BR112021010421A2 - Electrolytic gas evolution electrode - Google Patents

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Alice GARGIULO
Toshikazu HAYASHIDA
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Industrie De Nora S.P.A.
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Abstract

ELETRODO PARA EVOLUÇÃO ELETROLÍTICA DE GÁS. A invenção se refere a um eletrodo para evolução de gás em processos eletrolíticos compreendendo um substrato de metal de válvula e um revestimento catalítico compreendendo duas camadas. Uma primeira camada compreendendo óxidos de metal de válvula, rutênio e irídio e uma segunda camada compreendendo um ou mais metais escolhidos dentre elementos do grupo platina.ELECTRODE FOR ELECTROLYTIC EVOLUTION OF GAS. The invention relates to an electrode for gas evolution in electrolytic processes comprising a valve metal substrate and a catalytic coating comprising two layers. a first layer comprising valve metal oxides, ruthenium and iridium and a second layer comprising one or more metals chosen from among platinum group elements.

Description

“ELETRODO PARA EVOLUÇÃO ELETROLÍTICA DE GÁS”"ELECTRODE FOR ELECTROLYTIC EVOLUTION OF GAS" CAMPO DA INVENÇÃOFIELD OF THE INVENTION

[0001] A invenção se refere a um eletrodo para evolução de gás em processos eletrolíticos compreendendo um substrato de metal de válvula e um revestimento catalítico compreendendo duas camadas. Uma primeira camada compreendendo metal de válvula, óxidos de rutênio e irídio e uma segunda camada compreendendo um ou mais metais escolhidos dentre os elementos do grupo platina.[0001] The invention relates to an electrode for gas evolution in electrolytic processes comprising a valve metal substrate and a catalytic coating comprising two layers. A first layer comprising valve metal, oxides of ruthenium and iridium and a second layer comprising one or more metals chosen from platinum group elements.

ANTECEDENTES DA INVENÇÃOBACKGROUND OF THE INVENTION

[0002] O campo da invenção se refere à preparação de um revestimento catalítico para eletrodos usados em processos de eletrólise de salmoura. Este revestimento é aplicado a um substrato de metal, tipicamente titânio ou outro metal de válvula.[0002] The field of the invention relates to the preparation of a catalytic coating for electrodes used in brine electrolysis processes. This coating is applied to a metal substrate, typically titanium or other valve metal.

[0003] Ao longo dos anos, a tecnologia de eletrólise de salmoura foi submetida a inovações para uma implementação eficiente a partir do ponto de vista de energia e a partir do custo/benefício do uso de recursos. Neste contexto cada vez mais desafiador, a otimização do ânodo desenvolve uma função-chave. Em particular, inúmeros esforços foram feitos a fim de reduzir a sobretensão do ânodo na geração de cloro e a fim de reduzir a concentração de oxigênio no cloro gasoso gerado e, portanto, produzir cloro gasoso com uma pureza alta.[0003] Over the years, brine electrolysis technology has been subjected to innovations for an efficient implementation from an energy point of view and from the cost/benefit of the use of resources. In this increasingly challenging context, anode optimization plays a key role. In particular, numerous efforts have been made in order to reduce the anode overvoltage in the generation of chlorine and in order to reduce the oxygen concentration in the chlorine gas generated and therefore produce chlorine gas with a high purity.

[0004] Uma dificuldade adicional se situa na obtenção de um eletrodo capaz de manter alto desempenho para um longo período de tempo.[0004] An additional difficulty lies in obtaining an electrode capable of maintaining high performance for a long period of time.

