BRPI0913394B1

BRPI0913394B1 - Sistema para alimentar uma composição de catalisador de pasta e método para controlar um fluxo de catalisador de pasta

Info

Publication number: BRPI0913394B1
Application number: BRPI0913394-1A
Authority: BR
Inventors: Timothy R. Lynn
Original assignee: Univation Technologies, Llc
Priority date: 2008-06-04
Filing date: 2009-06-03
Publication date: 2019-05-28
Also published as: CN102056948B; EP2283049B1; RU2487894C2; TWI433855B; RU2010154513A; WO2009149159A1; BRPI0913394A2; EP2283049A1; US20110232768A1; ATE555137T1; TW201012832A; ES2383336T3; US7980264B2; US8281796B2; CN102056948A; US20110088787A1

Abstract

sistema para alimentar uma composição de catalisador de pasta e método para controlar um fluxo de catalisador de pasta a presente invenção refere-se a um sistema para alimentar uma composição de catalisador de pasta que inclui: um sistema de alimentação de pasta primário que compreende um medidor de fluxo de pasta primário e um dispositivo de injeção de catalisador primário, em que o medidor de fluxo de pasta primário mede uma taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para o dispositivo de injeção de catalisador primário; e um sistema de alimentação de pasta secundário que compreende um medidor de fluxo de pasta secundário, um líquido condutor secundário, um dispositivo de controle de líquido condutor secundário, e um dispositivo de injeção de catalisador secundário, em que o medidor de fluxo de pasta secundário mede uma taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária para o dispositivo de injeção de catalisador secundário, em que o dispositivo de controle de líquido condutor secundário controla um parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário com base em uma razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária.

Description

SISTEMA PARA ALIMENTAR UMA COMPOSIÇÃO DE CATALISADOR DE PASTA E MÉTODO PARA CONTROLAR UM FLUXO DE CATALISADOR DE PASTA.

CAMPO DA INVENÇÃO [001] A presente invenção genericamente refere-se a um sistema e método para alimentar um catalisador de pasta a um sistema de produção de poliolefinas. Mais especificamente, esta descrição refere-se a alimentar um catalisador de pasta a múltiplos pontos de injeção de modo que o fluxo seja uniformemente distribuído para cada um dos pontos de injeção. Esta descrição também refere-se a um sistema e método para dividir o fluxo de catalisador de pasta entre múltiplos pontos de injeção de modo que o fluxo para cada ponto de injeção seja controlado em relação a um fluxo de catalisador de pasta através de um ponto de injeção primário.

ANTECEDENTES [002] Os avanços na tecnologia de polimerização têm provido processos mais eficientes, altamente produtivos e economicamente aprimorados. Especialmente ilustrativo destes avanços é o desenvolvimento de uma tecnologia que utiliza os sistemas de catalisador de metaloceno e outros sistemas de catalisador do tipo de metaloceno avançados. No entanto, os catalisadores de metaloceno e de tipo de metaloceno tipicamente exibem uma alta atividade de catalisador logo que o catalisador é injetado no sistema de reação. Assim, o catalisador deve ser injetado em mais de uma localização em reatores de escala comercial para prover uma boa distribuição de catalisador dentro do reator.

[003] É frequentemente útil suportar vários tipos de compostos de catalisador, por exemplo, os compostos de

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2/31 catalisador de metaloceno e de tipo de metaloceno, sobre um condutor tal como, por exemplo, sílica ou alumina. A utilização de sistemas de catalisador suportados ou heterogêneos aumenta as eficiências de processo assegurando que as partículas poliméricas em formação atinjam uma forma e densidade que aperfeiçoem a operabilidade de reator e facilidade de manuseio. Estes sistemas de catalisador suportados estão frequentemente suspensos em uma solução para formar uma composição de pasta de catalisador, e a composição de pasta de catalisador é injetada no reator de polimerização através de vários sistemas de injeção de catalisador.

[004] A alimentação de composições de pasta de catalisador suportadas pode mostrar-se problemática para os catalisadores de alta atividade, o que pode requerer baixas taxas de fluxo de composição de catalisador de pasta. O equipamento utilizado para medir e controlar as taxas de fluxo de composição de catalisador de pasta pode ter passagens muito pequenas, as quais têm uma tendência à obstrução por aglomerados que ocasionalmente formam na composição de catalisador de pasta. Isto é especificamente problemático para as válvulas de controle no sistema que injeta a composição de catalisador de pasta no sistema de reação. Estes problemas são exacerbados quando uma taxa de fluxo já pequena deve ser dividida em mais de um ponto de injeção. Os problemas são exacerbados ainda mais quando é desejável distribuir a composição de catalisador de pasta uniformemente dentro do reator, o que requer que a taxa de fluxo da composição de catalisador de pasta seja bastante uniforme entre cada um dos múltiplos pontos de injeção.

[005] As Patentes US n° 6.606.675, 6.608.149, e 6.956.089

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3/31 descrevem uma composição de catalisador preparada combinando continuamente uma pasta de componente de catalisador com uma solução de componente de catalisador para formar uma composição de catalisador de pasta, então introduzindo a composição de catalisador de pasta e um reator de polimerização em operação. Estas patentes também descrevem sistemas para o fornecimento da composição de catalisador de pasta para o sistema de reação.

[006] As Patentes US n° 5.317.036, 5.693.727, 6.075.101, 6.245.868, e 7.235.614 todas descrevem vários processos e técnicas para introduzir as composições de catalisador suportadas e não suportadas em forma líquida em um reator de polimerização.

[007] Em vista das referências acima descritas existe uma necessidade de fornecer uma composição de catalisador de pasta a múltiplos pontos de alimentação em um reator de polimerização que não tem uma tendência de obstrução quando tentando controlar as baixas de taxas de fluxo da composição de catalisador de pasta. Mais ainda, existe uma necessidade de controlar precisamente a taxa de fluxo de cada um dos múltiplos pontos de alimentação em relação aos outros pontos de alimentação. Especificamente, existe uma necessidade de fornecer uniformemente uma composição de catalisador de pasta para cada um dos múltiplos pontos de alimentação em um reator de polimerização.

SUMÁRIO [008] Em várias modalidades, a corrente invenção provê um sistema e método para alimentar uma composição de catalisador de pasta. As modalidades da invenção permitem o usuário controlar o fornecimento de uma composição de catalisador de

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4/31 pasta para cada um de múltiplos pontos de alimentação em um reator de polimerização. Assim, a composição de catalisador de pasta pode ser suprida uniformemente para cada um dos pontos de alimentação.

