割，但邻近形状110可以以同样的方式进行分割。

第二种分割由其邻近形状作用到掩模形状。这种类型的分割方案使用了局部间隔和宽度的依赖。图1B说明了这种分割的示例。例如，掩模形状200通过邻近掩膜形状210的临近得以分割，其中该邻近形状210的部分被放置的距离D小于预定的阈值间隔距离。该阈值间隔规则导致了在受影响的掩模形状200上创建了节点aa、bb、cc、dd、ee和ff，其定义连接这些节点的线段。图1A和图1B中说明的两种类型分段此后将称为主分段或分段，并且相关的节点称为分段点。

除了上面图1A和图1B两者中所示的分段点外，一些MBOPC方法提倡在每个主分段周围附加次分段。次分段为OPC较平滑收敛作准备。参考图2A，掩模边集220被主节点A、B、C、D、E、F、G所分段。得到的模拟的晶片形状或图像221是重叠在掩模形状220上的弯曲的线。可以看出，例如拐角C以及边AB和EDC的期望的晶片形状的图形没有很好地由模拟的图像221再现。在图2B中，再次示出了有同样的A到G的主节点的掩模边220。此外，在主节点A、B、C、D、E和F周围分别插入了次节点集B′、B″、C′、C″、D′、D″、E′、E″、F′和F″，创建了由主节点和次节点所定义的较细的分段。次节点的出现与只使用主节点相比可以改进模拟的精确度。得到的模拟的晶片形状222比基于图2A主节点分段的模拟的晶片形状221更精密地匹配于掩模形状220。图3说明根据常规OPC分段方案的分段过程流程图。首先，例如通过提供形状列表来提供掩模布局(方框301)。然后对列表中每个形状(方框302)执行如下的步骤：

根据预定的间隔和宽度规则，为给定的形状i确定有效的相互作用区域(以下简称为ROI)(方框303)。该有效的ROI是由在一定距离上的边界围绕的区域，在此距离之外的、布局中的边界之外的图形对成像特定图形的光学过程没有实质性的影响。另一种表述方式是，事实上，ROI边界外的图形对成像在其周围形成了ROI的特定图形的光学过程的影响无关紧要。用来定义光学工艺条件的光学因素可以包括，但不局限于，照明光波长、数值孔径、光刻胶特性等。对于给定的形状i，根据形状自身的多边形拐角来对形状进行分段(方框304)。

接着，根据ROI内的其它形状的边缘的临近来对形状i进行分段(方框305)。根据方框304、305形成的分段称为主分段。

然后，在所有的图形被分段后，根据另一组规则整理分段(方框306)。整理分段的规则通常由掩模制造的能力和工艺的限制来确定。这样的规则的示例包括，但不局限于，最小图形尺寸、最小线宽、最小间隔等。

边印制的位置受到其它邻近掩模多边形的影响。大干扰的图形比小的图形有更强的影响，但该相互作用一般会随分离的增加而减弱。部分连贯图像的形成是非线性过程，因此相互作用的减弱不是距离的固定函数。然而，一般的缩放行为是所谓的透镜脉冲响应函数，该函数也称为艾里(Airy)函数。数学上，艾里函数是[J₁(2π·s)/(π·s)]²，其中J₁是一阶贝塞尔函数。s是在图像平面内的无量纲的位置坐标，被定义为s＝x·NA/λ，其中x是以常规长度单位测量的位置，NA是光刻系统的有效数值孔径，λ是照明光波长。

尽管图形之间的相互作用是非线性的，但可以说图形之间的相互作用将会，如图4所示的绘图所说明的，以艾里函数包络与该包络的平方根之间的速率随分离而减小，其中该包络以分离距离d的立方下降，而该包络的平方根约以d^3/2下降。前者情况对应于完全不连贯的相互作用12，而后者情况对应于完全连贯的相互作用14。图4中的曲线假定了理想透镜，较长距离尺度上附加的微弱相互作用也可能存在，例如由于透镜的闪耀。绘制的曲线是标准化的使得图形相互作用和干扰的面积是不考虑的。然而，由于相互作用随着图形间分离的增加而下降，所以忽略与被分段的形状或图形距离稍远的、在相互作用和干扰的形状中的细微细节的影响变得可以接受。