[0005] De modo geral, os processos para eletrólise de salmouras, por exemplo, salmouras de cloreto alcalino como cloreto de sódio, para a produção de cloro e soda cáustica, são executados com ânodos feitos de titânio ou outro metal de válvula, ativado com uma camada superficial de dióxido de rutênio (RuO2) opcionalmente misturado com dióxido de estanho (SnO2) e outro metal nobre, como, por exemplo, descrito no documento EP0153586. Consequentemente, é possível obter uma redução na sobretensão da reação anódica de evolução de cloro e, portanto, no consumo geral de energia.[0005] In general, the processes for electrolysis of brines, for example, brines of alkali chloride such as sodium chloride, for the production of chlorine and caustic soda, are carried out with anodes made of titanium or other valve metal, activated with a surface layer of ruthenium dioxide (RuO2) optionally mixed with tin dioxide (SnO2) and another noble metal, as, for example, described in EP0153586. Consequently, it is possible to obtain a reduction in the overvoltage of the chlorine evolution anodic reaction and therefore in the overall energy consumption.

[0006] A formulação recém-descrita, juntamente com as outras formulações contendo estanho, tem, entretanto, o problema de também reduzir a sobretensão da reação de desenvolvimento de oxigênio concomitante, levando à produção de gás de cloro contaminado com uma quantidade excessiva de oxigênio.[0006] The newly described formulation, along with the other tin-containing formulations, however, has the problem of also reducing the overvoltage of the concomitant oxygen development reaction, leading to the production of chlorine gas contaminated with an excessive amount of oxygen. .

[0007] Outro aprimoramento parcial no desempenho é obtido aplicando a um substrato de metal uma formulação com base em RuO2 e SnO2 combinados com uma quantidade reduzida de IrO2 como, por exemplo, descrito no documento WO2016083319. Uma formulação similar permite que valores ideais de potencial de célula e quantidades moderadas de oxigênio sejam obtidos.[0007] Another partial improvement in performance is obtained by applying to a metal substrate a formulation based on RuO2 and SnO2 combined with a reduced amount of IrO2 as, for example, described in WO2016083319. A similar formulation allows optimal values of cell potential and moderate amounts of oxygen to be obtained.

[0008] Outros revestimentos da técnica anterior como, por exemplo, a formulação descrita no documento WO2012081635 compreendendo dois revestimentos catalíticos, o primeiro contendo titânio e óxidos de metal nobre e o segundo contendo uma liga de platina e paládio, também permitem valores ideais de potencial de célula e quantidades reduzidas de oxigênio em gás de cloro sejam obtidos; entretanto, os mesmos não dotam o eletrodo de uma resistência ideal capaz de manter níveis superiores de desempenho, em relação à atividade catalítica e seletividade, por um período de tempo adequado.[0008] Other prior art coatings, such as the formulation described in WO2012081635 comprising two catalytic coatings, the first containing titanium and noble metal oxides and the second containing an alloy of platinum and palladium, also allow ideal values of potential of cell and reduced amounts of oxygen in chlorine gas are obtained; however, they do not provide the electrode with an ideal resistance capable of maintaining superior levels of performance, in relation to catalytic activity and selectivity, for an adequate period of time.

[0009] O documento US 2013/0186750 A1 descreve um eletrodo adequado para evolução de cloro que tem camadas alternadas de duas composições distintas, a saber, um tipo de camadas compreendendo irídio, rutênio e metais de válvula e outro tipo de camada compreendendo óxidos de irídio, rutênio e estanho.[0009] US 2013/0186750 A1 describes an electrode suitable for chlorine evolution which has alternating layers of two distinct compositions, namely one type of layers comprising iridium, ruthenium and valve metals and another type of layer comprising oxides of iridium, ruthenium and tin.

[0010] O documento US 2013/0334037 A1 descreve um eletrodo para eletrólise incluindo um substrato condutor, uma primeira camada formada no substrato condutor contendo pelo menos um óxido selecionado a partir de óxido de rutênio, óxido de irídio e óxido de titânio e uma segunda camada formada na primeira camada contendo uma liga de platina e paládio.[0010] US 2013/0334037 A1 describes an electrode for electrolysis including a conductive substrate, a first layer formed on the conductive substrate containing at least one oxide selected from ruthenium oxide, iridium oxide and titanium oxide and a second layer formed on the first layer containing an alloy of platinum and palladium.