[009] Em uma classe de modalidades, a invenção provê um sistema para alimentar uma composição de catalisador de pasta que inclui: um sistema de alimentação de pasta primário que compreende um medidor de fluxo de pasta primário e um dispositivo de injeção de catalisador primário, em que o medidor de fluxo de pasta primário mede uma taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para o dispositivo de injeção de catalisador primário; e um sistema de alimentação de pasta secundário que compreende um medidor de fluxo de pasta secundário, um líquido condutor secundário, um dispositivo de controle de líquido condutor secundário, e um dispositivo de injeção de catalisador secundário, em que o medidor de fluxo de pasta secundário mede uma taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária para o dispositivo de injeção de catalisador secundário, em que o dispositivo de controle de líquido condutor secundário controla um parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário com base em uma razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária.

[010] Em pelo menos uma modalidade, o parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário é a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária, uma taxa de fluxo de líquido condutor secundária, uma contrapressão no sistema de alimentação de pasta secundário, ou um diferencial de pressão no sistema de

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5/31 alimentação de pasta secundário.

[011] Em algumas modalidades, a razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária pode ser controlada a aproximadamente 0,9:1 a aproximadamente 1,1:1.

[012] Em pelo menos uma modalidade, o sistema para alimentar uma composição de catalisador de pasta compreende pelo menos dois sistemas de alimentação de pasta secundários.

[013] Em pelo menos uma modalidade, o sistema de alimentação de pasta secundário ainda compreende um medidor de fluxo de líquido condutor secundário, um controlador de líquido condutor secundário, e um controlador de fluxo de pasta secundário, em que o parâmetro de processo controlado pelo dispositivo de controle de líquido condutor secundário é uma taxa de fluxo de líquido condutor secundária medida pelo medidor de fluxo de líquido condutor secundário, em que o controlador de líquido condutor secundário controla o dispositivo de controle de líquido condutor secundário com base na taxa de fluxo de líquido condutor secundária e um ponto de ajuste de fluxo condutor secundário do controlador de fluxo de pasta secundário.

[014] Em pelo menos uma modalidade, o controlador de fluxo de pasta secundário recebe a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária como uma variável de processo medida e a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária como um ponto de ajuste de variável de processo e gera o ponto de ajuste de fluxo condutor secundário.

[015] Em qualquer modalidade, o sistema de alimentação de

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6/31 pasta secundário pode ainda incluir: um dispositivo de controle de fluxo de pasta secundário; um misturador de condutor/catalisador secundário; e um gás condutor secundário.

[016] Em qualquer modalidade, o sistema de alimentação de pasta primário pode ainda incluir: um dispositivo de controle de fluxo de pasta primário; um líquido condutor primário; um dispositivo de controle de líquido condutor primário; um misturador de condutor/catalisador primário; um dispositivo de injeção de catalisador primário; e um gás condutor primário.

[017] Outra classe de modalidades provê um sistema para alimentar uma composição de catalisador de pasta, que inclui: um sistema de alimentação de pasta primário que compreende um medidor de fluxo de pasta primário e um dispositivo de injeção de catalisador primário, em que o medidor de fluxo de pasta primário mede uma taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para o dispositivo de injeção de catalisador primário; e um sistema de alimentação de pasta secundário que compreende um medidor de fluxo de pasta secundário, um gás condutor secundário, um dispositivo de controle de gás condutor secundário; e um dispositivo de injeção de catalisador secundário, em que o medidor de fluxo de pasta secundário mede uma taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária para o dispositivo de injeção de catalisador secundário; em que o dispositivo de controle de gás condutor secundário controla um parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário com base em uma razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de

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7/31 pasta secundária.

[018] Em pelo menos uma modalidade, o parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário é uma taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária, uma taxa de fluxo de gás condutor secundária, uma contrapressão no sistema de alimentação de pasta secundário, ou um diferencial de pressão no sistema de alimentação de pasta secundário.

[019] Em outra modalidade, o sistema de alimentação de pasta secundário ainda compreende um medidor de fluxo de gás condutor secundário, um controlador de gás condutor secundário, e um controlador de fluxo de pasta secundário, em que o parâmetro de processo controlado pelo dispositivo de controle de gás condutor secundário e uma taxa de fluxo de gás condutor secundária medida pelo medidor de fluxo de gás condutor secundário, em que o controlador de gás condutor secundário controla o dispositivo de controle de gás condutor secundário com base na taxa de fluxo de gás condutor secundária e um ponto de ajuste de fluxo de condutor secundário do controlador de fluxo de pasta secundário.

[020] Outra classe de modalidades provê um método para controlar um fluxo de catalisador de pasta: provendo uma composição de catalisador de pasta; dividindo a composição de catalisador de pasta em uma composição de catalisador de pasta primária e uma composição de catalisador de pasta secundária; medir uma taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária da composição de catalisador de pasta primária; suprir a composição de catalisador de pasta primária para um dispositivo de injeção de catalisador primário; medir uma taxa de fluxo de composição de

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8/31 catalisador de pasta secundária da composição de catalisador de pasta secundária; controlar um parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário com base em uma razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária, em que o parâmetro de processo afeta a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária; e suprir a composição de catalisador de pasta secundária para um dispositivo de injeção de catalisador secundário.

[021] Em pelo menos uma modalidade, a razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária é efetivamente controlada pelo controle do parâmetro de processo.

Em outra modalidade, o parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário controlado de modo que a razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária de aproximadamente

0,9:1 a aproximadamente 1,1:1.

Em pelo menos uma modalidade, o parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária, a taxa de taxa de fluxo de gás fluxo de líquido condutor secundária, a condutor secundária, uma contrapressão no sistema de alimentação de pasta secundário, ou um diferencial de pressão no sistema de alimentação de pasta secundário.

[024] Em pelo menos uma modalidade, o parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário é uma

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9/31 taxa de fluxo de líquido condutor secundária, e o método ainda inclui as etapas de: suprir um líquido condutor secundário; comparar a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária e a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária; e aumentar ou diminuir a taxa de fluxo de líquido condutor secundária para ajustar a taxa de fluxo de composição de catalisador secundária em relação à taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária.

[025] Em pelo menos uma modalidade, a taxa de fluxo de líquido condutor secundária é aumentada se a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária for mais alta do que a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária ou a taxa de fluxo de líquido condutor secundária é diminuída se a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária for mais baixa do que a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária.

[026] Em outra modalidade, a comparação da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária e da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária, e o aumento ou a diminuição da taxa de fluxo de líquido condutor secundária são executadas por um sistema de controle automatizado.

