CN100368598C - 一种铜或铜合金的表面平滑微蚀处理液 - Google Patents

一种铜或铜合金的表面平滑微蚀处理液 Download PDF

Info

Publication number
CN100368598C
CN100368598C CNB2005100363862A CN200510036386A CN100368598C CN 100368598 C CN100368598 C CN 100368598C CN B2005100363862 A CNB2005100363862 A CN B2005100363862A CN 200510036386 A CN200510036386 A CN 200510036386A CN 100368598 C CN100368598 C CN 100368598C
Authority
CN
China
Prior art keywords
copper
treatment fluid
etching treatment
smoothing
copper alloy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CNB2005100363862A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1730728A (zh
Inventor
蔡汉华
李伟浩
高敏
陆云
欧志强
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
GUANGDONG RESEARCH INSTITUTE PETROCHEMICAL INDUSTRY
Original Assignee
GUANGDONG RESEARCH INSTITUTE PETROCHEMICAL INDUSTRY
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by GUANGDONG RESEARCH INSTITUTE PETROCHEMICAL INDUSTRY filed Critical GUANGDONG RESEARCH INSTITUTE PETROCHEMICAL INDUSTRY
Priority to CNB2005100363862A priority Critical patent/CN100368598C/zh
Publication of CN1730728A publication Critical patent/CN1730728A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100368598C publication Critical patent/CN100368598C/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

一种铜或铜合金的表面平滑微蚀处理液。本发明涉及一种印制电路板的金属表面处理液。本发明的处理液的组分及重量百分含量为:35%双氧水:3~12;98%硫酸:5~20;1,4-丁炔二醇或二甲基己炔二醇:0.1~5;稳定剂:0.1~0.5;氟表面活性剂:0.001~0.02;其余为去离子水稀释剂。本发明的铜或铜合金表面微蚀处理液在低双氧水使用浓度下能将其表面处理成光泽度大于80的平滑表面,且成分分析和控制简单,不易暴沸,适合印制电路板各种化学镀的前处理。

