CH427754A - Method for growing a single crystal of garnet - Google Patents

Method for growing a single crystal of garnet

Info

Publication number
CH427754A
CH427754A CH689965A CH689965A CH427754A CH 427754 A CH427754 A CH 427754A CH 689965 A CH689965 A CH 689965A CH 689965 A CH689965 A CH 689965A CH 427754 A CH427754 A CH 427754A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
crystal
melt
yttrium
dopant
neodymium
Prior art date
Application number
CH689965A
Other languages
French (fr)
Inventor
Rudolf Charvat Fedia
Glen Rudness Robert
Mack Youmans Robert
Original Assignee
Union Carbide Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Union Carbide Corp filed Critical Union Carbide Corp
Priority claimed from NL6609943A external-priority patent/NL6609943A/xx
Publication of CH427754A publication Critical patent/CH427754A/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16Oxides
    • C30B29/22Complex oxides
    • C30B29/24Complex oxides with formula AMeO3, wherein A is a rare earth metal and Me is Fe, Ga, Sc, Cr, Co or Al, e.g. ortho ferrites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16Oxides
    • C30B29/22Complex oxides
    • C30B29/26Complex oxides with formula BMe2O4, wherein B is Mg, Ni, Co, Al, Zn, or Cd and Me is Fe, Ga, Sc, Cr, Co, or Al
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16Oxides
    • C30B29/22Complex oxides
    • C30B29/28Complex oxides with formula A3Me5O12 wherein A is a rare earth metal and Me is Fe, Ga, Sc, Cr, Co or Al, e.g. garnets
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • H01S3/1601Solid materials characterised by an active (lasing) ion
    • H01S3/1603Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
    • H01S3/1611Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth neodymium
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • H01S3/163Solid materials characterised by a crystal matrix
    • H01S3/164Solid materials characterised by a crystal matrix garnet
    • H01S3/1643YAG

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

  

  Procédé pour     faire        croître    un     monocristal    de     grenat       La présente invention a pour objet un procédé pour  faire croître un monocristal de grenat.  



  Des grenats     monocristallins    contenant des terres  rares ont déjà été obtenus par les techniques de fusion  nement dans une     flamme    et par des procédés de fusion à  l'aide de fondants, dans lesquels procédés les cristaux  sont formés dans la masse fondue. Les matières produi  tes par     fusionnement    dans une flamme sont souvent  affectées de fortes tensions internes, tandis que les  cristaux produits par les procédés de fusion à l'aide de  fondants sont généralement petits et contiennent des  impuretés empruntées aux fondants. Ces impuretés et  ces défauts nuisent aux propriétés de transmission de  la     lumière    des cristaux et empêchent leur emploi comme  laser.  



  L'invention vise la production de monocristaux  appartenant à la classe des grenats, qui soient suffisam  ment purs et exempts de défauts internes pour pouvoir  être     utilisés    comme lasers et pour d'autres applications,  ainsi que comme pierres précieuses.  



  L'invention a donc pour objet un procédé pour  faire croître un monocristal de grenat à l'yttrium et à  l'aluminium dopé, caractérisé en ce qu'on obtient une  masse de matière fondue composée d'oxydes     d'yttrium     et     d'aluminium    et d'oxydes de praséodyme et/ou de  néodyme, en ce qu'on porte la matière fondue à une  température de formation de cristal, en ce qu'on intro  duit un     cristal-semence    dans la     matière    fondue à une  vitesse non supérieure à 1,27     mm/heure,    faisant ainsi  croître un monocristal uniformément dopé.  



  On retire le     cristal-semence    de la masse en fusion  à une vitesse inférieure à la vitesse maximum admissi  ble de     croissance        cristalline    pour empêcher l'incorpora  tion au cristal de quantités excessives d'éléments dopants  avec formation de phases secondaires, en permettant  la     diffusion    dans la masse en fusion d'ions dopants qui,  normalement, s'accumulent dans la couche stagnante    de matière fondue, entre la surface de croissance du  cristal qu'on retire et la masse de matière fondue. On  fait     ainsi        croître    un     cristal    à une seule phase, dopé  uniformément.  



  On sait qu'on peut produire des     monocristaux    mas  sifs de certaines matières en tirant un cristal unique d'un  mélange en fusion des matières constitutives du cristal.  En général, la vitesse à laquelle on tire le cristal est  déterminée par la vitesse     maximum        admissible    à laquelle  la croissance cristalline se produit, cette vitesse maximum  étant elle-même déterminée par la transmission de cha  leur à     partir    de l'interface de croissance.

