CH720045A2 - Procédé de fabrication d'un composant d'habillage d'une montre, d'un article de mode ou d'un article de bijouterie ou de joaillerie. - Google Patents

Abstract

L'invention concerne un procédé de fabrication d'un composant d'habillage (10) d'une montre, d'un article de mode ou d'un article de bijouterie ou de joaillerie, comprenant les étapes suivantes : – dépôt d'une couche interne (12) sur tout ou partie de la surface d'une face interne (110) d'un substrat (11) réalisé dans un matériau transparent, – ablation localisée de la couche interne (12), de sorte à conserver une partie de ladite couche interne (12) sur une première portion de la face interne (110) du substrat (11), ladite ablation étant réalisée de sorte à former au moins une poche débouchant sur une seconde portion de la face interne (110) du substrat (11) et de sorte à structurer ladite seconde portion de la face interne (110) du substrat (11), – traitement de surface de la couche interne (12) et de la seconde portion de la face interne (110) du substrat (11).

Description

Domaine technique de l'invention

[0001] L'invention relève du domaine de l'horlogerie, des articles de modes, de la bijouterie ou de la joaillerie, et concerne plus particulièrement un procédé de fabrication d'un composant d'habillage d'une montre, d'un article de mode, de bijouterie ou de joaillerie et un procédé de fabrication d'un tel composant d'habillage.

[0002] Dans le présent texte, la notion „d'article de mode“ comprend les articles ou accessoires d'habillement, tels que les ceintures, chaussures, vêtements, etc., et comprend en outre les articles de lunetterie, les articles de téléphonie, ou tout autre objet décoratif.

Arrière-plan technologique

[0003] Dans le domaine de l'horlogerie en particulier, les composants d'habillage pour montres, notamment les cadrans, rehauts, lunettes, etc., peuvent présenter, à des fins décoratives, des décors réalisés à partir de couches minces déposées à la surface d'un substrat.

[0004] Suivant la dimension et le nombre de détails du décor du composant d'habillage, ce dernier peut être relativement complexe à réaliser. Notamment, lorsque le décor est formé par une combinaison de structurations sur un substrat et d'une couche mince déposée sur le substrat, les tolérances d'alignement de la couche mince vis-à-vis des structurations sont particulièrement compliquées à respecter.

[0005] De manière générale, on retrouve également les problématiques précitées dans les domaines des articles de mode, de bijouterie ou de joaillerie.

[0006] Dans ce contexte, la présente invention vise à améliorer la précision et la qualité des décors d'un composant d'habillage d'une montre, d'un article de mode, de bijouterie ou de joaillerie.

[0007] En particulier, l'invention résout le problème de respect des tolérances d'alignement des décors sur un composant d'habillage, notamment de l'alignement d'une couche mince vis-à-vis de structurations d'une face d'un substrat sur laquelle ladite couche mince est déposée.

Résumé de l'invention

[0008] L'invention concerne, à cet effet, un procédé de fabrication d'un composant d'habillage d'une montre, d'un article de mode ou d'un article de bijouterie ou de joaillerie, comprenant les étapes suivantes : – dépôt d'une couche interne sur tout ou partie de la surface d'une face interne d'un substrat réalisé dans un matériau transparent, – ablation localisée de la couche interne, de sorte à conserver une partie de ladite couche interne sur une première portion de la face interne du substrat, ladite ablation étant réalisée de sorte à former au moins une poche débouchant sur une seconde portion de la face interne du substrat et de sorte à structurer ladite seconde portion de la face interne du substrat, – traitement de surface de la couche interne et de la face interne du substrat.

[0009] Dans des modes particuliers de réalisation, l'invention peut comporter en outre l'une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prises isolément ou selon toutes les combinaisons techniquement possibles.

[0010] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, lors d'une étape de polissage réalisée avant l'étape de dépôt de la couche interne, la face interne du substrat est polie.