[027] Ainda outra modalidade ajusta a taxa de fluxo de líquido condutor primária ou a taxa de fluxo de gás condutor primária para ajustar a taxa de fluxo de composição de catalisador secundária em relação à taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária.

[028] Em qualquer modalidade, um gás condutor secundário pode ser suprido.

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10/31 [029] Em pelo menos uma modalidade, o parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário é uma taxa de fluxo de gás condutor secundária, e em que o método inclui as etapas de: comparar a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária e a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária; e aumentar ou diminuir a taxa de fluxo de gás condutor secundária para ajustar a taxa de fluxo de composição de catalisador secundária em relação à taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária.

BREVE SUMÁRIO DOS DESENHOS [030] Figura 1 é um desenho esquemático de uma modalidade da invenção.

DESCRIÇÃO DETALHADA [031] Antes que os presentes compostos, componentes, composições, dispositivos, softwares, hardwares, equipamentos, configurações, esquemas, sistemas, e/ou métodos serem apresentados e descritos, deve ser compreendido que a menos que de outro modo indicado esta invenção não está limitada a compostos, componentes, composições, dispositivos, softwares, hardwares, equipamentos, configurações, esquemas, sistemas, métodos ou similares, e tais podem variar, a menos que de outro modo especificado. Deve também ser compreendido que a terminologia aqui utilizada é para o propósito de descrever modalidades específicas somente e não pretende ser limitante.

[032] Deve também ser notado que, como utilizadas na especificação e nas reivindicações anexas, as formas singulares um, uma e o incluem referentes plurais a menos que de outro modo especificado.

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11/31 [033] Geralmente, as modalidades aqui descritas referem a um sistema e método para alimentar uma composição de catalisador de pasta. Especificamente, as modalidades aqui referem a um sistema e método para alimentar uma composição de catalisador de pasta para múltiplos pontos de injeção de catalisador.

[034] As Patentes US n° 6.606.675, 6.608.149, e 6.956.089 descrevem sistemas para produzir uma composição de catalisador de pasta preparada combinando continuamente uma pasta de componente de catalisador com uma solução de componente de catalisador para formar uma composição de catalisador de pasta. Em um processo exemplar, uma pasta de componente de catalisador 2 pode ser combinada com e/ou reagida com uma solução de componente de catalisador 4 para formar uma mistura de catalisador/componente 6. A mistura de catalisador/componente 6 pode então ser enviada para um dispositivo de mistura 8. Após um tempo de contato suficiente, uma composição de catalisador de pasta 10 é removida do dispositivo de mistura 8 e é então introduzida em um reator de polimerização utilizando um sistema de alimentação de catalisador de pasta primário e/ou secundário 12, 14 da invenção corrente. Assim, como aqui utilizado, uma composição de catalisador de pasta ou um catalisador de pasta 10 refere à mistura que contém catalisador que sai do dispositivo de mistura 8. Como é desejável alimentar a composição de catalisador de pasta para múltiplos pontos de alimentação, o fluxo que sai do misturador em linha é tipicamente dividido entre múltiplos pontos de alimentação.

[035] Quando alimentando a composição de catalisador de pasta 10 para múltiplos pontos de injeção de uma fonte de

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12/31 alimentação de catalisador de pasta, foi descoberto que mudanças nas taxas de fluxo de líquido condutor ou gás condutor em cada ponto de injeção têm um efeito direto sobre a taxa de fluxo de catalisador de pasta naquele ponto de injeção. Assim, a corrente invenção provê um sistema e método para controlar o fluxo de catalisador de pasta para os pontos de injeção individuais pelo controle das taxas de fluxo de líquido condutor ou de gás condutor em cada ponto de injeção. [036] Uma classe de modalidades da invenção corrente provê um sistema para alimentar uma composição de catalisador de pasta 10 que compreende: um sistema de alimentação de pasta primário 12 que compreende um medidor de fluxo de pasta primário 16 e um dispositivo de injeção de catalisador primário 18, em que o medidor de fluxo de pasta primário mede uma taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para o dispositivo de injeção de catalisador primário; e um sistema de alimentação de pasta secundário 14 que compreende um medidor de fluxo de pasta secundário 20, um líquido condutor secundário 22, um dispositivo de controle de líquido condutor secundário 24, e um dispositivo de injeção de catalisador secundário 26, em que o medidor de fluxo de pasta secundário mede a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária para o dispositivo de injeção de catalisador secundário, em que o dispositivo de controle de líquido condutor secundário controla um parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário com base em uma razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária. Como aqui utilizado, um sistema de alimentação de pasta secundário

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13/31 significa pelo menos um sistema de alimentação de pasta secundário. Assim, em qualquer modalidade, o sistema para alimentar uma composição de catalisador de pasta pode compreender mais do que um sistema de alimentação de pasta secundário 14. Em uma modalidade, o sistema para alimentar uma composição de catalisador de pasta compreende pelo menos dois sistemas de alimentação de pasta secundários 14. Mais ainda, mais do que um sistema para alimentar uma composição de catalisador de pasta 10 pode ser utilizado para alimentar o catalisador de pasta para um sistema de reação.

[037] Em qualquer modalidade, o medidor de fluxo de pasta primário 16 e o medidor de fluxo de pasta secundário 20 medem o fluxo de catalisador de pasta através dos respectivos sistemas de alimentação de pasta primário e secundário 12, 14. Os medidores de fluxo de pasta primário e secundário 16, 20 podem ser de qualquer projeto adequado para medir o fluxo da composição de catalisador de pasta. Em qualquer modalidade, os medidores de fluxo de pasta primário e secundário 16, 20 podem ser medidores de fluxo do tipo Coriolis, tal como o Micromotion CFM-010M. Os medidores de fluxo do tipo Coriolis podem gerar um pressão diferencial de aproximadamente 20 a 70 kPa (3 a 10 psi) em taxas de fluxo de sistema de injeção típicas.

[038] Em qualquer modalidade, um líquido condutor primário 28 pode ser combinado com uma composição de catalisador de pasta primária 30 e/ou um líquido condutor secundário 22 pode ser combinado com uma composição de catalisador de pasta secundária 32 antes da composição de catalisador de pasta ser alimentada no reator de polimerização. O líquido condutor primário e secundário 18,

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14/31 pode ser introduzido na composição de catalisador de pasta que está movendo em uma direção descendente. A mistura de composição de catalisador de pasta e do líquido condutor pode passar através de um misturador de condutor/catalisador primário ou secundário 34, 36 respectivamente ou um comprimento de conduto, por exemplo, uma tubulação para misturar antes de ser injetada no reator de polimerização ou contactada com um gás condutor primário ou secundário 38, 40. O líquido condutor primário ou secundário 28, 22 pode ser um líquido não reativo, tal como um alcano como o isopentano ou o hexano, ou pode ser um comonômero de alqueno, tal como o hexeno, o buteno, ou outro líquido adequado que é normalmente adicionado ao processo. Um líquido adequado de preferência auxilia na dispersão da composição de catalisador de pasta logo que a mistura sai do dispositivo de injeção primário ou secundário 18, 22 dentro do reator de polimerização.