掩模图形中的任何细节将在分段过程期间相互作用以在邻近掩模形状上创建相应的分割，这在图1B中是清楚的。那些分段中的某一些可以是由与主形状相当远的邻近形状的变化所创建的。在图4中可见，那些远处的分段中的某一些可以对所得的晶片图像模拟有非常小的影响。这样的分割将最终对MBOPC的无效性作贡献。如图4所示，邻近形状的位置越远，对特定掩模形状的临近效应就越小，这一事实加剧了无效性。然而在常规的OPC方法中，不存在利用上述事实的任何过程。

随着技术的发展由于邻近形状的许多分段的影响变得更为恶劣，这是因为诸如下述因素：

1.随着光刻工艺正深入次波长技术以及同样的波长用于越来越小的技术，在受因子λ/NA控制的相互作用区域(ROI)内邻近形状的数量变得越来越大。

2.对于例如以临界水平交替PSM掩模的两次曝光掩模技术的应用，光闪耀的影响可以充当重要的角色。这就意味着MBOPC软件工具将需要考虑比以前的技术中更大的ROI。因此，现在将在ROI内放置比以前更多的邻近形状。

3.许多RET需要更连贯的照明，这就扩展了ROI。结果是更多的形状与给定的感兴趣的形状有光刻相互作用，这就导致了对给定形状的分段的增加。

因此，希望提供得一种用于以能改善MBOPC效率的方式分割掩模形状的方法，同时不降低OPC的质量或效力。

发明内容

本发明的目的是提供一种方法，一种能够执行该方法的程序产品以及计算机系统，其中执行的OPC能有效地利用内存以及计算性能，同时还能提供精确的OPC。

因此，提供执行光学临近修正(OPC)的方法，包括步骤：识别具有需要分段的边的感兴趣的图形；识别一个或多个不同于所述感兴趣的图形的有影响的图形；平滑所述一个或多个有影响的图形，以形成有平滑的边的平滑的有影响的图形，其中所述一个或多个有影响的图形的平滑的量，根据所述有影响的图形对所述感兴趣的图形的成像过程的影响而变化；根据所述平滑的有影响的图形的平滑的边，定义所述感兴趣的图形的边的分段；以及执行所述感兴趣的图形的OPC，其中所述OPC包括调整所述感兴趣的图形的边的所述分段。

根据本发明的另一方面，在所述需要分段的感兴趣的图形周围识别多个相互作用区域(ROI)，使得每个所述多个ROI至少包含所述一个或多个有影响的图形的一部分；以及根据所述一个或多个有影响的图形的所述至少一部分对所述感兴趣的图形的所述成像过程的影响的量，提供对应于所述多个ROI的每一个的平滑参数；以及其中所述平滑是根据所述相应的平滑参数，在所述多个ROI的每一个内的所述一个或多个有影响的图形的所述至少一部分的每一个上执行的。

可以使用任何其它适当的平滑方法来进行平滑，例如曼哈顿平滑或在空间频域内的，例如使用低通滤波的平滑。

在曼哈顿滤波的情况下，为ROI的每一个分配的平滑参数优选地包括用于平滑的正交对象的尺寸，其中每个所述平滑参数的值根据在相应的ROI的每一个内的图形或图形的部分的影响的减小而增加。

根据本发明的另一方面，可以在感兴趣的图形的周围识别原ROI，然后，可以将原ROI分成围绕感兴趣的图形的更小的子ROI。这些子ROI可以相对于彼此基本上是同心的。

附图说明

参考下列附图，从以下对本发明的详细描述中，可以更容易地明了和更好地理解这些以及其它的特征、方面和优势，在附图中相同的标示表示相同的元件，而元件不一定是按照比例绘制的。