[0011] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, le procédé comprend, avant la réalisation de l'étape de traitement de surface de la couche interne et de la face interne du substrat, une étape de gravure de la couche interne dans laquelle une partie de la couche interne est éliminée de sorte à conformer ladite couche selon une forme prédéfinie, sans que la face interne du substrat ne soit impactée.

[0012] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, l'étape d'ablation localisée de la couche interne est réalisée par faisceau laser.

[0013] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, le procédé comprend une étape de gravure du substrat réalisée de sorte à générer un motif à l'intérieur de l'épaisseur dudit substrat, sans impacter la face interne, ni une face externe dudit substrat opposée à la face interne.

[0014] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, le procédé comprend les étapes suivantes : – dépôt d'une couche externe sur tout ou partie de la surface d'une face externe du substrat, – ablation localisée et/ou gravure de la couche externe, – traitement de surface de la couche externe.

[0015] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, l'étape d'ablation localisée de la couche externe est réalisée de sorte à : – conserver une partie de la couche externe sur une première portion de la face externe du substrat, – former au moins une poche débouchant sur une seconde portion de la face externe du substrat, ladite seconde portion s'étendant au moins en regard de la seconde portion de la face interne du substrat, et – structurer ladite seconde portion de la face externe dudit substrat.

[0016] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, l'étape de gravure de la couche externe est réalisée de sorte qu'une partie de la couche externe est éliminée afin de conformer ladite couche externe selon une forme prédéfinie, sans que la face externe du substrat ne soit impactée.

[0017] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, l'étape de gravure de la couche externe est avantageusement réalisée de sorte que la couche interne soit visible à travers le substrat.

[0018] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, une étape de polissage dans laquelle la face externe du substrat est polie, est réalisée avant les étapes de dépôt des couches externe et interne.

[0019] Selon un autre aspect, la présente invention concerne un cadran de montre formé par la mise en oeuvre du procédé tel que précédemment décrit.

[0020] Selon encore un autre aspect, la présente invention concerne un article de mode comportant un composant d'habillage formé par la mise en oeuvre du procédé tel que précédemment décrit.

Brève description des figures

[0021] D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront à la lecture de la description détaillée suivante donnée à titre d'exemple nullement limitatif, en référence aux dessins annexés dans lesquels : – la figure 1 représente schématiquement en vue en coupe, un composant d'habillage en cours de réalisation par la mise en oeuvre d'une étape d'un procédé de fabrication selon l'invention, – les figures 2 à 5 représentent schématiquement en vue en coupe, un composant d'habillage obtenu par la mise en oeuvre du procédé de fabrication selon l'invention dans différents exemples de mise en oeuvre.

[0022] On note que les figures ne sont pas à l'échelle.

Description détaillée de l'invention

[0023] La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un composant d'habillage 10 tel que représenté sur les figures 2 à 5 dans différents exemples de mise en oeuvre dudit procédé.

[0024] L'invention peut avantageusement constituer un composant d'habillage d'une montre, tel qu'un cadran, un composant d'habillage d'un article de mode, ou d'un article de bijouterie ou de joaillerie.

[0025] Les termes „articles de mode“ définissent dans le présent texte tout article ou accessoire d'habillement, tels qu'une ceinture, une chaussure, un vêtement, etc., et comprend en outre les articles de lunetterie, les articles de téléphonie, tels que les coques de téléphones, ou tout objet décoratif.

[0026] Le procédé de fabrication comprend une première étape de dépôt d'une couche mince, dite „couche interne“ 12, sur tout ou partie de la surface d'une face interne 110 d'un substrat 11 réalisé dans un matériau transparent, tel que représenté sur la figure 1. Il y a lieu de noter que le terme „transparent“ désigne dans le présent texte une capacité d'un matériau à laisser passer tout ou partie d'un rayonnement lumineux, notamment de la lumière visible à l'oeil nu. Un tel matériau transparent peut être du saphir, du verre, etc.