[039] Qualquer modalidade pode compreender um dispositivo de controle de líquido condutor primário ou secundário 42, 24. Qualquer dispositivo de controle, por exemplo uma válvula de motor de controle de fluxo, pode ser utilizado e é adequado para controlar o fluxo do líquido condutor primário ou secundário 28, 22.

[040] Em qualquer modalidade, o dispositivo de controle de líquido condutor secundário 24 controla um parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário 14. O parâmetro de processo pode ser a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária ou pode ser qualquer parâmetro de processo que afete a taxa de fluxo da composição de catalisador de pasta secundária 32. Como acima discutido, vários parâmetros de processo afetam o fluxo de pasta. Por

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15/31 exemplo, aumentando a taxa de fluxo de líquido condutor secundária foi descoberto diminuir a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária. Apesar de não desejar ser ligado pela teoria, é imaginado que o aumento do fluxo de líquido condutor secundário 22, aumenta a

contrapressão dentro	do sistema de alimentação de pasta
secundário 14, assim	diminuindo o fluxo de composição de
catalisador de pasta	32 do sistema de suprimento para o
sistema de alimentação	de pasta secundário 14. Assim, em pelo
menos uma modalidade,	o parâmetro de processo do sistema de

alimentação de pasta secundário 14 pode ser uma taxa de fluxo de líquido condutor secundária, uma contrapressão no sistema de alimentação de pasta secundário, ou um diferencial de pressão no sistema de alimentação de pasta secundário.

[041] Em qualquer modalidade aqui, o dispositivo de controle de líquido condutor secundário 24 pode controlar o parâmetro de processo com base em uma razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária. Variando o fluxo de líquido condutor secundário, o parâmetro de processo selecionado é variado e a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária é variada, assim a razão da taxa de fluxo de composição de catalisador primária ou secundária é afetada. Isto é, como o parâmetro de processo que deve ser controlado é selecionado para ou controlar diretamente ou afetar a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária, pelo controle do parâmetro de processo, a taxa de fluxo de composição de catalisador secundária é controlada a uma razão desejada para a taxa de fluxo de composição de catalisador primária. Em

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16/31 pelo menos uma modalidade, a razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária controlada entre aproximadamente aproximadamente

1,2:1, ou entre aproximadamente

0,9:1 aproximadamente

1,1:1.

Em qualquer modalidade aqui, o sistema de alimentação de pasta secundário ainda compreende um medidor de fluxo de líquido condutor secundário

44, um controlador de líquido condutor secundário 46, um controlador de fluxo de pasta secundário 48. Em algumas modalidades, parâmetro de processo controlado pelo dispositivo de controle de líquido condutor secundário é

uma taxa de fluxo de líquido condutor secundária medida pelo medidor de fluxo de líquido condutor secundário 44. O controlador de líquido condutor secundário 46 controla o dispositivo de controle de líquido condutor secundário 24 com base na taxa de fluxo de líquido condutor secundária e um ponto de ajuste de fluxo de condutor secundário do controlador de fluxo de pasta secundário 48. O medidor de fluxo de líquido condutor secundário 44, e o controlador de líquido condutor secundário 46 podem ser qualquer projeto industrial padrão adequado para medir e controlar a fluxo de líquido condutor.

Em qualquer modalidade, o controlador de fluxo de pasta secundário 48 pode ser qualquer projeto industrial padrão adequado para medir e controlar a composição de catalisador de pasta. Em pelo menos uma modalidade, a taxa de fluxo do líquido condutor secundário 22 é controlada por um loop de controle automatizado. O ponto de ajuste para a taxa de líquido condutor secundária é gerado

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17/31 pelo controlador de fluxo de pasta secundário 48. Conforme o ponto de ajuste muda a taxa de fluxo de líquido condutor secundária muda, o fluxo de composição de pasta secundário é afetado. Isto é, conforme a taxa de fluxo do líquido condutor secundário 22 é aumentada, a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária cai e vice versa. Assim, em algumas modalidades, a taxa de fluxo de composição de pasta secundária pode ser controlada pelo controlador de fluxo de pasta secundário 48 controlando o ponto de ajuste do controlador de líquido condutor secundário 46, o qual por sua vez controla a taxa de fluxo do líquido condutor secundário 22.

[043] Em algumas modalidades aqui, o controlador de fluxo de pasta secundário 48 pode receber a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária como uma variável de processo medida e a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária como um ponto de ajuste de variável de processo e gera o ponto de ajuste de fluxo de condutor para o controlador de líquido condutor secundário 46. Recebendo a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária como um ponto de ajuste de variável de processo, a razão da taxa de fluxo de composição de pasta primária para secundária é controlada em aproximadamente 1:1. Em outras modalidades, o controlador de fluxo de pasta secundário 48 é um controlador de razão, em que o controlador de fluxo de pasta secundário recebe as taxas de fluxo de pasta primária e secundária e gera o ponto de ajuste de fluxo de condutor para o controlador de líquido condutor secundário 46 com base em uma razão da taxa de fluxo de pasta primária para a razão de fluxo de pasta secundária.

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18/31 [044] Em qualquer modalidade aqui, o sistema de alimentação de pasta secundário 14 pode ainda compreender um dispositivo de controle de fluxo de pasta primário ou secundário 50, 52. O dispositivo de controle de fluxo de pasta primário ou secundário 50, 52 pode ser utilizado para fechar o fluxo para o sistema de alimentação de pasta primário ou secundário 12, 14 ou de outro modo ajustar o fluxo ou a pressão dentro do sistema de alimentação de pasta primário ou secundário.

[045] Qualquer modalidade aqui pode ainda compreender um gás condutor primário ou secundário 38, 40 para ajudar a carregar a composição de catalisador de pasta para dentro do reator de polimerização. O gás condutor primário ou secundário 38, 40 pode ser um gás inerte, por exemplo o nitrogênio. Um dispositivo de controle de gás condutor primário ou secundário 54, 56, pode controlar o fluxo do gás condutor primário ou secundário 38, 40, respectivamente.