图1A说明需要分段的感兴趣的形状。

图1B说明需要分段的感兴趣的形状以及邻近形状对感兴趣的形状的分段的影响。

图2A和图2B说明次分段的使用。

图3说明根据本发明的方法的实施方式的流程图。

图4说明作为形状分离的函数的相对光学影响曲线。

图5A说明包含需要分段的形状和邻近形状的常规的相互作用区域(ROI)。

图5B说明基于邻近形状影响的常规的形状分段。

图6说明根据本发明的多个ROI。

图7说明基于根据本发明的一个实施方式的平滑邻近形状的形状分段。

图8说明基于邻近形状影响的常规的形状分段。

图9说明基于根据本发明的一个实施方式的平滑邻近形状的形状分段。

图10说明根据本发明的一个实施方式的方法的流程图。

图11说明曼哈顿增长操作。

图12说明曼哈顿收缩操作。

图13说明收缩操作之后的增长操作。

图14说明增长操作之后的收缩操作。

图15说明执行平滑的增长操作和收缩操作的顺序。

图16说明根据本发明一个实施方式的程序产品和计算机系统。

具体实施方式

这里描述的本发明的实施方式的目的是提供一种方法和系统，通过这种方法和系统确定掩模形状的分段或分割，使得有足够的分段以允许可靠的光学临近修正(OPC)，但是限制分段以使存贮器或计算需求最小化。因此，根据本发明的实施方式，从影响掩模形状的给定边的分段的邻近掩模形状中去掉不必要的变化。影响邻近形状离需要分段的边越远，需要考虑的将影响掩模形状的有影响的形状的变化的影响就越小。

本发明的优势是它能够减小掩模形状的不必要的分割数量，这将会比现有技术提高MBOPC迭代的效率。减少的线段数量也将会改进MBOPC的内存利用以及也导致对OPC的分级处理的改善。

根据本发明，对于需要分段的掩模形状的给定边，通过邻近形状与目标边的临近程度，也就是说，根据它的相互作用区域(ROI)，来识别和分类将影响分段的每个邻近形状。邻近形状距离越远，其形状的细节对主形状的成像处理的影响就越小。因此，取消较远的形状的不必要的细节是有意义的。这样，根据本发明，在需要分段的边的周围定义多个ROI，并且当邻近形状位于给定的ROI外时，对有影响的邻近形状进行平滑以进一步取消细节。因此，根据本发明的一个实施方式，平滑邻近形状的量依赖于它与主形状的临近程度。

常规地，模拟要考虑保留在单一相互作用区域(ROI)内的邻近形状。图5A中示出了单一ROI 410的示例。在ROI 410内的所有邻近形状401、402、403、404被用于计算主形状400的分段，这个主形状400就是需要分段的感兴趣的形状。

图5B中示出了在现有技术情况下主形状400的分段。邻近形状401、402、403和404的每个拐角或顶点都影响主形状400的边的分段，如箭头501所示。在这个示例中，由邻近形状401、402、403和404的主形状400的主分段数是32个。为了提高精度，如果每个主分段伴有至少5个次分段，那么线段或分段总数将为160个。根据本发明，没有像原先那样考虑邻近形状，而是在考虑邻近形状对主形状分段的影响之前对某些邻近形状进行平滑。为了进一步实施平滑，用于模拟的单个相互作用区(ROI)被分割成几个不连续的子ROI。子ROI的使用仅仅是为了说明的目的，普通技术人员将理解可以在感兴趣的形状周围定义多个ROI，而不必先定义主ROI或者不必在单个ROI之外形成子ROI。因此，ROI可以被定义为毗邻的或非毗邻的，并且该实施方式不试图作为限制性示例。参考图6，由外边界616包围的单个模拟ROI 610被分成4个子区域或子ROI，即R1、R2、R3和R4。在此实施方式中，分隔子ROI区域使得原ROI 610，例如由包围主形状600的正方形边界，分成对等的部分，并且这些子ROI区域与其它的子ROI近似为同心。例如，子ROI区域R1由内部边界线610所界定，而子ROI R2由内部边界线610和下一边界线612所界定。类似地，子ROI R3由子ROI R2的外边界612和下一个远处的边界线614所界定，而子ROI R4由边界线614和最初的ROI 610的外边界616所界定。然而，只要适合于接近光学影响的有效区域，就可以利用其它的例如圆形或八边形的形状来形成ROI，并且，利用某些合理的标准，可以通过把最初的ROI分成不相等的部分来形成围绕主形状的子ROI。在区域R1内的邻近形状601是与主形状600离的最近的一个。因此，根据本实施方式，在最近的子ROI R1内没有或者最小限度地对形状实施平滑。在当前的实施方式中假设所有变化对于与主形状最近的形状都是重要的。然而，在某些设计中，掩模形状可以包括在任何距离处对光刻都是无关紧要的次分辨率图形，这些次分辨率图形在应用基于模型的OPC之前在设计中可以已被预先平滑。可以通过任何合适的方法来进行平滑，例如以类似于闵可夫斯基和差(Minkowski′s Sum andDifference)的方式进行连续的增长操作和收缩操作，下面作进一步的描述，在共同未决和共同转让的美国专利申请中有所讨论，该专利申请于2004年1月12日提交，序列号为10/707,778，在此通过参考引入其内容。可以使用其它适当的平滑方法，例如在空间频域内的低通滤波，并且可以包括目前对本领域技术人员已知的或在将来开发的任何平滑方法。