[0027] La face interne 110 du substrat 11 est opposée à une face externe 111 depuis laquelle un utilisateur est destiné à voir un décor du composant d'habillage 10, à travers ledit substrat 11. Plus particulièrement, la face externe 111 est destinée à être orientée vers un environnement extérieur et la face interne 110 est destinée à être orientée vers un environnement intérieur, par exemple en regard d'un mouvement horloger, dans le cas dans lequel le composant d'habillage 10 est un composant d'une montre.

[0028] Un tel dépôt peut être réalisé par méthode de dépôt physique par phase vapeur, de dépôt chimique par phase vapeur, ou par toute autre méthode appropriée. A titre d'exemple, la couche interne 12 peut être réalisée en matériau métallique, notamment en Cr, Au, Ti, Zr, ou en matériau diélectrique, seuls ou en alliage.

[0029] Préférentiellement, la face interne 110 est polie lors d'une étape préliminaire de polissage, préalablement au dépôt de la couche interne 12.

[0030] Le procédé comporte par la suite une étape d'ablation localisée de la couche interne 12, de sorte à former une ou des poches 14 débouchant sur la face interne 110 du substrat 11, et dans le même temps, à structurer ladite face interne 110 au niveau de la ou de chacune des poches 14 afin de réaliser une structuration 112, tel que représenté par la figure 2.

[0031] Naturellement, le procédé peut comporter plusieurs étapes d'ablation localisée, de sorte à réaliser plusieurs structurations 112. En particulier, les étapes d'ablation peuvent être réalisées avec des paramètres différents de sorte à réaliser des structurations 112 d'aspect différents. Toutefois, dans la présente description de l'invention, il est fait référence ci-dessous à une seule structuration 112 pour faciliter la lecture du texte. La notion de „structuration“ définit ici une surface dont l'état, c'est-à-dire la topographie, a été modifié et celle-ci peut consister en un satinage, une texturation, une gravure, etc.

[0032] Il y a lieu de noter que les paramètres utilisés pour la mise en oeuvre de la ou des étapes d'ablation sont déterminés suivant l'aspect désiré de la ou des structurations 112, leur détermination étant à la portée de l'homme du métier.

[0033] A l'issue de l'étape d'ablation localisée, la partie de la couche interne 12 non impactée par l'ablation repose contre une première portion de la face interne 110 du substrat 11 et les poches 14 débouchent sur une seconde portion de la face interne 110 du substrat 11, ladite seconde portion de la face interne 110 étant structurée. Ainsi, structuration 112 coïncide parfaitement avec la poche 14 avec laquelle elle est générée. Le respect des tolérances d'alignement de la couche interne 12 avec la structuration 112 de la face interne 110 est donc garanti.

[0034] L'ablation locale de la couche interne 12, et par voie de conséquence, la structuration 112 de la seconde portion de la face interne 110, est préférentiellement réalisée par faisceau laser. Alternativement, l'étape d'ablation locale peut être réalisée par usinage mécanique, tel que par gravure robotisée avec une pointe diamant, par usinage chimique, etc.

[0035] Une étape de traitement de surface de la couche interne 12 et de la face interne 110 du substrat 11, notamment de la seconde portion de ladite face interne 110, est par la suite réalisé. Un tel traitement peut consister au dépôt d'une couche de revêtement antireflet ou d'un revêtement constitué par une couche de matériau métallique, organique, céramique, semi-conducteur, d'oxyde, de carbure, de nitrure, de laque ou d'email.

[0036] Avantageusement, dans un exemple de mise en oeuvre, le procédé selon l'invention peut comporter, avant la réalisation de l'étape de traitement de surface de la couche interne 12 et de la face interne 110 du substrat 11, une étape de gravure de la couche interne 12 dans laquelle une partie de la couche interne 12 est éliminée de sorte à conformer ladite couche selon une forme prédéfinie, sans que la face interne 110 du substrat 11 ne soit impacté, tel que le représente la figure 3.

[0037] Une telle étape de gravure peut être mise en oeuvre par photolithographie, usinage laser, etc.