[046] Qualquer modalidade aqui pode ainda compreender um misturador de condutor/catalisador primário ou secundário 34, 36. O misturador de condutor/catalisador primário ou secundário 34, 36 pode ser um dispositivo de mistura em linha projetado para um fluxo descendente que provê a mistura da composição de catalisador de pasta e do líquido condutor primário ou secundário 28, 22. Em pelo menos uma modalidade, o misturador de condutor/catalisador primário ou secundário 34, 36 está localizado após a composição de catalisador de pasta primária ou secundária e o líquido condutor secundário 28, 22 ser combinada, e antes do gás condutor primário ou secundário 38, 40 ser injetado no fluxo misturado.

[047] Qualquer modalidade aqui pode também compreender um

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19/31 dispositivo de controle de líquido condutor primário 42 utilizado para controlar o fluxo de um líquido condutor primário 28 para um dispositivo de injeção de catalisador primário 18.

[048] Uma classe de modalidades provê um sistema para alimentar uma composição de catalisador de pasta que compreende: um sistema de alimentação de pasta primário 12 que compreende um medidor de fluxo de pasta primário 16 e um dispositivo de injeção de catalisador primário 18, em que o medidor de fluxo de pasta primário mede uma taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para o dispositivo de injeção de catalisador primário; e um sistema de alimentação de pasta secundário 14 que compreende um medidor de fluxo de pasta secundário 20, um gás condutor secundário 40, um dispositivo de controle de gás condutor secundário 56, e um dispositivo de injeção de catalisador secundário 26, em que o medidor de fluxo de pasta secundário mede uma taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária para o dispositivo de injeção de catalisador secundário, e em que o dispositivo de controle de gás condutor secundário 56 controla um parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário 14 com base em uma razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária.

[049] Em qualquer modalidade aqui, o dispositivo de controle de gás condutor secundário 56 pode controlar um parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário 14. O parâmetro de processo pode ser a taxa de fluxo da composição de catalisador de pasta secundária 32 ou

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20/31 pode ser qualquer parâmetro de processo que afete a taxa de fluxo da composição de catalisador de pasta secundária 32. Assim, em pelo menos uma modalidade, o parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário 14 pode ser a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária, uma taxa de fluxo de gás condutor secundária, uma contrapressão no sistema de alimentação de pasta secundário 14, ou um diferencial de pressão no sistema de alimentação de pasta secundário 14.

[050] O dispositivo de controle de gás condutor secundário 56 pode controlar o parâmetro de processo com base em uma razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária. O parâmetro de processo pode ser selecionado de modo que a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária é variada variando o parâmetro de processo, assim a razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para secundária é afetada. Em pelo menos uma modalidade, a razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária pode ser controlada entre aproximadamente 0,8:1 a aproximadamente 1,2:1, ou entre aproximadamente 0,9:1 a aproximadamente 1,1:1.

[051] Em pelo menos uma modalidade da invenção, o sistema de alimentação de pasta secundário 14 ainda compreende um medidor de fluxo de gás condutor secundário 58, um controlador de gás condutor secundário 60, e um controlador de fluxo de pasta secundário 48, em que o parâmetro de processo controlado pelo controlador de gás condutor

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21/31 secundário 60 é uma taxa de fluxo de gás condutor secundária medida pelo medidor de fluxo de gás condutor secundário 58, em que o controlador de gás condutor secundário 60 controla o dispositivo de controle de gás condutor secundário 56 com base na taxa de fluxo de gás condutor secundária e um ponto de ajuste de fluxo de condutor secundário do controlador de fluxo de pasta secundário 48.

[052] Em algumas modalidades, o controlador de fluxo de pasta secundário 48 recebe a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária como uma variável de processo medida e a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária como um ponto de ajuste de variável de processo gera o ponto de ajuste de fluxo de condutor para o controlador de gás condutor secundário 60. Recebendo a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária como um ponto de ajuste de variável de processo, a razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para secundária é controlada a aproximadamente 1:1. Em outras modalidades, o controlador de fluxo de pasta secundário 48 é um controlador de razão, em que o controlador de fluxo de pasta secundário 48 recebe as taxas de fluxo de composição de catalisador de pasta primária e secundária e gera o ponto de ajuste de fluxo de condutor para o controlador de gás condutor secundário 60 com base em uma razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária.

[053] Outra classe de modalidades provê um método para controlar um fluxo de catalisador de pasta. Nesta modalidade, uma composição de catalisador de pasta 26 está provida e então dividida em uma composição de catalisador de pasta

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22/31 primária 30 e uma composição de catalisador de pasta secundária 32. A taxa de fluxo da composição de catalisador de pasta primária 30 para um dispositivo de injeção de catalisador primário 18 é medida, por exemplo, por um medidor de fluxo de pasta primário 16. Mais ainda, a taxa de fluxo da composição de catalisador de pasta secundária 32 para um dispositivo de injeção de catalisador secundário 26 é medida, por exemplo, por um medidor de fluxo de pasta secundário 20. Então, um parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário 14 é controlado com base em uma razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária.

[054] Em qualquer modalidade aqui, o parâmetro de processo é selecionado como um parâmetro do sistema de alimentação de pasta secundário 14 que tem um efeito direto ou indireto sobre a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária. Em qualquer modalidade, o parâmetro de processo tem uma correlação forte o suficiente com a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária de modo que a razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária pode ser efetivamente controlada pelo controle do parâmetro de processo. Em pelo menos uma modalidade, o parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário têm uma correlação forte o suficiente para que a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária permita que a razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de

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23/31 pasta secundária seja controlada entre aproximadamente 0,8:1 a aproximadamente 1,2:1, ou entre aproximadamente 0,9:1 a aproximadamente 1,1:1. Os parâmetros de processo que proveem uma correlação forte o suficiente para que a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária possa incluir a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária real, um taxa de fluxo de líquido condutor secundária, uma taxa de fluxo de gás condutor secundária, uma contrapressão no sistema de alimentação de pasta secundário, ou um diferencial de pressão no sistema de alimentação de pasta secundário.

[055] Os testes de campo mostraram que a taxa de fluxo do líquido condutor secundária 22 tem um efeito substancial sobre o fluxo da composição de catalisador de pasta secundária 32. Assim, em algumas modalidades aqui, o parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário pode ser selecionado como uma taxa de fluxo do líquido condutor secundária. Nestas modalidades, um líquido condutor secundário 22 é suprido e combinado com a composição de catalisador de pasta secundária 32. A taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária e a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária são comparadas, por exemplo, em um controlador de fluxo de pasta secundário 48. Então, a taxa de fluxo do líquido condutor secundário 22 é aumentada ou diminuída para ajustar a taxa de fluxo de composição de catalisador secundária em relação à taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária. Por exemplo, a taxa de fluxo de líquido condutor secundária pode ser aumentada se a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária for mais alta do que a taxa

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24/31 de fluxo de composição de catalisador de pasta primária, ou a taxa de fluxo de líquido condutor secundária pode ser diminuída se a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária for mais baixa do que a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária.