   On a cepen  dant constaté que lorsqu'il s'agit de préparer des     mono-          cristaux    dopés de grenat à     l'yttrium-alumïnium,    il faut  adopter une vitesse de croissance très inférieure à la  vitesse de croissance     admissible    du cristal pour éviter  l'apparition de phases secondaires dans le cristal produit.  



  Dans le procédé de croissance     cristalline    faisant  intervenir un mouvement relatif entre le cristal solide  et la masse en fusion, par exemple lorsqu'on fait tourner  le cristal ou lorsqu'on     agite    la masse au moyen de cou  rants de convection, il existe une couche stagnante de  matière fondue, souvent appelée la couche de     diffusion,     adjacente à la surface du cristal solide.

   Tandis que la  matière présente dans la masse fondue est déplacée  par les courants de convection, la diffusion atomique est  le seul moyen par lequel des ions peuvent être transpor  tés à travers la couche de     diffusion,    vers la surface de  croissance ou dans une direction les éloignant de cette       surface.    Pendant la     croissance    du cristal, la     matière     première présente dans la couche de diffusion se solidi  fie et est remplacée par de la matière provenant de la       masse    fondue et de l'ensemble du mélange. Il est rare  que la composition du cristal solide, en ce qui     concerne     les ions dopants, soit identique à la composition de la  masse fondue.

   Le coefficient de distribution est le rap  port de la concentration du     dopant    dans le cristal à      la concentration du dopant dans la masse fondue qui  est en     équilibre    avec le     cristal.    Si le     coefficient    de dis  tribution est supérieur à l'unité, c'est-à-dire si la con  centration du dopant est plus     grande    dans le solide que  dans le     liquide,    la couche stagnante, de     diffusion,    s'ap  pauvrit progressivement en dopant.

   Par contre, si le       coefficient    de distribution est     inférieur    à l'unité,     c'est-          à-dire    si la concentration du dopant est plus     grande    dans  le liquide que dans le solide, la concentration du dopant  dans la couche de diffusion augmente par rapport à sa       concentration    dans la masse fondue.  



  Si l'augmentation de la concentration du dopant     dans     la couche de     diffusion    provoque un     déplacement    de la  composition jusque dans un autre domaine de phases,  d'autres phases peuvent précipiter dans le cristal en  croissance. Ces phases secondaires sont causes de ré  fraction et de réflexion des ondes lumineuses     transmises     dans le cristal, et     affectent    donc les propriétés optiques  du cristal. Ceci peut empêcher     l'utilisation    satisfaisante  du cristal comme laser, en raison du seuil élevé     néces-          saire    au fonctionnement du     cristal    comme laser.

   En ou  tre, une précipitation excessive des     additifs    dopants peut       rendre    le cristal trouble ou opaque et     dépourvu    des       qualités    d'une pierre précieuse.  



  Un moyen de résoudre le problème d'une concentra  tion excessive de dopant dans la couche de     diffusion    est  de réduire la concentration globale du dopant dans la  masse fondue. Cependant, si l'on     utilise        insuffisamment     d'additifs dopants dans la masse fondue et que peu  d'ions dopants sont incorporés au cristal, il peut ne pas  y avoir assez d'ions actifs incorporés .à la structure du  grenat pour lui conférer     les    propriétés optima en vue de  son emploi comme laser ou comme pierre précieuse.

    Le procédé selon l'invention     permet        l'utilisation    d'une  quantité de matière dopante, dans la masse fondue,  suffisante pour produire un     cristal    fortement dopé, sans  risque de formation de phases secondaires dans le cris  tal.  



  On a constaté qu'un grenat à     l'yttrium-aluminium          (GYA)    dopé avec des quantités     variables,    pouvant     at-          teindre        50        %        atomique        (le        pourcentage        atomique        de     dopant .est égal au     pourcentage    moléculaire de l'ion  dopant divisé par la somme du pourcentage moléculaire  de l'ion dopant et de l'ion yttrium dans le cas du     GYA)

            d'ions.    de métaux     rares,    est une matière exceptionnelle  ment prometteuse     comme    laser. Le     GYA    fond de maniè  re     congruente,    .et on peut le faire croître à     partir    de la  masse fondue à des vitesses de croissance pou vaut  atteindre 12,7 mm/heure.

   Par contre, dans le cas       de        la        croissance        d'un        cristal        dopé        avec        1,5%        atomique     de néodyme, les vitesses de croissance qui conviennent  aux cristaux purs conduisent à la     formation    d'inclu  sions d'une seconde phase dans le cristal dopé. Un tel  produit n'est pas utilisable comme laser ou     comme    pier  re précieuse.