[0038] Avantageusement, le procédé peut comporter une étape de gravure du substrat 11 réalisée de sorte à générer un motif à l'intérieur de l'épaisseur dudit substrat 11, sans impacter la face interne 110, ni une face externe 111 dudit substrat 11 opposée à la face interne 110. Cette caractéristique permet d'enrichir le décor généré par la mise en oeuvre du procédé selon l'invention.

[0039] Dans un exemple de mise en oeuvre, le procédé selon l'invention peut comporter une étape de dépôt d'une couche mince, dite „couche externe“ 13, sur tout ou partie de la surface d'une face externe 110 du substrat 11, suivie d'une étape d'ablation localisée de la couche externe 13, tel que représenté sur la figure 4.

[0040] L'ablation est réalisée de sorte qu'une partie de la couche externe 13 est conservée sur une première portion de la face externe 111 du substrat 11, et de sorte à former au moins une poche 15 débouchant sur une seconde portion de la face externe 110 du substrat 11 et à structurer, dans le même temps, ladite seconde portion de la face externe 110. Afin de générer un décor attractif, la seconde portion de la face externe 111 s'étend au moins en regard de la seconde portion de la face interne 110 du substrat 11. Ainsi, la couche interne 12 et la structuration 112 sont visibles à travers la poche 15.

[0041] En addition ou alternativement à l'étape d'ablation localisée de la couche externe 13, le procédé peut comprendre une étape de gravure de la couche externe 13, de manière analogue à l'étape de gravure de la couche interne 12. Une telle étape de gravure est représentée sur la figure 5, en combinaison avec l'étape d'ablation localisée de la couche externe 13. L'étape de gravure de la couche externe 13 est avantageusement réalisée de sorte qu'une partie de la couche externe 13 est éliminée afin de conformer ladite couche selon une forme prédéfinie, sans que la face externe 111 du substrat 11 ne soit impactée. Une telle étape de gravure peut être mise en oeuvre par photolithographie, usinage laser, etc.

[0042] Le résultat de l'étape de gravure de la couche externe 13 est représenté sur la figure 5, sur laquelle est également visible la couche interne 12 conformée sous une forme prédéfinie à l'issue de l'étape de gravure de la couche interne 12, telle que décrite plus haut dans le texte.

[0043] Autrement dit, les couches interne 12 et externe 13 peuvent être l'une et l'autre éliminées localement de sorte à générer des décors spécifiques. En particulier, l'étape de gravure de la couche externe 13 est avantageusement réalisée de sorte que la couche interne 12 soit visible à travers le substrat 11. En d'autres termes, l'étape de gravure de la couche externe 13 est réalisée de sorte qu'une projection de la couche interne 12 sur la surface externe 111 du substrat 11 s'étende au-delà de la couche externe 13, comme le montre la figure 5.

[0044] La couche externe 13 et la face externe 111 du substrat 11, notamment la seconde portion de ladite face externe 111, de peuvent par la suite être soumis à un traitement de surface, par exemple tel que décrit précédemment pour la couche interne 12 et la seconde portion de la face interne 110 du substrat 11.

[0045] Avantageusement, la face externe 111 du substrat peut être polie lors d'une étape de polissage réalisée avant l'étape de dépôt de la couche externe 13 et avant l'étape de dépôt de la couche interne 12, afin d'éviter de détériorer lesdites couches.

[0046] On note que, grâce aux caractéristiques de l'invention, l'aspect visuel du décor du composant d'habillage 10 peut être particulièrement riche et attractif dans la mesure où au contraste entre la possible différence de couleurs de la couche interne 12 et de la couche externe 13, s'ajoute le contraste entre les différents états de surface des portions de la face interne 110 et de la face externe 111 du substrat 11, sur lesquelles lesdites couches sont respectivement déposées. Par ailleurs, le procédé selon l'invention permet de générer un effet visuel de profondeur entre les couches interne 12 et externe 13.

[0047] De manière plus générale, il est à noter que les modes de mise en oeuvre et de réalisation considérés ci-dessus ont été décrits à titre d'exemples non limitatifs, et que d'autres variantes sont par conséquent envisageables.