Description

一种铜或铜合金的表面平滑微蚀处理液
技术领域
本发明涉及一种金属表面处理液,特别涉及一种印制电路板的金属表面处理液。
背景技术
随着全球无铅化,印制电路板的最终可焊性涂覆层处理由热风整平转向化学镀镍金、化学镀锡和化学镀银。为了提高化学镀层的平坦性和光亮性,需要平滑的铜微表面。中国专利公开号1389596中,详述了含有羟胺、氧化剂、铵盐和唑类化合物的水溶液作为可形成平滑的铜表面处理液。但该溶液的成分在连续生产中难以分析控制,且有机物含量较高,废水处理困难。美国专利5,630,950公开了含硫酸、过氧化氢和稳定剂的酸性抛光液,该处理液中的过氧化氢使用浓度过高,容易发生暴沸,同时会沉积一层有机高分子,会影响后序的化学镀。
发明内容
本发明提供一种低双氧水使用浓度,成分分析和控制简单,不易暴沸的铜或铜合金表面平滑微蚀处理液。
本发明所述的处理液的组分及重量百分含量为:35%双氧水:3~12;98%硫酸:5~20;1,4-丁炔二醇或二甲基己炔二醇:0.1~5;稳定剂:0.1~0.5;氟表面活性剂:0.001~0.02;余量为去离子水稀释剂。
优选组分及重量百分含量为:35%双氧水:6~10;98%硫酸:8~15;1,4-丁炔二醇或二甲基己炔二醇:0.1~1;稳定剂:0.2-0.4;氟表面活性剂:0.05-0.010;余量为去离子水稀释剂。
上述稳定剂为苯磺酸,甲基苯磺酸、磺基水杨酸、羟基苯磺酸、8-羟基喹啉、硝基苯磺酸或氨基苯磺酸。
上述氟表面活性剂为FC-80、ZonylFS-62、ZonylFSE或ZonylFS0-100。
下面详细说明本发明:
本发明使用双氧水作为氧化剂,用于铜的氧化,浓度小于3%,则蚀铜速率太慢,效率低;若浓度大于12%,则蚀铜速率太快,难于控制蚀铜量。
本发明使用的硫酸用于铜的溶解,浓度小于5%,则蚀铜速率太慢,效率低;若浓度大于20%,则容易析出硫酸铜晶体。
本发明使用的1,4-丁炔二醇或二甲基己炔二醇能促进过氧化氢朝水平方向与金属铜反应,是获得平滑表面的功能性添加剂。这种功能性添加剂含有两个富电子活性端基团,能与呈正电性的铜吸附。添加剂接触铜之前不会对过氧化氢产生催化作用。接触后,添加剂的一端基与铜吸附,打破了整个分子的电子云分布平衡,使得另一端基产生催化功能,促使过氧化氢的[O-O]键断裂,释放出原子氧。在铜的微表面上,那些棱角突枝部位比平坦部位具有更大比表面积,其吸附更多的活性添加剂,由于催化作用,过氧化氢在这些突起部位释放更多的原子氧。因此,突起部位的咬铜速度明显大于平坦部位,这样就会形成平坦的微观面。一旦形成了平坦表面,各部位的咬铜速度趋于一致,达到均一化蚀刻的效果。处理液的浓度小于0.1%,则难以获得平滑的表面;若浓度大于5%,则会使铜面发暗,起到相反的效果。
本发明的处理液通过添加过氧化氢的稳定剂来抑制过氧化氢的分解。其使用浓度小于0.1%,过氧化氢得不到有效的抑制;大于0.5%,会降低蚀铜速率。
本发明的处理液还通过添加少量的高效氟表面活性剂来降低溶液的表面张力,促进铜面腐蚀的均匀性。用量小于0.001%,效果不明显;用量大于0.02%,容易产生大量泡沫,不利于生产。
本发明的处理液用去离子水作为稀释剂,并加至100%。
本发明的微蚀处理液最好在20~30℃的温度使用,处理时间30~90秒。处理方式可以喷淋和浸泡,微蚀量通常为1-5μm。
具体实施方式
实施例1~4和比较例1~2见表1。根据表1所示的成分配制微蚀处理液,在温度25℃下浸入1.0OZ的双面覆铜板60秒,然后取出,用热风吹干。采用光泽度来评价处理后的铜表面的平滑性。光泽度是使用瑞士ZEHNTNER公司的便携式光泽度计ZGM1120、并按照JIS Z8741测定20度镜面光泽而得到的,结果示于表1中。
如表1所示,本发明的铜或铜合金表面微蚀处理液在低双氧水使用浓度下能将其表面处理成光泽度大于80的平滑表面,且成分分析和控制简单,不易暴沸,适合印制电路板各种化学镀的前处理。
表1
  实施例   成分   重量比(%)   光泽度
  1   35%双氧水98%硫酸1,4-丁炔二醇甲基苯磺酸FC-80去离子水   6510.20.00587.8   89.5
  2   35%双氧水98%硫酸1,4-丁炔二醇8-羟基喹啉FC-80去离子水   101030.50.00874.5   80.9
  3   35%双氧水98%硫酸二甲基己炔二醇氨基苯磺酸ZonylFSE去离子水   1050.80.50.0181.7   85.6
  4   35%双氧水98%硫酸二甲基己炔二醇羟基苯磺酸ZonylFSE去离子水   8100.40.30.01581.3   83.2
  比较例1(美国专利5,630,950)   35%双氧水98%硫酸聚乙烯醇去离子水   2821060   65.6
  比较例2(美国专利5,630,950)   35%双氧水98%硫酸N-甲基吡咯啉酮去离子水   285166   75.6

Claims (4)

