BRPI0414338B1 - dispositivo para realização de um tratamento químico ou físico - Google Patents

Abstract

"dispositivo para realização de um tratamento químico ou físico". a presente invenção refere-se a um dispositivo para tratamento químico ou físico, compreendendo uma estrutura (2), na qual é disposta uma plataforma giratória (5) de forma rotativa. vasos de reação (7) são dispostos na plataforma giratória (5) e uma diferente conexão entre as linhas de alimentação/descarga, as quais são conectadas de modo fixo à estrutura (2) e aos vasos de ração (7), é constantemente fornecida através de uma unidade de válvula (8). a unidade de válvula (8) compreende dois discos (9, 10), cada qual fornecido com portas que são posicionadas de modo oposto entre si em posições constantemente modificadas. a fim de minimizar o tempo não-operacional, é realizado um movimento de graduação utilizando a plataforma giratória (5). no caso de instalações relativamente grandes, para prevenir forças associadas de afetarem o movimento da unidade de válvula, se propõe que a unidade de válvula (9) seja encaixada diretamente na plataforma giratória (5) e que a plataforma giratória (4) seja acionada diretamente pelo motor (12).

Description

"DISPOSITIVO PARA REALIZAÇÃO DE UM TRATAMENTO QUÍMICO OU FÍSICO". A presente invenção refere-se a ura dispositivo para realização de um tratamento químico ou físico, compreendendo uma estrutura estacionária com uma plataforma giratória disposta na estrutura, de modo que possa girar sobre um eixo central, em cuja plataforma giratória existe um número de vasos de reação, estando presente uma unidade de válvula, a unidade de válvula compreendendo uma parte de válvula rotativa do tipo disco disposta concentricamente com relação ao dito eixo central, e uma parte de válvula estacionária, a qual é posicionada de modo oposto à parte de válvula rotativa, sendo conectada à estrutura, cada parte de válvula sendo fornecida de portas que são movidas de modo oposto entre si numa ordem modificada, estando também presentes conexões entre a parte de válvula rotativa e os ditos vasos de reação e entre a parte de válvula estacionária e as linhas de alimentaçâo/descarga, assim como, um motor para graduação do movimento da dita parte de válvula rotativa, cujo motor é conectado à dita parte de válvula rotativa através de uma transmissão.

Um dispositivo desse tipo é geralmente conhecido no estado da técnica. A direção de fluxo relativo e o meio usado para o vaso podem ser alterados conforme desejado, por meio de aberturas nas diferentes placas da unidade cte válvula, sendo movidas numa posição em que se dispõem de modo oposto entre si. Uma vez que o fluxo total é apenas possível na posição em que as portas se dispõem opostas entre si, é objetivado para o período em que a conexão de fluxo é bloqueada durante a rotação, que o mesmo seja minimizado. Isso é possível possibilitando a unidade de válvula executar ura movimento de graduação. No caso de instalações de laboratório relativamente pequenas, é possível não apenas possibilitar a unidade de válvula executar um movimento de graduação desse tipo, como também permite aos vasos ou colunas assim procederem.

Entretanto, no caso de instalações maiores, as forças de inércia são tão grandes que se o eixo sobre o qual a unidade de válvula e a plataforma giratória são dispostos for acionado em um movimento de graduação, as deformações serão tais que um controle preciso não será mais possível.

Para evitar esse problema, é proposto no estado da técnica que o acionamento da unidade de válvula e da plataforma giratória seja desacoplado. Nesse caso, a pesada plataforma giratória (peso acima de diversas toneladas) pode executar um movimento contínuo e uniforme e a unidade de válvula pode executar o movimento de graduação descrito acima. Entretanto, nesse caso, é necessário proporcionar estruturas complicadas. Além disso, é necessário se proporcionar linhas de conexão flexíveis entre a unidade de válvula e a plataforma giratória. Isso torna o modelo complicado, suscetível a danos e dispendioso. 0 objetivo da presente invenção é de proporcionar um dispositivo que possa ser consideravelmente produzido em escala e também com um modelo particularmente simples, permitindo ainda um movimento de graduação ser realizado.

Em um dispositivo conforme descrito acima, esse objetivo é alcançado em virtude do fato de que a dita transmissão compreende uma parte circular da dita plataforma giratória, a dita parte de válvula rotativa sendo diretamente conectada à dita plataforma giratória.