[0011] O documento US 4.626.334 descreve um ânodo compreendendo um substrato eletrocondutor dotado de um revestimento de solução sólido de (Ru-Sn)O2 para eletrólise de salmoura.[0011] US 4,626,334 describes an anode comprising an electroconductive substrate provided with a coating of solid solution of (Ru-Sn)O2 for electrolysis of brine.

[0012] O documento JP S62243790 descreve um eletrodo tendo uma primeira camada de revestimento compreendendo uma mistura de platina e óxido de irídio e uma segunda camada de revestimento compreendendo uma mistura de óxido de rutênio e óxido de estanho.[0012] JP S62243790 describes an electrode having a first coating layer comprising a mixture of platinum and iridium oxide and a second coating layer comprising a mixture of ruthenium oxide and tin oxide.

[0013] Portanto, é evidente a necessidade de identificar um novo revestimento catalítico para eletrodos para evolução de produtos gasosos em células eletrolíticas em processos de eletrólise de salmoura, caracterizado por um nível superior de atividade catalítica e por uma resistência alta capaz de sustentar níveis superiores de desempenho por um longo período de tempo sob as condições operacionais comuns em relação às formulações da técnica anterior.[0013] Therefore, there is an evident need to identify a new catalytic coating for electrodes for the evolution of gaseous products in electrolytic cells in brine electrolysis processes, characterized by a higher level of catalytic activity and a high resistance capable of sustaining higher levels performance for a longer period of time under common operating conditions over prior art formulations.

SUMÁRIO DA INVENÇÃOSUMMARY OF THE INVENTION

[0014] Vários aspectos da presente invenção são descritos nas reivindicações anexas.[0014] Various aspects of the present invention are described in the appended claims.

[0015] A presente invenção se refere a um eletrodo para evolução de produtos gasosos em células eletrolíticas, por exemplo, para evolução de cloro em células de eletrólise de salmoura alcalina, compreendendo um revestimento catalítico aplicado em um substrato de metal. No presente contexto, o termo revestimento catalítico indica duas camadas catalíticas diferentes com composições catalíticas diferentes em que a primeira camada catalítica formada no substrato compreende pelo menos uma mistura de irídio, de rutênio, de estanho e de platina ou seus óxidos ou respectivas combinações e uma segunda camada catalítica formada na primeira camada catalítica compreende platina e estanho ou seus óxidos ou respectivas combinações dos mesmos. O estanho da segunda camada catalítica está presente em uma concentração decrescente a partir da interface com a dita primeira camada catalítica em direção à superfície superior da segunda camada catalítica, isto é, superfície oposta à interface com a primeira camada catalítica, e a platina da dita primeira camada catalítica está presente em uma concentração decrescente a partir da interface com a dita segunda camada catalítica em direção ao substrato.[0015] The present invention relates to an electrode for evolution of gaseous products in electrolytic cells, for example, for evolution of chlorine in alkaline brine electrolysis cells, comprising a catalytic coating applied on a metal substrate. In the present context, the term catalytic coating denotes two different catalytic layers with different catalytic compositions wherein the first catalytic layer formed on the substrate comprises at least a mixture of iridium, ruthenium, tin and platinum or oxides thereof or combinations thereof and a second catalytic layer formed on the first catalytic layer comprises platinum and tin or oxides thereof or combinations thereof. The tin of the second catalytic layer is present in decreasing concentration from the interface with said first catalytic layer towards the upper surface of the second catalytic layer, that is, the surface opposite the interface with the first catalytic layer, and the platinum of said first catalytic layer is present in decreasing concentration from the interface with said second catalytic layer towards the substrate.