1.一种铜或铜合金的表面平滑微蚀处理液,其特征是由以下组分及重量百分含量组成:35%双氧水:3~12;98%硫酸:5~20;1,4-丁炔二醇或二甲基己炔二醇:0.1~5;稳定剂:0.1~0.5;氟表面活性剂:0.001~0.02;其余为去离子水稀释剂。
2.根据权利要求1所述的铜或铜合金的表面平滑微蚀处理液,其特征是由以下组分及重量百分含量组成:35%双氧水:6~10;98%硫酸:8~15;1,4-丁炔二醇或二甲基己炔二醇:0.1~1;稳定剂:0.2-0.4;氟表面活性剂:0.05-0.01;其余为去离子水稀释剂。
3.根据权利要求1所述的铜或铜合金的表面平滑微蚀处理液,其特征是上述稳定剂为苯磺酸,甲基苯磺酸、磺基水杨酸、羟基苯磺酸、8-羟基喹啉、硝基苯磺酸或氨基苯磺酸。
4.根据权利要求1所述的铜或铜合金的表面平滑微蚀处理液,其特征是上述氟表面活性剂为FC-80、ZonylFS-62、ZonylFSE或ZonylFSO-100。
CNB2005100363862A 2005-08-09 2005-08-09 一种铜或铜合金的表面平滑微蚀处理液 Expired - Fee Related CN100368598C (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNB2005100363862A CN100368598C (zh) 2005-08-09 2005-08-09 一种铜或铜合金的表面平滑微蚀处理液

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNB2005100363862A CN100368598C (zh) 2005-08-09 2005-08-09 一种铜或铜合金的表面平滑微蚀处理液

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1730728A CN1730728A (zh) 2006-02-08
CN100368598C true CN100368598C (zh) 2008-02-13

Family

ID=35963147

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2005100363862A Expired - Fee Related CN100368598C (zh) 2005-08-09 2005-08-09 一种铜或铜合金的表面平滑微蚀处理液

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN100368598C (zh)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102111962B (zh) * 2009-12-24 2012-10-03 北大方正集团有限公司 半圆型细线路制作方法及装置
CN101962775B (zh) * 2010-09-29 2012-06-27 深圳市洁驰科技有限公司 一种硫酸/双氧水微蚀液稳定剂及其制备方法
CN102181865A (zh) * 2011-04-29 2011-09-14 广州市天承化工有限公司 可循环再用铜和铜合金表面微蚀刻处理剂及处理系统
CN102286739A (zh) * 2011-08-31 2011-12-21 上海应用技术学院 一种印制线路板多层板内层的黑化剂及其制备方法和应用
CN102586831B (zh) * 2012-03-12 2014-11-19 山东金宝电子股份有限公司 一种降低电解铜箔粗糙度的表面处理工艺
KR101394133B1 (ko) * 2012-08-22 2014-05-15 주식회사 이엔에프테크놀로지 몰리브덴 합금막 및 인듐 산화막 식각액 조성물
CN105734571A (zh) * 2016-04-21 2016-07-06 广州恩源化工科技有限公司 一种金属表面微蚀液
CN108070821A (zh) * 2016-11-16 2018-05-25 中达电子零组件(吴江)有限公司 无氧铜表面的处理方法
CN108060420B (zh) * 2017-12-27 2020-09-04 上海新阳半导体材料股份有限公司 一种刻蚀液及其制备方法和应用
CN108251840B (zh) * 2018-02-08 2019-10-29 皆利士多层线路版(中山)有限公司 化学剥铜药水及剥铜方法
CN109097776A (zh) * 2018-07-17 2018-12-28 东莞市广华化工有限公司 一种微蚀减铜添加液及工艺
CN110373672B (zh) * 2019-08-01 2021-09-03 深圳市航盛电路科技股份有限公司 一种飞靶夹具表面附着铜处理液
CN111349937B (zh) * 2020-03-20 2022-03-22 盐城维信电子有限公司 一种铜或铜合金表面微蚀液及其处理方法
CN112342546A (zh) * 2020-10-23 2021-02-09 珠海隆康电子科技有限公司 微蚀稳定剂及其制备方法
CN112391627B (zh) * 2020-11-16 2023-04-14 珠海联鼎化工设备有限公司 一种无氨氮环保微蚀前处理液及处理方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN85101736A (zh) * 1984-01-12 1987-01-31 塑胶专技公司 利用钨-二元醇复合物溶解金属
US5630950A (en) * 1993-07-09 1997-05-20 Enthone-Omi, Inc. Copper brightening process and bath
JPH1129883A (ja) * 1997-07-08 1999-02-02 Mec Kk 銅および銅合金のマイクロエッチング剤
CN1336449A (zh) * 2000-07-28 2002-02-20 美克株式会社 铜或铜合金的微浸蚀剂、使用该剂的微浸蚀法和印刷线路版的制造方法
WO2004085706A1 (en) * 2003-03-25 2004-10-07 Atotech Deutschland Gmbh Solution for etching copper surfaces and method of depositing metal on copper surfaces