[056] Em qualquer modalidade, a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária e a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária podem ser comparadas e controladas, por exemplo, aumentando ou diminuindo a taxa de fluxo de líquido condutor secundária, por um sistema de controle automatizado. Os sistemas de controle automatizados podem ser qualquer sistema de controle automatizado, que inclui os sistemas de controle distributivos eletrônicos ou os sistemas de controle de computador. Em outras modalidades, o controle pode ser executado manualmente.

[057] Em qualquer modalidade aqui, o sistema de alimentação de pasta primário 12 pode compreender um líquido condutor primário 28, e/ou um gás condutor primário 38. A mudança da taxa de fluxo do líquido condutor primário 28 ou do gás condutor primário 38 pode ser utilizada para ajustar a taxa de fluxo de composição de catalisador primária. O ajuste da taxa de fluxo de composição de catalisador primária também afeta os fluxos relativos da composição de catalisador de pasta primária e secundária 30, 32. Assim, em pelo menos uma modalidade, a taxa de fluxo de liquido condutor primária ou a taxa de fluxo de gás condutor primária pode ser ajustada para ajustar a taxa de fluxo de composição de catalisador secundária em relação à taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária. Por exemplo, se a taxa de

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25/31 fluxo da composição de catalisador de pasta primária for muito alta, a taxa de fluxo de liquido condutor primária pode ser aumentada, o que diminuirá a taxa de fluxo de catalisador de pasta primária. Isto tem um efeito de diminuir a razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária.

[058] Em qualquer modalidade aqui o sistema de alimentação de pasta secundário 14, pode suprir um gás condutor secundário 40 para ser combinado com a mistura de composição de catalisador de pasta e líquido condutor. A taxa de fluxo do gás condutor secundário 40 também mostrou afetar a taxa de fluxo da composição de catalisador de pasta secundária 32. Assim, em algumas modalidades, o parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário que é selecionado para afetar a taxa de fluxo de catalisador de pasta secundária pode ser a taxa de fluxo de gás condutor secundaria. Nestas modalidades, a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária e a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária podem ser comparadas. Então, a taxa de fluxo de gás condutor secundária pode ser aumentada ou diminuída para ajustar a taxa de fluxo de composição de catalisador secundária em relação à taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária. Por exemplo, a taxa de fluxo de gás condutor secundária pode ser aumentada se a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária for mais alta do que a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária, ou a taxa de fluxo de gás condutor secundária pode ser diminuída se a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária for

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26/31 mais baixa do que a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária.

[059] Em qualquer modalidade, a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária e a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária podem ser comparadas e controladas, por exemplo, aumentando ou diminuindo a taxa de fluxo de gás condutor secundária utilizando um sistema de controle automatizado. O sistema de controle automatizado pode ser qualquer sistema de controle automatizado, que inclui os sistemas de controle distributivos eletrônicos ou os sistemas de controle de computador. Em outras modalidades, o controle pode ser executado manualmente.

[060] O sistema de alimentação de pasta primário 14, pode ainda suprir um líquido condutor primário 28 e/ou um gás condutor primário 38. As taxas de fluxo do condutor primário e do gás condutor primário 38 afetam a taxa de fluxo da composição de catalisador de pasta primária 30. Assim, em algumas modalidades, a taxa de fluxo de líquido condutor primária ou a taxa de fluxo de gás condutor primária pode ser ajustada para ajustar a taxa de fluxo de composição de catalisador primária. Isto afeta a razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a secundária, assim efetivamente ajustando a taxa de fluxo de composição de catalisador secundária em relação à taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária. DISPOSITIVOS DE INJEÇÃO [061] Os dispositivos de injeção de catalisador primário e secundário 18, 26 podem ser de qualquer projeto adequado para injetar a composição de catalisador de pasta no reator

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27/31 de polimerização. As Patentes US n° 6.606.675, 6.608.149, e 6.956.089 discutem as composições de composições de catalisador de pasta, os sistemas para produzir as composições de catalisador de pasta, e o equipamento de

injeção	(dispositivos) adequado para utilização com a
corrente	invenção.
[062]	Em qualquer modalidade, os dispositivos de injeção

de catalisador primário e secundário 18, 26 podem compreender um tubo de injeção de catalisador que passa dentro do reator através de uma vedação e estende para dentro do leito de fluido. A profundidade de inserção tipicamente depende do diâmetro do reator que pode estender em aproximadamente 1/20 a 1/2 do diâmetro de reator, aproximadamente 1/10 a 1/2, ou aproximadamente 1/5 a 1/3 do diâmetro de reator.

[063] O tubo de injeção pode estar suportado dentro de uma estrutura (tubo de suporte) dentro do leito de fluido para prover uma integridade estrutural. Este tubo de suporte pode ser um tubo de parede grossa com um diâmetro interno de aproximadamente 0,64 cm a aproximadamente 12,7 cm (1/4 de polegada a 5 polegadas), aproximadamente 1,3 cm a aproximadamente 7,6 cm (1/2 polegada a 3 polegadas), ou aproximadamente 1,9 cm a aproximadamente 5 cm (3/4 de polegada a 2 polegadas). O tubo de suporte pode estender através da parede de reator até aproximadamente o comprimento do tubo de injeção, permitindo que o tubo de injeção estenda além deste até aproximadamente 25,4 cm (10 polegadas), aproximadamente 0,25 cm a 12,7 cm (0,1 a 5 polegadas), ou aproximadamente 0,25 cm a 7,6 cm (0,1 a 3 polegadas). Em algumas modalidades, o tubo de injeção pode terminar logo dentro da extremidade do tubo de suporte. A extremidade do

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28/31 tubo de suporte dentro do reator pode ser cortada plana e perpendicular ao eixo geométrico do tubo, ou pode ser chanfrada a um ângulo que varia de aproximadamente 10 a 80 graus. A extremidade do tubo de suporte pode ser polida ou revestida com um material antiestático ou antisujeira.