通过沿对象的外部边界滚动半径为r的球，并取原始对象以及由滚动的球扫过的面积的点集的并集(union)，定义在二维欧几里得定义域中的对象的闵可夫斯基和。通过沿对象的内部边界滚动半径为r的球，并取原始对象与由滚动的球扫过的面积的点集的差，定义在二维欧几里得定义域中的对象的闵可夫斯基差。在此实施方式中，由于制造的目的，掩模形状具有一般基本上在特性上正交的边，优选地利用类似于闵可夫斯基和与差平滑的连续的收缩操作和增长操作执行平滑，其中利用正交平滑对象进行收缩和增长平滑操作，该正交平滑的对象具有与对象的基本为正交的边平行的边。

例如，参考图11，说明具有外部边界1101的掩模形状1100正在经历增长操作，其中正方形对象900具有预先定义长度为α的边，这个长度α可以认为是具有长度尺寸的预先确定的收缩或增长参数α。类似地，在图12中，具有外部边界1201的掩模形状1200正在利用对象900经历收缩操作，在此示例中，对象900是正方形并且具有收缩参数α。通过滑动具有平滑尺寸α的正交对象900并且取原始对象1100以及由正交对象900扫过的面积的点集的并集，并从闵可夫斯基和操作类推，执行在图11中说明的增长操作，以形成具有外部边界1102的点集的并集。这在下文中称为曼哈顿和1102。以相似的方式，也是通过滑动具有平滑参数α的正交对象900并且取原始对象1200以及由正交对象900扫过的面积的点集的差，来执行在图12中说明的收缩操作，以形成具有外部边界1202的点集的并集。这在下文中称为曼哈顿差1202。在正交平滑对象是正方形的情况下，在这种平滑操作之后的输出图形将不会再有任何长度小于α的边。更一般地，可以使用任何平滑算法，只要平滑后的形状没有任何小于增长参数或收缩参数α的图形。优选地基于光刻参数值确定α的值，这些参数是例如数值孔径NA，照明光波长λ和有影响的形状与需要分段的主形状的距离。

增长操作之后进行收缩操作可以消除形状中小的凹口，如图13所示。形状260中最初存在凹口261，在增长操作265后形成得到的形状260′，而凹口261不再存在，但形状260′比原形状260要大。执行收缩操作267，得到了平滑过的形状260″，形状260″大体上与原形状260有相同的大小，但已消除了凹口261。

参考图14，收缩操作之后进行增长操作可以消除形状中小的突起。形状270最初包含突起272，在收缩操作275之后，得到了比原形状270要小的形状270′，但突起272已不存在。在接下来的增长操作277之后，得到的形状270″大体上与原形状270有相同的大小，但突起272已被消除。

因此，为了消除凹口和突起两者，优选地应用增长操作和收缩操作两者的序列，例如图15所示。可以应用增长操作和收缩操作的各种组合来达到想要的平滑，这对本领域技术人员是可以理解的。任何这类曼哈顿增长操作和收缩操作的组合此后称为曼哈顿平滑。

在本发明的实施方式中，每个子ROI被指定了不同的平滑参数。例如，子ROI区R1、R2、R3和R4被指定的平滑参数分别为α1、α2、α3和α4，其中0≤α1<α2<α3<α4。