   Même si la concentration du néodyme est       abaissée        au        niveau        de        0,06        %        atomique,        les        quantités     de seconde phase produite entravent l'emploi satisfai  sant du     cristal    comme laser. Les plus grandes quantités  de dopant augmentent le degré, de formation de la  seconde phase.  



  Le coefficient de distribution apparent du néodyme  dans le     GYA    est d'environ 0,25. Ainsi,     comme        expli-          qué    ci-dessus, la concentration du néodyme dans la cou  che de     diffusion    augmente rapidement dès le début de  la croissance. Dans le procédé selon     l'invention,    on évite  l'enrichissement de la couche de     diffusion    en néodyme  en réduisant la vitesse à laquelle on retire le cristal.

      Il en résulte un     ralentissement    de la     solidification     de la matière provenant de la couche de diffusion, et  par conséquent de l'afflux de nouvelle matière contenant  du néodyme en provenance de la masse fondue. Un  temps suffisant est     ainsi    ménagé pour que le néodyme  en excès puisse diffuser de la couche de     diffusion    à la  masse fondue.  



  On a observé que la vitesse d'extraction du cristal  de la masse fondue, requise pour la production d'un  cristal de     GYA    dopé à phase unique, dépend du rapport  entre le rayon ionique du dopant     métal    rare et le rayon  de l'ion yttrium remplacé par le dopant,     ainsi    que de  la concentration du dopant.

   Pour le néodyme et le       praséodyme    à     un        taux        de        1,5        %        atomique        de        dopant     dans le cristal, nécessitant environ 4 fois cette propor  tion d'ions dopants dans la masse fondue, la vitesse  maximum de tirage pour la production d'un cristal  presque complètement à une seule phase est de 1,27  mm/heure, alors que la vitesse     maximum    de croissance       ,est    de 0,

  635 mm/heure pour une concentration de       dopant        de    3     %        atomique.     



  Conformément à l'invention, on place des matières  de     départ    consistant en oxyde     d'yttrium,    alumine et les  oxydes de la matière additive, dans un récipient ou  creuset réfractaire convenant pour la     fusion.    Ce récipient  ou creuset doit être     construit    en une matière réfractaire  dont le point de     fusion    est supérieur aux températures  de travail utilisées, d'environ 20500 C. Le creuset doit  également être inerte vis-à-vis de la matière fondue.  L'iridium s'est montré     acceptable    comme matière pour  le creuset.  



  Comme source de chaleur pour la     fusion    des matiè  res constitutives du     cristal,    on peut mentionner le chauf  fage électrique par induction ou par résistance, les flam  mes, les arcs électriques et les courants de gaz     chauffés     par un arc     électrique.    Dans la technique de     chauffage     par induction, le creuset sert de     suscepteur    placé dans  un champ électrique alternatif à haute fréquence.

   Des  courants sont induits dans le creuset, et ces courants       chauffent    le creuset à une haute température, en sorte  que l'oxyde d'yttrium,     l'alumine    et la matière additive  qu'il contient sont     chauffés    par conduction. Le     chauffage     par induction peut se faire à la pression atmosphéri  que ou à des pressions supérieures ou inférieures à la  pression atmosphérique. Le creuset peut également être  chauffé par application directe d'une tension électrique,  faisant passer un courant à travers la résistance consti  tuée par le     creuset.    Une flamme, par exemple une flam  me de combustion     oxygène-hydrogène,    peut aussi être  dirigée contre le creuset.

   On peut encore faire éclater       un,        arc        électrique        contre    le creuset :et chauffer le creuset  par résistance. Une autre technique consiste à     utiliser     un courant de gaz     chauffé    par un arc pour     chauffer    le  creuset.  



       Lorsque    la charge est fondue, les courants de con  vection qui se produisent à l'intérieur -de la masse fondue  tendent à agiter la masse et à lui donner une composition  uniforme. D'autres moyens d'agitation peuvent être uti  lisés si     nécessaire.     



  Une semence     monocristalline    ayant la composition  et l'orientation cristalline désirées -est ensuite placée au  contact de la surface de la masse fondue. Une petite  partie de la     semence    fond et un gradient de température  s'établit entre la partie     solide    de la semence et la masse  fondue. La semence est ensuite retirée lentement de la  masse fondue     comme    décrit     précédemment,    tandis que  la matière provenant de la masse fondue se     solidifie    à      la surface de contact entre la semence solide et la couche  de     diffusion    de matière fondue.