[064] Um fluxo de purga de fluido (tipicamente monômero fresco, etileno, hexano, isopentano, gás reciclado, e similares) pode ser introduzido do exterior do reator pelo tubo de suporte abaixo para ajudar na dispersão da composição de catalisador permitindo a produção de partículas granulares de resina de boa morfologia com uma aglomeração diminuída e um APS (tamanho de partícula médio na faixa de aproximadamente 0,01 cm a 0.3 cm (0,005 a 0,10 polegadas). O fluxo de purga de fluido ajuda a minimizar a sujeira da extremidade do tubo de injeção de catalisador e dos tubos de suporte. Em algumas modalidades, a saída do tubo de suporte pode ser modelada com um bocal na extremidade para formar um jato ou dispersão de fluido de purga para ajudar na distribuição da composição de catalisador. Em algumas modalidades, o diâmetro interno do tubo de suporte é reduzido gradualmente em um afinamento para criar um bocal para acelerar e dispersar o fluxo de fluido.

PROCESSOS DE POLIMERIZAÇÃO [065] As modalidades aqui descritas podem ser adequadas para utilização em qualquer processo de polimerização em que um catalisador de pasta é alimentado em múltiplos pontos de injeção. Os processos podem incluir uma polimerização de leito de fluido de fase gasosa de uma ou mais olefinas, pelo menos uma das quais pode ser o etileno, propileno, ou outros monômeros, na presença de um catalisador (vide, por exemplo,

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29/31 as Patentes US n° 4.543.399, 4.588.790, 5.028.670, 5.317.036, 5.352.749, 5.405.922, 5.436.304, 5.453.471, 5.462.999, 5.616.661 e 5.668.228). Outros processos de polimerização, especificamente processos de leito de fluido de fase gasosa, podem compreender um fluido de ciclo que compreende uma fase gasosa e uma fase líquida.

[066] O processo desta invenção pode ser direcionado para um processo de polimerização de fase gasosa de um ou mais monômeros de olefina de 3 a 30 átomos de carbono, de preferência 2 a 12 átomos de carbono, ou 2 a 8 átomos de carbono. A invenção está bem adequada para a polimerização de dois ou mais monômeros de olefina de etileno, propileno, buteno-1, penteno-1, 4-metil-penteno-1, hexeno-1, octeno-1 e deceno-1.

[067] Outros monômeros úteis no processo podem incluir os monômeros etilenicamente insaturados, diolefinas que têm 4 a 18 átomos de carbono, dienos conjugados ou não conjugados, polienos, monômeros de vinila e olefinas cíclicas. Os monômeros não limitantes úteis na invenção podem incluir o norborneno, norbornadieno, isobutileno, isopreno, vinilbenzociclobutano, estirenos, estireno de alquila substituída, etileno norborneno, diciclopentadieno e ciclopenteno.

[068] Em uma classe de modalidades, um copolímero de etileno pode ser produzido, onde com o etileno, um comonômero que tem pelo menos uma alfa-olefina que tem de 3 a 15 átomos de carbono, de 4 a 12 átomos de carbono, ou de 4 a 8 átomos de carbono pode ser polimerizada em um processo de fase gasosa. A pressão de reator em um processo da fase gasosa pode variar de aproximadamente 690 kPa padrão (100 psig) a

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30/31 aproximadamente 4138 kPa padrão (600 psig), de aproximadamente 1379 kPa padrão (200 psig) a aproximadamente 2759 kPa padrão (400 psig), ou de aproximadamente 1724 kPa padrão (250 psig) a aproximadamente 2414 kPa padrão (350 psig).

[069] A temperatura de reator em um processo de fase gasosa durante a etapa de contactação pode variar de aproximadamente 30°C a aproximadamente 120°C, aproximadamente 60°C a aproximadamente 115°C, aproximadamente 70°C to 110°C, ou aproximadamente 70°C a aproximadamente 95°C.

[070] Outros processos de fase gasosa contemplados pela invenção incluem processos de polimerização em série ou em múltiplos estágios. Também os processos de fase gasosa contemplados pela invenção podem incluir aqueles descritos nas Patentes US n° 5.627.242, 5.665.818 e 5.677.375, e nas

Publicações Européias EP-A- n^s0 794 200 EP-B1- n^s 0 649 992, EP-A- n^s 0 802 202 e EP-B- n^s 634 421.

[071] A invenção pode também ser direcionada para um processo de polimerização, por exemplo, um processo de polimerização de fase gasosa, para polimerizar o propileno somente ou com um ou mais outros monômeros que incluem o etileno, e/ou outras olefinas que têm de 4 a 12 átomos de carbono. Os polímeros baseados em propileno que podem ser produzidos no processo incluem o polipropileno atático, o polipropileno isotático, e o polipropileno sindiotático. Outros polímeros de propileno incluem o propileno randômico, os copolímeros de bloco ou impacto.

[072] As frases, a menos que de outro modo especificadas, consiste essencialmente em e consistindo essencialmente em não excluem a presença de outras etapas, elementos, ou

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31/31 materiais, sendo ou não, especificamente mencionados nesta especificação, desde que tais etapas, elementos, ou materiais, não afetem as características básicas e novas da invenção, além disso, estes não excluem as impurezas e as variâncias normalmente associadas com os elementos e os materiais utilizados.

[073]

Para o bem da brevidade, somente certas faixas estão explicitamente aqui descritas.

No entanto, faixas de qualquer limite inferior podem ser combinadas com qualquer limite superior para recitar uma faixa não explicitamente recitada, assim como, faixas de qualquer limite inferior podem ser combinadas com qualquer outro limite inferior para recitar uma faixa não explicitamente recitada, no mesmo modo, faixas de qualquer limite superior podem ser combinadas com qualquer outro limite superior para recitar uma faixa não explicitamente recitada. Além disso, dentro de uma faixa inclui todos os pontos ou valores individuais entre os seus pontos finais mesmo se não explicitamente recitado. Assim, todos os pontos ou valores individuais podem servir como o seu próprio limite inferior qualquer outro ponto ou valor limite inferior ou superior, ou superior combinado com individual ou qualquer outro para recitar uma faixa não explicitamente recitada.