关于图6中的子ROI区域，子ROI R1内的形状既可以完全不做任何平滑，也可以用小的平滑参数α1来进行平滑。子ROI R2内的邻近形状602与主形状600离得稍远，并因此在子ROI R2内的形状用于对主形状600进行分段之前，该子ROI R2内的形状要利用平滑参数α2进行平滑。在形状603和604被用于主形状600的分段之前，子ROI R3内的形状603利用平滑参数α3进行了平滑，子ROI R4内的形状604利用平滑参数α4进行了平滑。

图7中说明了得到的形状和分段。在这个示例中，最近的子ROIR1外侧的邻近形状602、603和604具有某种程度的平滑，这分别导致了平滑过的形状602′、603′和604′。平滑减少了有影响的细节或相互作用的边的数量，于是如虚线箭头501所指的那样，在此情况下，仅有20个主分段导致仅有100个次分段。应该注意平滑过的邻近形状602′、603′和604′没有代替原形状602、603和604。相反，形成平滑过的形状602′、603′和604′是为了改进分段，并且除了原形状602、603和604之外，这些邻近形状可以存储在例如计算机内存或磁盘存储器中。

尽管本发明的以上实施方式已示范了小的邻近形状，但是发明的方法可以应用于横跨主ROI的几个子区域或子ROI的邻近形状。参考图8，具有外部边界819的主ROI 810包含主形状810和邻近形状801、802和803。图9说明主ROI 810分成子ROI R1 811(具有外边界816)、R2 812(具有内边界816和外边界817)、R3 813(具有内边界817和外边界818)以及R4 814(具有内边界818和外边界819)。在这种情况下，一个邻近形状802横跨了子ROI R2(812)和R3(813)。在本发明的该实施方式中，根据横过子ROI边界的形状802的部分来分隔邻近形状802。在此情况下，邻近形状802有在子ROI R3(813)内的部分802a以及在子ROI R2(812)内的部分802b，并且这两部分802a、802b由与子ROI R3(813)和R2(812)之间的边界对应的、在形状802上的线805分隔。然后邻近形状802的每个子部分根据其所属的子区域而被平滑，在此示例中，在子ROI R3(813)内的802a部分根据适用于子ROI R3的平滑而被平滑，而在子ROI R2(812)内的802b部分根据适用于子ROI R2的平滑而被平滑。

图10说明本发明的优选实施方式的流程图。首先提供具有M个形状的列表的掩模布局(方框1001)。然后考虑每个子ROI的平滑的量和程度，例如将平滑程度n＝1，2，...，N应用于这些M个形状中的每一个，其中N是围绕每个需要分段的形状的子ROI的总数(方框1002)。平滑的第n个程度是指随着n的增加或随着子ROI内的图形对感兴趣的形状m的光学处理的有效影响的减小而增加的任何的平滑量，例如随着邻近形状与主形状的距离增加而增加。作为与主形状距离的函数的邻近形状的平滑的增加量可以是任何适当的量，不需要限于固定的因子或平滑的单调增加。N的优选值是4，但依赖于形状影响与计算时间之间的折衷，其它值也可以是适合的。例如，当曼哈顿收缩操作和增长操作用于平滑时，子ROI区域R1、R2、R3和R4被指派的平滑参数分别为α1、α2、α3和α4，其中0≤α1<α2<α3<α4。优选地，对于程度n＝1没有应用平滑量。那么优选地存储根据与子ROI对应的平滑“程度”平滑的形状。可选择地，平滑的形状可以在必需的分段过程中被确定。

对所有的形状，m＝1，...，M(方框1003)，围绕第m个形状的主ROI被分成N个子ROI(方框1004)。N的优选值是4。然后，根据主形状自身的几何形状执行主形状的最初分段(方框1005)。接着在每一第n个子ROI内确定哪个邻近形状或邻近形状部分在第n个子ROI内。然后，如果所存储的平滑过的形状是可利用或被确定是需要的，其中该形状是使用已经由与第n个子ROI对应的第n个平滑量平滑过的，则根据第n个平滑过的形状，对主形状进行分段(方框1006)。然后，对下一第m个主形状重复方框1004到方框1006的步骤，直到所有形状都被分段(方框1007)。