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN85101736A (zh) * 1984-01-12 1987-01-31 塑胶专技公司 利用钨-二元醇复合物溶解金属
US5630950A (en) * 1993-07-09 1997-05-20 Enthone-Omi, Inc. Copper brightening process and bath
JPH1129883A (ja) * 1997-07-08 1999-02-02 Mec Kk 銅および銅合金のマイクロエッチング剤
CN1336449A (zh) * 2000-07-28 2002-02-20 美克株式会社 铜或铜合金的微浸蚀剂、使用该剂的微浸蚀法和印刷线路版的制造方法
WO2004085706A1 (en) * 2003-03-25 2004-10-07 Atotech Deutschland Gmbh Solution for etching copper surfaces and method of depositing metal on copper surfaces

Also Published As

Publication number Publication date
CN1730728A (zh) 2006-02-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100368598C (zh) 一种铜或铜合金的表面平滑微蚀处理液
CN102234806B (zh) 一种不锈钢蚀刻液及蚀刻方法
TW200610752A (en) Alphahydroxyacids with ultra-low metal concentration
KR880004134A (ko) 인산염 코우팅 조성물과 아연-니켈 인산염 피막의 적용방법
CN105316663B (zh) 一种制备半导体硅片用镀镍液
CN109735845B (zh) 一种可阻止孔圈发白的微蚀液
CN105779983A (zh) 一种无铬彩色钝化液
CN111647888A (zh) 一种长蚀刻寿命的铜蚀刻液
CN108707939A (zh) 一种耐盐雾合金线及其制作工艺
CN102330099B (zh) 一种不锈钢酸洗缓蚀剂
CN101235290B (zh) 一种酸性蚀刻液
CN110424030A (zh) 无氰碱性电镀铜液及其制备和在挠性印刷线路板中的应用
WO2014090890A1 (en) Brightening and passivation of stainless steel surfaces
CN110331392B (zh) 一种化学镀锡液及其制备方法
CN109207971A (zh) 一种化学快速还原镀金液及其应用
CN111270247A (zh) 一种铜合金材料无烟酸洗液及其制备方法
CN111206249A (zh) 一种抗氯离子铜面微蚀剂及其制备方法
TWI606138B (zh) 具有離子催化劑的基板的無電金屬鍍覆的水平方法
CN115216771B (zh) 一种印制线路板铜面粗化液及其应用
CN110016701A (zh) 铝箔基板镀膜方法
CN1940133A (zh) 镁合金化学镀镍方法
CN107034472B (zh) 一种316l不锈钢镜面抛光液及其抛光工艺
CN109267127B (zh) 一种铜基材处理液及预处理工艺
WO2021024599A1 (ja) 無電解めっきの前処理方法及び無電解めっきの前処理液
US20090277798A1 (en) Catalyst attachment-enhancing agent

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20080213

Termination date: 20140809

EXPY Termination of patent right or utility model