   Le gradient de tempéra  ture dans la phase solide immédiatement adjacente à  cette interface est maintenu à une valeur permettant  d'obtenir les conditions de croissance désirées. Pendant  que la semence est retirée, un corps     monocristallin     allongé se forme. Cette matière est un grenat     yttrium-          aluminium    représenté par la formule     Y3A15012    , dans  lequel les atomes du dopant choisi sont hébergés par la  matrice du grenat yttrium-aluminium. Le cristal dopé,  par exemple     Y3A15012:    Nd, est uniformément dopé  par une haute concentration d'ions néodyme,     grâce    aux  faibles vitesses de tirage du cristal prescrites par l'inven  tion.  



  Il est préférable de faire tourner le     cristal-semence     pendant qu'on le tire. La vitesse de rotation est généra  lement de 60 tours/minutes.  



  Le dessin     annexé    représente, en coupe verticale, un  appareil pour un mode particulier de mise en     #uvre     du procédé selon l'invention.  



  On voit un creuset 10 supporté par un socle 12.  Un enroulement de chauffage par induction 14 entoure  le creuset et le chauffe. La matière fondue 16 contenue  par le creuset est chauffée par conduction à partir des  parois du creuset. Comme représenté, des courants de  convection assurent une circulation de la matière fon  due. Dans ce cas, cette dernière peut comprendre un  mélange des oxydes     d'yttrium,    d'aluminium et de néo  dyme. Un corps cristallin 18, que l'on fait tourner au  tour de son axe longitudinal, est tiré vers le haut à par  tir de la masse fondue 16. La surface de croissance  20 est montrée conique pour faciliter la représentation.

    Par suite du mouvement relatif entre la masse fondue,  agitée par les courants de convection, et le corps cris  tallin rotatif, retiré continuellement, une couche sta  gnante 22 de matière fondue se forme entre la surface  de croissance du cristal et la masse fondue proprement  dite. Dans cette couche de     ,diffusion    stagnante, le     trans-          port    des, ions     dui    dopant se fait par diffusion plutôt que  par des courants de convection.

   Grâce aux faibles vites  ses de croissance adoptées dans. ce procédé, les ions de  dopant non utilisés disposent de suffisamment de temps  pour retourner par     -diffusion    dans la masse fondue pro  prement dite, ce qui empêche une accumulation des  ions de dopant dans la couche de diffusion et assure la  production d'un cristal à une seule phase.

      <I>Exemple 1</I>    On a fait croître un     cristal    de grenat     yttrium-alumi-          nium    dopé au néodyme de la manière suivante: on  a chargé le creuset d'iridium de 32,51 g de poudre  de     Y203,    de 25,47 g de     A1203    (saphir pilé) et de 2,02  g de poudre de N & 03 , ce qui représente 1,5 % ato  mique de     Nd3+        dans    le cristal produit. On a utilisé un       GYA    pur comme semence pour l'amorçage de la crois  sance du cristal.

   La température de la masse fondue a  été maintenue entre 2035 et 20500 C, et on a fait croî  tre un     cristal    à la vitesse de     1,27mm/heure.    On a fait       tourner    la semence à 60     tours    par minute. Cette  croissance a formé un cristal de 38 mm de longueur  et d'environ 9,5 mm de largeur dans son plus grand  diamètre. Ce cristal s'est montré entièrement exempt  d'inclusions d'une seconde phase et de couleur légè  rement bleutée.  



  A partir de ce corps cristallin, on a     préparé    une  tige de laser de 3 mm de diamètre et de 30 mm de    longueur avec des extrémités sphériques revêtues d'un  diélectrique à plusieurs couches. On a fait un dispositif  à laser à quatre niveaux et on a fait pulser la tige de  laser à la température ordinaire au moyen d'une lampe  à arc de mercure à un seuil     @de,   <B>1,96</B> joule. On a égale  ment fait travailler le même cristal comme laser conti  nuellement à la température ordinaire en utilisant une  lampe à filament de tungstène fonctionnant à 350 Watts.  



  Lorsqu'on a tenté de faire croître -des cristaux de  ce type à de plus grandes vitesses de croissance, on a  constaté la     présence    d'inclusions d'une seconde phase  dans les cristaux, les rendant inutilisables comme lasers.    <I>Exemple 2</I>    On a fait     croître    un cristal de grenat     yttrium-alumi-          nium    dopé au praséodyme de la manière suivante: on  a     introduit    dans le creuset d'iridium 32,529 g de pou  dre de Y20.,, 25,492 g de     A1303        (saphir    pilé) et 2,044  g de poudre -de     Pr3011    (1,5 mole pour cent de       Pre011    dans la masse fondue).