De acordo com a presente invenção, não é mais necessário para um eixo, no qual uma plataforma giratória e uma unidade de válvula são dispostas para acionamento, e que, ao invés disso, a plataforma giratória seja acionada diretamente. Tal acionamento é preferencialmente efetuado por meio de um formato de denteamento disposto ao longo do perímetro da plataforma giratória. Foi encontrado que no estado da técnica existem (servo-) motores que podem executar o desejado movimento de graduação. Entretanto, foi encontrado que as forças que são transmitidas para a plataforma giratória pelo eixo em um modelo conhecido, quando do acionamento de um eixo desse tipo, são tão grandes que meios de torção fazem com que a unidade de válvula não seja mais sempre movida na posição correta. Se, em conformidade com a presente invenção, a plataforma giratória for agora acionada diretamente no seu perímetro, se torna possível evitar uma torção dessa natureza. Apesar de tudo, o perímetro da plataforma giratória é muito maior que o diâmetro do eixo central. Como exemplo, valores superiores a 2 m podem ser mencionados, üm acionamento desse tipo pode ser facilmente efetuado usando uma correia dentada, corrente ou dispositivo similar. Um formato de denteamento correspondente é disposto na vizinhança do perímetro da plataforma giratória.

De acordo com uma modalidade vantajosa, sobre ou na vizinhança do perímetro ou em qualquer local da plataforma giratória ou parte de válvula rotativa, existem meios sensores de posicionamento que interagem com correspondentes meios sensores de posicionamento na estrutura, por meio dos quais, o servo-motor pode ser atuado ou, se apropriado, corrigido. 0 dispositivo descrito acima é particularmente adequado para máquinas relativamente pesadas. Um exemplo de tal máquina é um dispositivo em que a plataforma giratória apresenta um diâmetro de aproximadamente dez metros e um peso de até 350 toneladas.

Para executar o movimento de graduação, o servo-motor é preferencialmente projetado, de tal modo que sua velocidade seja gradualmente variável (inicio suave), de modo que a carga sobre o dispositivo seja minimizada.

Mediante uso da presente invenção, não se faz mais necessária a utilização de mangueiras flexíveis, podendo-se proceder com um mancai simples e relativamente curto da plataforma giratória. Ά invenção será melhor explicada abaixo, com referência a uma modalidade exemplificativa ilustrada nos desenhos, em que: - a figura 1 ilustra de forma diagramática um dispositivo de acordo com a presente invenção; e - a figura 2 ilustra um detalhe do acionamento para a plataforma giratória.

Na figura 1, a referência (1) indica um dispositivo para realização de um tratamento químico ou físico. Deverá ser entendido que este tratamento pode compreender qualquer tratamento que utiliza vasos ou colunas. Os vasos desse tipo têm de ser regularmente regenerados, purgados, etc. Para tal fim, os vasos ou colunas (7) são dispostos numa plataforma giratória (5). A plataforma ou torre giratória (5} se apóia, através de rolos (6), numa estrutura estacionária (2), sobre a qual uma articulação (3) é também disposta. O eixo de rotação é indicado por (17) . A referência (8) indica uma unidade de válvula, a qual, em parte, é disposta rotativamente. A parte rotativa da unidade de válvula é indicada por (9) e a parte estacionária indicada por (10). A parte rotativa (9) é montada através de mancais (4, 11) na articulação (3) e parte estacionária (10), respectivamente. Existe uma placa deslizante de teflon (19), a qual é conectada tanto à parte estacionária como à parte rotativa (9) da unidade de válvula. Em cada placa de válvula, existe um grande número de aberturas dispostas em círculos (concêntricos) e cada uma dessas aberturas ou portas são indicadas por (20) e (21). Quando essas aberturas são localizadas de modo oposto entre si, uma conexão fluida é criada entre as linhas (23), que se estendem da estrutura e as linhas (25), que proporcionam conexão entre a parte de válvula rotativa e os vasos (7). Podem também existir linhas auxiliares (24), que permitem conexão em série das diversas colunas (7) . Conforme é geralmente conhecido no estado da técnica, todos os tipos de conexões podem ser implementados entre as linhas e as vizinhanças (23) e entre as colunas com a unidade de válvula. A parte de válvula rotativa (9) é conectada ao carrossel ou plataforma giratória (5) através de uma peça amortecedora, tal como, um bloco de borracha (22) . A plataforma giratória (5) é dotada de um formato de denteamento externo (26) (conforme visto na figura 2), sobre o qual atua uma corrente de acionamento (13), a corrente de acionamento (13), por sua vez, sendo acoplada ao servo-motor (12) , o qual é controlado com a unidade de controle (18) . Conforme pode ser visto da figura 2, existe um rolo de ajuste (14) para a cadeia e um rolo de tensionamento (15). A informação relativa à posição da plataforma giratória com relação à estrutura é transmitida para a unidade de controle (18), de uma maneira que não é ilustrada em maiores detalhes. Com base nessa informação, o servo-motor pode executar uma correção ou o servo-motor pode ser auto-controlado com base nessa informação.

