CH519736A - Verfahren zur Herstellung photolithographischer Druckplatten durch Tiefätzen - Google Patents

Verfahren zur Herstellung photolithographischer Druckplatten durch Tiefätzen

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CH519736A
CH519736A CH1920868A CH1920868A CH519736A CH 519736 A CH519736 A CH 519736A CH 1920868 A CH1920868 A CH 1920868A CH 1920868 A CH1920868 A CH 1920868A CH 519736 A CH519736 A CH 519736A
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CH1920868A
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Seth Burnett Leo
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer

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DE102004004865B4 (de) * 2004-01-30 2008-01-10 Qimonda Ag Antireflexschicht, die mit einem Photoresist beschichtet ist, enthaltend Polymere auf der Basis von Zimtsäure für die 157 nm Photolithographie

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