   On a     utilisé    un     GYA     pur comme semence pour l'amorçage de la     croissance          cristalline.    La température de la masse fondue a été  maintenue à environ 2030  C et on a fait croître un  cristal à la vitesse de 1,27 mm/heure. On a fait  tourner la semence à 60 tours/minute. Cette croissance  a formé un cristal d'environ 38 mm de longueur, ayant  une structure à phase unique et une couleur jaune pâle.



  Method for Growing a Garnet Single Crystal The present invention relates to a method for growing a garnet single crystal.



  Monocrystalline garnets containing rare earths have already been obtained by flame melting techniques and by melting processes using fluxes, in which processes crystals are formed in the melt. Materials produced by fusion in a flame are often affected by high internal stresses, while crystals produced by melting processes using fluxes are generally small and contain impurities borrowed from the fluxes. These impurities and defects adversely affect the light transmitting properties of crystals and prevent their use as a laser.



  The invention aims at the production of single crystals belonging to the class of garnets, which are sufficiently pure and free from internal defects to be able to be used as lasers and for other applications, as well as as precious stones.



  The subject of the invention is therefore a process for growing a single crystal of garnet with yttrium and doped aluminum, characterized in that a mass of molten material composed of oxides of yttrium and aluminum is obtained. and praseodymium and / or neodymium oxides, in that the molten material is brought to a crystal-forming temperature, in that a seed crystal is introduced into the molten material at a rate not greater than 1.27 mm / hour, thereby growing a uniformly doped single crystal.



  The seed crystal is removed from the molten mass at a rate less than the maximum allowable rate of crystal growth to prevent the incorporation into the crystal of excessive amounts of doping elements with formation of secondary phases, allowing diffusion into the crystal. the molten mass of doping ions which normally accumulate in the stagnant layer of molten material between the growing surface of the crystal being removed and the mass of molten material. A uniformly doped single phase crystal is thus grown.



  It is known that solid single crystals of certain materials can be produced by obtaining a single crystal from a molten mixture of the constituent materials of the crystal. In general, the rate at which the crystal is pulled is determined by the maximum allowable rate at which crystal growth occurs, this maximum rate itself being determined by the transmission of heat from the growth interface.

   However, it has been observed that when it comes to preparing monocrystals doped with garnet with yttrium-alumïnium, it is necessary to adopt a growth rate much lower than the admissible growth rate of the crystal in order to avoid the appearance. secondary phases in the crystal produced.



  In the crystal growth process involving relative movement between the solid crystal and the molten mass, for example when the crystal is rotated or when the mass is stirred by means of convection currents, there is a stagnant layer. of molten material, often called the diffusion layer, adjacent to the surface of the solid crystal.

   While the material in the melt is displaced by convection currents, atomic diffusion is the only means by which ions can be transported through the diffusion layer, to the growth surface or in a direction away from them. of this surface. As the crystal grows, the raw material in the diffusion layer solidifies and is replaced by material from the melt and the whole mixture. It is rare that the composition of the solid crystal, with regard to doping ions, is identical to the composition of the melt.

   The distribution coefficient is the ratio of the concentration of the dopant in the crystal to the concentration of the dopant in the melt which is in equilibrium with the crystal. If the distribution coefficient is greater than unity, that is to say if the concentration of the dopant is greater in the solid than in the liquid, the stagnant diffusion layer gradually becomes poorer in doping.

   On the other hand, if the distribution coefficient is less than unity, i.e. if the concentration of the dopant is greater in the liquid than in the solid, the concentration of the dopant in the diffusion layer increases relative to to its concentration in the melt.



  If increasing the dopant concentration in the diffusion layer causes the composition to move into another phase domain, other phases may precipitate in the growing crystal. These secondary phases are causes of refraction and reflection of light waves transmitted in the crystal, and therefore affect the optical properties of the crystal. This may prevent the satisfactory use of the crystal as a laser, due to the high threshold required for the crystal to function as a laser.

   In addition, excessive precipitation of the doping additives can make the crystal cloudy or opaque and lacking the qualities of a precious stone.



  One way to solve the problem of excessive dopant concentration in the diffusion layer is to reduce the overall concentration of dopant in the melt. However, if insufficient doping additives are used in the melt and few dopant ions are incorporated into the crystal, there may not be enough active ions incorporated into the structure of the garnet to provide it with the same properties. optimum properties for use as a laser or as a precious stone.