[0016] A presente invenção também se refere a um eletrodo para evolução de produtos gasosos em células eletrolíticas, por exemplo, para evolução de cloro em células de eletrólise de salmoura alcalina, compreendendo um substrato de metal de válvula e um revestimento compreendendo uma primeira camada catalítica formada no dito substrato contendo uma mistura de irídio, rutênio, estanho e platina ou seus óxidos ou combinações dos mesmos e uma segunda camada catalítica formada na dita primeira camada catalítica contendo platina e estanho ou seus óxidos ou combinações dos mesmos, em que a dita primeira camada é obtida a partir de uma primeira solução precursora livre de platina compreendendo uma mistura de irídio, rutênio e estanho, aplicada ao dito substrato e submetida a um tratamento de calor, e em que a dita segunda camada catalítica é obtida a partir de uma segunda solução catalítica livre de estanho contendo platina, aplicada à dita primeira camada catalítica e submetida a um tratamento de calor. Os termos “livre de platina” e “livre de estanho” no sentido da presente invenção significam que a concentração de platina na primeira solução é pelo menos uma ordem de magnitude inferior à concentração de platina média na primeira camada obtida a partir da dita primeira solução e que a concentração de estanho na segunda solução é pelo menos uma ordem de magnitude inferior à concentração de estanho média na segunda camada obtida a partir da segunda solução. Preferencialmente, uma solução livre de platina contém platina no máximo como uma impureza e uma solução livre de estanho contém estanho no máximo como uma impureza.[0016] The present invention also relates to an electrode for evolution of gaseous products in electrolytic cells, for example for evolution of chlorine in alkaline brine electrolysis cells, comprising a valve metal substrate and a coating comprising a first layer catalytic layer formed on said substrate containing a mixture of iridium, ruthenium, tin and platinum or oxides thereof or combinations thereof and a second catalytic layer formed on said first catalytic layer containing platinum and tin or oxides thereof or combinations thereof, wherein said The first layer is obtained from a first platinum-free precursor solution comprising a mixture of iridium, ruthenium and tin, applied to said substrate and subjected to a heat treatment, and wherein said second catalytic layer is obtained from a second tin-free catalytic solution containing platinum, applied to said first catalytic layer and subjected to a treatment the heat. The terms "platinum-free" and "tin-free" in the sense of the present invention mean that the platinum concentration in the first solution is at least one order of magnitude lower than the average platinum concentration in the first layer obtained from said first solution. and that the tin concentration in the second solution is at least an order of magnitude lower than the average tin concentration in the second layer obtained from the second solution. Preferably, a platinum-free solution contains at most platinum as an impurity and a tin-free solution contains tin at most as an impurity.

[0017] Esta estrutura de camada dupla, aplicada a um substrato de metal, tipicamente titânio, liga de titânio ou outro metal de válvula, permite que uma economia no consumo de energia seja combinada com uma pureza excelente de gás de cloro produzido enquanto mantém características de desempenho ideais em termos de atividade catalítica e de seletividade por um longo período de tempo.[0017] This double layer structure, applied to a metal substrate, typically titanium, titanium alloy or other valve metal, allows energy savings to be combined with excellent purity of chlorine gas produced while maintaining characteristics optimal performance in terms of catalytic activity and selectivity over a long period of time.

[0018] A primeira camada catalítica, formada no substrato, preferencialmente compreende óxido de rutênio, óxido de irídio, óxido de estanho e platina metálica ou seus óxidos. RuO2 é amplamente conhecido por sua atividade catalítica excelente e sua estabilidade em um meio alcalino que é aprimorada pela presença de IrO2; a presença de SnO2 garante um consumo mais lento dos metais nobres presentes.[0018] The first catalytic layer, formed on the substrate, preferably comprises ruthenium oxide, iridium oxide, tin oxide and metallic platinum or oxides thereof. RuO2 is widely known for its excellent catalytic activity and its stability in an alkaline medium which is enhanced by the presence of IrO2; the presence of SnO2 guarantees a slower consumption of the noble metals present.