Claims

REIVINDICAÇÕES

1. Sistema para alimentar uma composição de catalisador de pasta caracterizado pelo fato de compreender:

(a) um sistema de alimentação de pasta primário que compreende um medidor de fluxo de pasta primário e um dispositivo de injeção de catalisador primário, em que o medidor de fluxo de pasta primário mede uma taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para o dispositivo de injeção de catalisador primário; e (b) um sistema de alimentação de pasta secundário que compreende um medidor de fluxo de pasta secundário, um líquido condutor secundário, um dispositivo de controle de líquido condutor secundário, e um dispositivo de injeção de catalisador secundário, em que o medidor de fluxo de pasta secundário mede uma taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária para o dispositivo de injeção de catalisador secundário, em que o dispositivo de controle de líquido condutor secundário controla um parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário com base em uma razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária, em que o sistema de alimentação de pasta secundário ainda compreende um medidor de fluxo de líquido condutor secundário, um controlador de líquido condutor secundário, e um controlador de fluxo de pasta secundário, em que o parâmetro de processo controlado pelo dispositivo de controle de líquido condutor secundário é uma taxa de fluxo de líquido condutor secundária medida pelo medidor de fluxo de líquido condutor secundário, em que o controlador de

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2/7 líquido condutor secundário controla o dispositivo de controle de líquido condutor secundário com base na taxa de fluxo de líquido condutor secundária e um ponto de ajuste de fluxo de condutor secundário do controlador de fluxo de pasta secundário.

2. Sistema, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o sistema para alimentar uma composição de catalisador de pasta compreende pelo menos dois sistemas de alimentação de pasta secundários.
3. Sistema, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que o sistema de alimentação de pasta secundário ainda compreende:

(a) um dispositivo de controle de fluxo de pasta secundário;

(b) um misturador de condutor/catalisador secundário; e (c) um gás condutor secundário.
4. Sistema para alimentar uma composição de catalisador de pasta caracterizado pelo fato de compreender:

(a) um sistema de alimentação de pasta primário que compreende um medidor de fluxo de pasta primário e um dispositivo de injeção de catalisador primário, em que o medidor de fluxo de pasta primário mede uma taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para o dispositivo de injeção de catalisador primário; e (b) um sistema de alimentação de pasta secundário que compreende um medidor de fluxo de pasta secundário, um gás condutor secundário, condutor secundário, um dispositivo de controle de gás e um dispositivo de injeção de catalisador secundário, em que o medidor de fluxo de pasta secundário mede uma taxa de fluxo de composição de

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3/7 catalisador de pasta secundária para o dispositivo de injeção de catalisador secundário, em que o dispositivo de controle de gás condutor secundário controla um parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário com base em uma razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária, em que o sistema de alimentação de pasta secundário ainda compreende um medidor de fluxo de gás condutor secundário, um controlador de gás condutor secundário, e um controlador de fluxo de pasta secundário, em que o parâmetro de processo controlado pelo dispositivo de controle de gás condutor secundário é uma taxa de fluxo de gás condutor secundária medida pelo medidor de fluxo de gás condutor secundário, em que o controlador de gás condutor secundário controla o dispositivo de controle de gás condutor secundário com base na taxa de fluxo de gás condutor secundária e um ponto de ajuste de fluxo de condutor secundário do controlador de fluxo de pasta secundário.
5. Sistema, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a

4, caracterizado pelo fato de que o controlador de fluxo de pasta secundário recebe a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária como uma variável de processo medida e a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária como um ponto de ajuste de variável de processo e gera o ponto de ajuste de fluxo condutor secundário.
6. Sistema, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a

5, caracterizado pelo fato de que a razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de

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4/7 fluxo de composição de catalisador de pasta secundária pode ser controlada de 0,9:1 a 1,1:1.
7. Sistema, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado pelo fato de o sistema de alimentação de pasta primário compreender ainda:

(a) um dispositivo de controle de fluxo de pasta primário;

(b) um líquido condutor primário;

(c) um dispositivo de controle de líquido condutor primário;

(d) um misturador de condutor/catalisador primário;

(e) um dispositivo de injeção de catalisador primário; e (f) um gás condutor primário.
8. Método para controlar um fluxo de catalisador de pasta caracterizado pelo fato de compreender as etapas de:

(a) prover uma composição de catalisador de pasta;

(b) dividir a composição de catalisador de pasta em uma composição de catalisador de pasta primária e uma composição de catalisador de pasta secundária;

(c) medir uma taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária da composição de catalisador de pasta primária;

(d) suprir a composição de catalisador de pasta primária para um dispositivo de injeção de catalisador primário;

(e) medir uma taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária da composição de catalisador de pasta secundária;

(f) controlar um parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário com base em uma razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta

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5/7 secundária, em que o parâmetro de processo afeta a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária; e (g) suprir a composição de catalisador de pasta secundária para um dispositivo de injeção de catalisador secundário, em que o parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário é uma taxa de fluxo de líquido condutor secundária, e em que o método ainda compreende as etapas de:

(a) suprir um líquido condutor secundário;

(b) comparar a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária e a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária; e (c) aumentar ou diminuir taxa de fluxo de líquido condutor secundária para ajustar taxa de fluxo de composição de catalisador secundária em relação à taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária.
9. Método, de acordo com a reivindicação

8, caracterizado pelo fato de que a taxa de fluxo de líquido condutor secundária é aumentada se a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária for mais alta do que a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária ou a taxa de fluxo de líquido condutor secundária é diminuída se a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária for mais baixa do que a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária.
10. Método, de acordo com a reivindicação 9, caracterizado pelo fato de que a comparação da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária e da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária, e o a diminuição da taxa de fluxo de líquido condutor aumento ou secundária são executadas por um sistema de controle automatizado.

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11. Método, de acordo com a reivindicação 8, caracterizado pelo fato de compreender ainda a etapa de suprir um gás condutor secundário.
12. Método, de acordo com a reivindicação 11, caracterizado pelo fato de que o parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário é uma taxa de fluxo de gás condutor secundária, e em que o método compreende as etapas de:

(a) comparar a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária e a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária; e (b) aumentar ou diminuir a taxa de fluxo de gás condutor secundária para ajustar a taxa de fluxo de composição de catalisador secundária em relação à taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária.
13. Método, de acordo com a reivindicação 12, caracterizado pelo fato de que a comparação da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária e da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária, e o aumento ou a diminuição da taxa de fluxo de gás condutor secundária são executadas por um sistema de controle automatizado.
14. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 8 a

13, caracterizado pelo fato de que a razão de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária é efetivamente controlada pelo controle do parâmetro de processo.
15. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 8 a

14, caracterizado pelo fato de que o parâmetro de processo do sistema de alimentação de pasta secundário é controlado de

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7/7 modo que a razão da taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária para a taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta secundária é de 0,9:1 a 1,1:1.
16. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 8 a 15, caracterizado pelo fato de compreender ainda a etapa de ajustar a taxa de fluxo de líquido condutor primária ou a taxa de fluxo de gás condutor primária para ajustar a taxa de fluxo de composição de catalisador secundária em relação à taxa de fluxo de composição de catalisador de pasta primária.