    The method according to the invention allows the use of a quantity of doping material, in the melt, sufficient to produce a highly doped crystal, without risk of formation of secondary phases in the crystalline.



  It has been found that a yttrium-aluminum garnet (GYA) doped with varying amounts, up to 50 atomic% (the atomic percentage of dopant is equal to the molecular percentage of the dopant ion divided by the sum of the molecular percentage of the dopant ion and of the yttrium ion in the case of GYA)

            of ions. rare metals, is an exceptionally promising material as a laser. GYA congruent melts, and can be grown from the melt at growth rates up to 12.7 mm / hour.

   On the other hand, in the case of the growth of a crystal doped with 1.5 atomic% of neodymium, the growth rates which are suitable for pure crystals lead to the formation of inclusions of a second phase in the doped crystal. Such a product cannot be used as a laser or as a precious stone.

   Even if the neodymium concentration is lowered to the level of 0.06 atomic%, the quantities of second phase produced hamper the satisfactory use of the crystal as a laser. The greater amounts of dopant increase the degree of formation of the second phase.



  The apparent distribution coefficient of neodymium in GYA is approximately 0.25. Thus, as explained above, the concentration of neodymium in the diffusion layer increases rapidly from the start of growth. In the process according to the invention, enrichment of the neodymium diffusion layer is avoided by reducing the speed at which the crystal is removed.

      This results in slowing down the solidification of material from the diffusion layer, and hence the inflow of new neodymium-containing material from the melt. Sufficient time is thus provided for the excess neodymium to diffuse from the diffusion layer to the melt.



  It has been observed that the rate of crystal extraction from the melt, required for the production of a single phase doped GYA crystal, depends on the ratio of the ionic radius of the rare metal dopant to the radius of the yttrium ion. replaced by the dopant, as well as the concentration of the dopant.

   For neodymium and praseodymium at a rate of 1.5 atomic% dopant in the crystal, requiring about 4 times this proportion of dopant ions in the melt, the maximum draw speed for producing a crystal is almost completely single phase is 1.27 mm / hour, while the maximum growth rate is 0,

  635 mm / hour for a dopant concentration of 3 atomic%.



  In accordance with the invention, starting materials consisting of yttrium oxide, alumina and the oxides of the additive material are placed in a refractory vessel or crucible suitable for melting. This vessel or crucible must be constructed of a refractory material whose melting point is higher than the working temperatures used, of about 20,500 C. The crucible must also be inert to the molten material. Iridium has been shown to be acceptable as a crucible material.



  As a source of heat for the melting of the constituent materials of the crystal, there may be mentioned electric heating by induction or by resistance, flames, electric arcs and gas currents heated by an electric arc. In the technique of induction heating, the crucible serves as a susceptor placed in a high-frequency alternating electric field.

   Currents are induced in the crucible, and these currents heat the crucible to a high temperature, so that the yttrium oxide, alumina and additive material therein are heated by conduction. Induction heating can be done at atmospheric pressure or at pressures above or below atmospheric pressure. The crucible can also be heated by the direct application of an electrical voltage, causing current to flow through the resistance formed by the crucible. A flame, for example an oxygen-hydrogen combustion flame, can also be directed against the crucible.

   We can still make an electric arc burst against the crucible: and heat the crucible by resistance. Another technique is to use a stream of gas heated by an arc to heat the crucible.



       When the charge is melted, the convection currents which occur within the melt tend to agitate the mass and give it a uniform composition. Other means of agitation can be used if necessary.



  A single crystal seed having the desired composition and crystal orientation is then placed in contact with the surface of the melt. A small part of the seed melts and a temperature gradient is established between the solid part of the seed and the melt. The seed is then slowly removed from the melt as previously described, while the material from the melt solidifies at the contact surface between the solid seed and the melt diffusion layer.

   The temperature gradient in the solid phase immediately adjacent to this interface is maintained at a value to obtain the desired growth conditions. As the seed is withdrawn, an elongated single crystal body forms. This material is a yttrium-aluminum garnet represented by the formula Y3A15012, in which the atoms of the selected dopant are hosted by the matrix of the yttrium-aluminum garnet. The doped crystal, for example Y3A15012: Nd, is uniformly doped with a high concentration of neodymium ions, thanks to the low crystal pulling speeds prescribed by the invention.



  It is better to spin the seed crystal while it is being pulled. The rotation speed is generally 60 revolutions / minute.