最后，根据掩模制造能力和处理规则，对分段做必要的整理(方框1008)。

本发明可能有许多可选择的实施方式。首先，不必仅仅应用几何技术例如收缩操作和增长操作消除主掩模形状的小的图形。相反，数学技术可以被用来消除例如凹口和突起的小的图形。这样的技术可以是基于规则的，例如使得形状平滑工具在当沿着掩模形状的边进行时，该工具辨认并消除这种小的图形。可选择地，平滑可以在空间频域内例如，通过应用低通滤波来执行。

参考图16，根据本发明的方法可以适应于在程序产品1603中执行，该程序产品可以存在于计算机可读介质1603上，该介质包含用于使计算机或计算机系统1600执行该方法的指令，或者用于汇编使计算机1600执行该方法的指令的指令。这些指令可以包含目前已知的或将来开发的、计算机可以响应的任何形式，该形式包括但不局限于，数字和/或模拟机器语言、汇编语言或解释语言、操作系统指令等。用于在程序产品1603中执行该方法的指令可以被用来汇编来自于其它介质中的其它可利用的指令，这些介质是例如存储器1602，内存1604或在通信连接1609上可利用的其它计算机系统1610。图16说明计算机系统1600，当这个系统配备了用于执行本方法的计算机可读的指令时，就可以适应于执行本发明的方法。计算机系统1600包含CPU(中央处理单元)1601、存储设备或介质1602、内存1604，并且可以包括其它的输入/输出(I/O)设备1605或显示设备1606，并且可以额外地包括其它的计算机系统1610或设备1603，这种额外的系统或设备可以通过通信链接(包括但不局限于无线连接)1609，1607来连接，这些链接可以提供部分的指令和/或可以协作执行指令。

虽然在此根据某些优选的实施方式对本发明进行了描述，但是本领域的技术人员应该理解可以做出许多修改和提高，而并不背离本发明的真正的范围和实质，该范围和实质只是由下面所附的权利要求来限定的。

Claims

1.一种用于执行光学临近修正的方法，包括以下步骤：

识别具有需要分段的边的感兴趣的图形；

识别一个或多个不同于所述感兴趣的图形的有影响的图形；

平滑所述一个或多个有影响的图形，以形成有平滑的边的平滑的有影响的图形，其中所述一个或多个有影响的图形的平滑的量，根据所述有影响的图形对所述感兴趣的图形的成像过程的影响而变化；

根据所述平滑的有影响的图形的平滑的边，限定所述感兴趣的图形的边的分段；以及

执行所述感兴趣的图形的光学临近修正，其中所述光学临近修正包括调整所述感兴趣的图形的边的所述分段。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述识别所述一个或多个有影响的图形进一步包括：

在所述感兴趣的图形周围识别多个相互作用区域，使得每个所述多个相互作用区域至少包含所述一个或多个有影响的图形的一部分；以及

根据所述一个或多个有影响的图形的所述一部分对所述感兴趣的图形的所述成像过程的影响的量，提供对应于所述多个相互作用区域的每一个的平滑参数；以及

其中所述平滑是根据所述相应的平滑参数，在所述多个相互作用区域的每一个内的所述一个或多个有影响的图形的所述一部分的每一个上执行的。

3.根据权利要求1所述的方法，其中利用曼哈顿平滑执行所述平滑。

4.根据权利要求1所述的方法，其中利用在空间频域内的低通滤波执行所述平滑。

5.根据权利要求2所述的方法，其中利用曼哈顿平滑执行所述平滑，该曼哈顿平滑包括使用具有与所述相互作用区域的每一个对应的平滑尺寸的正交对象，其中所述平滑参数的每一个的值根据所述一个或多个有影响的图形的所述一部分在所述相应的相互作用区域内的影响的减小而增加。

6.根据权利要求2所述的方法，其中所述识别多个相互作用区域进一步包括：

识别围绕所述感兴趣的图形的主区域的边界，使得位于所述主区域边界之外的图形对该感兴趣的图形的该成像过程的影响基本上微乎其微；以及

将所述主区域分成围绕所述感兴趣的图形的子相互作用区域。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述子相互作用区域相对于彼此基本上是同心的。