[0048] Notamment, la couche interne 12 et/ou la couche externe 13 peuvent être constituées par un empilement de couches minces, de façon connue en soi par l'homme du métier.

Claims (12)

1. Procédé de fabrication d'un composant d'habillage (10) d'une montre, d'un article de mode ou d'un article de bijouterie ou de joaillerie, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes : – dépôt d'une couche interne (12) sur tout ou partie de la surface d'une face interne (110) d'un substrat (11) réalisé dans un matériau transparent, – ablation localisée de la couche interne (12), de sorte à conserver une partie de ladite couche interne (12) sur une première portion de la face interne (110) du substrat (11), ladite ablation étant réalisée de sorte à former au moins une poche (14) débouchant sur une seconde portion de la face interne (110) du substrat (11) et de sorte à structurer ladite seconde portion de la face interne (110) du substrat (11), – traitement de surface de la couche interne (12) et de la seconde portion de la face interne (110) du substrat (11).

2. Procédé selon la revendication 1, dans lequel lors d'une étape de polissage réalisée avant l'étape de dépôt de la couche interne (12), la face interne (110) du substrat est polie.

3. Procédé selon l'une des revendications 1 ou 2, comprenant, avant la réalisation de l'étape de traitement de surface de la couche interne (12) et de la seconde portion de la face interne (110) du substrat (11), une étape de gravure de la couche interne (12) dans laquelle une partie de la couche interne (12) est éliminée de sorte à conformer ladite couche selon une forme prédéfinie, sans que la face interne (110) du substrat (11) ne soit impactée.

4. Procédé de fabrication selon l'une des revendications 1 à 3, dans lequel l'étape d'ablation localisée de la couche interne (12) est réalisée par faisceau laser.

5. Procédé de fabrication selon l'une des revendications 1 à 4, comprenant une étape de gravure du substrat (11) réalisée de sorte à générer un motif à l'intérieur de l'épaisseur dudit substrat (11), sans impacter la face interne (110), ni une face externe (111) dudit substrat (11) opposée à la face interne (110).

6. Procédé de fabrication selon l'une des revendications 1 à 5, comprenant les étapes suivantes : – dépôt d'une couche externe (13) sur tout ou partie de la surface d'une face externe (111) du substrat (11), – ablation localisée et/ou gravure de la couche externe (13), – traitement de surface de la couche externe (13).

7. Procédé de fabrication selon la revendication 6, dans lequel l'étape d'ablation localisée de la couche externe (13) est réalisée de sorte à : – conserver une partie de la couche externe (13) sur une première portion de la face externe (111) du substrat (11), – former au moins une poche (15) débouchant sur une seconde portion de la face externe (111) du substrat (11), ladite seconde portion s'étendant au moins en regard de la seconde portion de la face interne (110) du substrat (11), et – structurer ladite seconde portion de la face externe (110) dudit substrat (11).

8. Procédé selon la revendication 6 ou 7, dans lequel l'étape de gravure de la couche externe (13) est réalisée de sorte qu'une partie de la couche externe (13) est éliminée afin de conformer ladite couche externe (13) selon une forme prédéfinie, sans que la face externe (111) du substrat (11) ne soit impactée.

9. Procédé selon la revendication 8, dans lequel l'étape de gravure de la couche externe (13) est avantageusement réalisée de sorte que la couche interne (12) soit visible à travers le substrat (11).

10. Procédé selon l'une des revendications 6 à 9, dans lequel, une étape de polissage dans laquelle la face externe (111) du substrat est polie, est réalisée avant les étapes de dépôt des couches externe (13) et interne (12).

11. Cadran de montre caractérisé en ce qu'il est formé par la mise en oeuvre du procédé selon l'une des revendications 1 à 10.

12. Article de mode caractérisé en ce qu'il comporte un composant d'habillage formé par la mise en oeuvre du procédé selon l'une des revendications 1 à 10.