  The appended drawing represents, in vertical section, an apparatus for a particular embodiment of the method according to the invention.



  A crucible 10 is seen supported by a pedestal 12. An induction heating coil 14 surrounds the crucible and heats it. The molten material 16 contained by the crucible is heated by conduction from the walls of the crucible. As shown, convection currents circulate the melted matter. In this case, the latter can comprise a mixture of the oxides of yttrium, aluminum and neodymium. A crystalline body 18, which is rotated around its longitudinal axis, is pulled upward by firing the melt 16. The growth surface 20 is shown conical for ease of representation.

    As a result of the relative movement between the melt, agitated by the convection currents, and the rotating crystal body, continuously withdrawn, a stagnant layer 22 of molten material forms between the growing surface of the crystal and the melt itself. . In this stagnant diffusion layer, the transport of dopant ions takes place by diffusion rather than by convection currents.

   Thanks to the low growth rates adopted in. In this process, unused dopant ions are given sufficient time to diffuse back into the actual melt, which prevents buildup of dopant ions in the diffusion layer and ensures the production of a solid crystal. only one phase.

      <I> Example 1 </I> A neodymium-doped yttrium-aluminum garnet crystal was grown as follows: the iridium crucible was charged with 32.51 g of powder of Y203, 25 , 47 g of A1203 (crushed sapphire) and 2.02 g of powder of N & 03, which represents 1.5 atomic% of Nd3 + in the crystal produced. Pure GYA was used as a seed for the initiation of crystal growth.

   The temperature of the melt was maintained between 2035 and 20500 C, and a crystal was grown at the rate of 1.27mm / hour. The seed was rotated at 60 revolutions per minute. This growth formed a crystal 38mm in length and about 9.5mm in width at its largest diameter. This crystal was shown to be entirely free from inclusions of a second phase and of a slightly bluish color.



  From this crystal body, a laser rod 3 mm in diameter and 30 mm in length was prepared with spherical ends coated with a multi-layered dielectric. A four-level laser device was made and the laser rod was pulsed at room temperature by means of a mercury arc lamp at a threshold @, <B> 1.96 </B> joule . The same crystal was also operated as a laser continuously at room temperature using a tungsten filament lamp operating at 350 Watts.



  When attempts were made to grow such crystals at higher growth rates, second phase inclusions were found in the crystals, rendering them unusable as lasers. <I> Example 2 </I> A crystal of yttrium-aluminum garnet doped with praseodymium was grown as follows: 32.529 g of Y20 powder were introduced into the iridium crucible. ,, 25.492 g of A1303 (crushed sapphire) and 2.044 g of powder of Pr3011 (1.5 mole percent of Pre011 in the melt).

   Pure GYA was used as the seed for the initiation of crystal growth. The temperature of the melt was maintained at about 2030 C and a crystal was grown at the rate of 1.27 mm / hour. The seed was rotated at 60 rpm. This growth formed a crystal approximately 38 mm in length, having a single phase structure and a pale yellow color.

 

Claims (1)

REVENDICATION I Procédé pour faire croître un monocristal de grenat yttrium-aluminium dopé, caractérisé en ce qu'on établit une masse fondue composée d'oxydes d'yttrium et d'alu minium, et d'oxydes de praséodyme et/ou de néodyme, en ce qu'on porte la matière fondue à une température de formation de cristal, en ce qu'on introduit un cristal- semence dans la matière fondue et en ce qu'on retire ledit cristal de la matière fondue à une vitesse non supérieure à 1,27 mm/heure, faisant ainsi croître un monocristal uniformément dopé. SOUS-REVENDICATIONS 1. Procédé selon la revendication I, caractérisé en ce qu'on porte la matière fondue à une température comprise entre 2030 et 2050 C. 2. CLAIM I Process for growing a single crystal of doped yttrium-aluminum garnet, characterized in that a melt is established composed of oxides of yttrium and aluminum minium, and of oxides of praseodymium and / or neodymium, bringing the molten material to a crystal-forming temperature, introducing a seed crystal into the molten material and removing said crystal from the molten material at a rate not greater than 1.27 mm / hour, thereby growing a uniformly doped single crystal. SUB-CLAIMS 1. Method according to claim I, characterized in that the molten material is brought to a temperature between 2030 and 2050 C. 2. Procédé selon la revendication I ou la sous- revendication 1, caractérisé en ce que les oxydes d'yttrium, d'aluminium et de néodyme sont présents dans la masse fondue en quantités de 32,51 g de Y.02, de 25,47 g de A1,03 et de 2,02 g de Nd203 . 3. Process according to Claim I or sub-Claim 1, characterized in that the oxides of yttrium, aluminum and neodymium are present in the melt in amounts of 32.51 g of Y.02, 25.47 g of A1.03 and 2.02 g of Nd203. 3. Procédé selon la revendication I ou la sous- revendication I, caractérisé en ce que les oxydes d7yt- trium, d'aluminium et de praséodyme sont présents dans la masse fondue en quantités de 32,529 g de Y203, de 25,492 g de A103 et de 2,044 g de PrE011. REVENDICATION II Monocristal de grenat d'yttrium-aluminium dopé au néodyme et/ou au praséodyme, obtenu par le procédé selon la revendication I. Process according to Claim I or sub-Claim I, characterized in that the oxides of cyt-trium, of aluminum and of praseodymium are present in the melt in amounts of 32.529 g of Y203, 25.492 g of A103 and 2.044 g of PrE011. CLAIM II A single crystal of yttrium-aluminum garnet doped with neodymium and / or praseodymium, obtained by the process according to claim I.
CH689965A 1964-05-18 1965-05-18 Method for growing a single crystal of garnet CH427754A (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US36827664A 1964-05-18 1964-05-18
DEU0012895 1966-07-14
NL6609943A NL6609943A (en) 1966-07-14 1966-07-14