Desde que é sempre desejável se proporcionar uma conexão fluida entre o vaso (7) e o ambiente ou entre os diversos vasos (embora em um número de diferentes conexões de circuito) , o tempo para o qual as aberturas não são alinhadas deve ser minimizado. Para o alcance disto, o movimento rotativo da parte de válvula rotativa é realizado com base em graduação, isto é, as aberturas (20), (21) são posicionadas opostamente entre si por um periodo de tempo relativamente grande, enquanto o movimento para a posição seguinte toma apenas um tempo relativamente curto.

Uma vez que o projeto de plataforma giratória e vasos produz um peso relativamente alto, uma considerável torção seria produzida em um eixo se a unidade fosse para ser acionada com a ajuda de tal eixo. Entretanto, de acordo com a invenção, a plataforma giratória é acionada diretamente em seu perímetro externo, isto é, a estrutura de plataforma giratória é submetida raramente a qualquer carga de torção. Foi descoberto que o estado da técnica utiliza tais motores pesados e que um movimento de graduação desse tipo pode ser vinculado às estruturas, mesmo pesando diversas centenas de toneladas. Uma vez que a parte de válvula rotativa (9) é diretamente conectada à plataforma giratória, ela também segue precisamente esse movimento. É preferível que não exista estrutura de eixo rígido entre a parte de válvula rotativa (9) e a plataforma giratória (5).

Da maneira descrita acima, é possível, do mesmo modo, se projetar instalações relativamente grandes de um modo particularmente simples.

Embora a invenção acima tenha sido descrita na forma de uma modalidade preferida, deverá ser entendido que numerosas modificações poderão ser feitas à presente modalidade sem que seja afastado o escopo do presente pedido de patente. Modificações dessa natureza são óbvias para um especialista versado na técnica e se enquadram dentro do escopo das reivindicações anexas.

Claims (10)

1. Dispositivo (1) para realização de um tratamento quimico ou físico, compreendendo uma estrutura estacionária (2) com uma plataforma giratória (5) disposta na estrutura, de modo que possa girar sobre um eixo central (17), em cuja plataforma giratória (5) existe um número de vasos de reação (7), estando presente uma unidade de válvula (8), a unidade de válvula compreendendo uma parte de válvula rotativa (9) do tipo disco disposta concentricamente com relação ao eixo central (17), e uma parte de válvula estacionária (10), a qual é posicionada de modo oposto à parte de válvula rotativa (9) e é conectada à estrutura, cada parte de válvula sendo fornecida de portas (20, 21), que são movidas de modo oposto entre si numa ordem modificada, estando também presentes conexões entre a parte de válvula rotativa (9) e os vasos de reação (7) e entre a parte de válvula estacionária (10) e as linhas de alimentação/descarga, assim como, um motor (12), para graduação do movimento da parte de válvula rotativa (9), caracterizado pelo fato de que o motor (12) é conectado à parte de válvula rotativa (9) através de uma transmissão que compreende uma parte circular da plataforma giratória (5), a parte de válvula rotativa (9) sendo diretamente conectada à plataforma giratória (5).

2. Dispositivo conforme reivindicado na reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a dita transmissão compreende uma correia dentada ou uma corrente {13) .

3. Dispositivo conforme reivindicado na reivindicação 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que o motor (12) compreende um servo-motor.

4. Dispositivo, conforme reivindicado na reivindicação 1 ou 3, caracterizado pelo fato de que uma ponta de eixo (3) se estende da dita estrutura, na qual a plataforma giratória (5) é articulada.

5. Dispositivo, conforme reivindicado em qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado pelo fato de que a válvula rotativa (9) se dispõe substancialmente no mesmo plano que a parte circular da plataforma giratória (5) .

6. Dispositivo, conforme reivindicado em qualquer uma das reivindicações 1 a 5, caracterizado pelo fato de que a plataforma giratória (5) e a dita estrutura são dotados de meios determinativos de posição de interação.

7. Dispositivo, conforme reivindicado em qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado pelo fato de que a plataforma giratória (5) compreende uma placa circular com um diâmetro de pelo menos 2 m.

8. Dispositivo, conforme reivindicado em qualquer uma das reivindicações 2 a 7, caracterizado por compreender meios de tensionamento (15) para a correia dentada ou corrente (13) .

9. Dispositivo, conforme reivindicado em qualquer uma das reivindicações 1 a 8, caracterizado pelo fato de que a plataforma giratória (5) compreende um disco circular, no interior do qual a parte de válvula rotativa (9) é disposta.

10. Dispositivo, conforme reivindicado em qualquer uma das reivindicações 1 a 9, caracterizado pelo fato de que meios de acionamento de amortecedores (22) são dispostos entre a parte de válvula rotativa (9) e o dito disco circular.