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH427754A true CH427754A (en) 1967-01-15

Family

ID=27213248

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH689965A CH427754A (en) 1964-05-18 1965-05-18 Method for growing a single crystal of garnet

Country Status (4)

Country Link
CH (1) CH427754A (en)
DE (1) DE1544331A1 (en)
FR (1) FR1453868A (en)
GB (1) GB1055099A (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0067521B1 (en) * 1981-06-04 1987-07-08 Hughes Aircraft Company Process for maximizing laser crystal efficiency by effecting single site for dopant
US5273681A (en) * 1992-06-22 1993-12-28 General Electric Company Praseodymium-doped luminescent compositions
JP2001223423A (en) * 2000-02-10 2001-08-17 Inst Of Physical & Chemical Res Laser device

Also Published As

Publication number Publication date
GB1055099A (en) 1967-01-11
DE1544331A1 (en) 1970-06-25
FR1453868A (en) 1966-07-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0042901B1 (en) Process for controlling the oxygen content of silicon ingots pulled by the czochralski method
EP0130865B1 (en) Apparatus for making a single crystal
KR20150023031A (en) SiC SINGLE CRYSTAL INGOT AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
WO2007013189A1 (en) Silicon wafer and process for producing the same
JP5935764B2 (en) Garnet-type single crystal and manufacturing method thereof
FR2543980A1 (en) PROCESS FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR MATERIALS AND PROCESSING FURNACE FOR CARRYING OUT SAID METHOD
JP2012224516A (en) Method for producing oxide single crystal
EP3024963B1 (en) Method for preparing single-crystal cubic sesquioxides
JP4193610B2 (en) Single crystal manufacturing method
WO2017217104A1 (en) Method for producing silicon single crystal
CH427754A (en) Method for growing a single crystal of garnet
JP5299395B2 (en) Oxide single crystal growth method
JP6436073B2 (en) Method for growing CaMgZr-substituted gadolinium / gallium / garnet single crystal
WO2013145558A1 (en) Polycrystalline silicon and method for casting same
EP0133084B1 (en) Process for making bismuth-germanate single crystals with a high scintillation efficiency
JP4273793B2 (en) Single crystal manufacturing method
EP0474566B1 (en) Crystallisation process in the presence of a magnetic field
JP6988624B2 (en) How to grow lithium niobate single crystal
FR3043698B1 (en) PROCESS FOR THE PREPARATION OF COPPER MONOCRYSTALLINE ALLOYS
EP1399606B1 (en) Device for producing alloy crystals
FR2927910A1 (en) METHOD OF CRYSTALLOGENIZING ELECTRICALLY CONDUCTIVE MOLDED MATERIAL.
JP6933424B1 (en) How to grow SGGG single crystal and SGGG single crystal
JP2006117494A (en) Method for producing metal fluoride single crystal and as-grown single crystal of metal fluoride produced by the method
JP2017149613A (en) METHOD FOR GROWING CaMgZr SUBSTITUTION TYPE GADOLINIUM GALLIUM GARNET (SGGG) SINGLE CRYSTAL
TW200846510A (en) Method for producing semiconductor single crystal