[0019] A segunda camada catalítica, formada na primeira camada, compreende estanho ou seus óxidos e um ou mais metais escolhidos dentre os elementos do grupo platina, especialmente a própria platina, que são conhecidos por aumentar a seletividade e por reduzir o consumo de energia.[0019] The second catalytic layer, formed in the first layer, comprises tin or its oxides and one or more metals chosen from among the platinum group elements, especially platinum itself, which are known to increase selectivity and reduce energy consumption. .

[0020] Os inventores observaram que um eletrodo com um revestimento catalítico similar, em que a dita segunda camada catalítica compreende platina em uma porcentagem molar com referência ao elemento metálico na faixa entre 48 e 96 % (ou, não levando o componente de estanho em consideração, de 50 e 99,999 %) na forma do metal ou seu óxido, pode oferecer a vantagem de reduzir subsequentemente a sobretensão da reação para evolução de cloro.[0020] The inventors have observed that an electrode with a similar catalytic coating, wherein said second catalytic layer comprises platinum in a molar percentage with reference to the metallic element in the range between 48 and 96% (or, not taking the tin component in consideration, of 50 and 99.999 %) in the form of the metal or its oxide, can offer the advantage of subsequently reducing the overvoltage of the reaction for chlorine evolution.

[0021] No contexto da presente invenção, faixas denotadas por “de” ou “entre” incluem os limites superior e inferior especificados, respectivamente.[0021] In the context of the present invention, ranges denoted by "from" or "between" include the specified upper and lower limits, respectively.

[0022] Em outra modalidade, além da platina e do estanho, a dita segunda camada catalítica compreende paládio ou ródio na forma de metais ou seus óxidos, ou combinações dos mesmos, em porcentagem molar com referência aos elementos metálicos na faixa entre 0 e 24 % (ou, não levando o componente de estanho em consideração, entre 0 e 25 %), em que os elementos estão na forma de metais ou óxidos dos mesmos. Isso pode garantir uma alta atividade catalítica em virtude da presença combinada de dois ou mais metais nobres.[0022] In another embodiment, in addition to platinum and tin, said second catalytic layer comprises palladium or rhodium in the form of metals or their oxides, or combinations thereof, in molar percentage with reference to metallic elements in the range between 0 and 24 % (or, not taking the tin component into account, between 0 and 25 %), where the elements are in the form of metals or oxides thereof. This can guarantee a high catalytic activity due to the combined presence of two or more noble metals.

[0023] A segunda camada catalítica preferencialmente compreende estanho ou seu óxido em uma porcentagem molar média em relação ao elemento metálico em uma faixa de 4 a 12 %. Visto que a concentração do componente de estanho varia em uma direção perpendicular à interface entre a primeira e a segunda camadas, a concentração de estanho é uma média do perfil de concentração através da segunda camada catalítica.[0023] The second catalytic layer preferably comprises tin or its oxide in an average molar percentage with respect to the metallic element in a range of 4 to 12%. Since the concentration of the tin component varies in a direction perpendicular to the interface between the first and second layers, the tin concentration is an average of the concentration profile across the second catalytic layer.

[0024] Portanto, em uma modalidade preferencial, além de impurezas inevitáveis, a segunda camada catalítica consiste em platina e estanho, e opcionalmente paládio e/ou ródio, em porcentagem molar com referência aos elementos metálicos nas faixas de 48 a 96 % de platina, de 4 a 12 % de estanho, de 0 a 24 % de paládio e de 0 a 24 % de ródio.[0024] Therefore, in a preferred embodiment, in addition to unavoidable impurities, the second catalytic layer consists of platinum and tin, and optionally palladium and/or rhodium, in mole percentage with reference to metallic elements in the ranges of 48 to 96% platinum , from 4 to 12% of tin, from 0 to 24% of palladium and from 0 to 24% of rhodium.

[0025] De acordo com uma modalidade preferencial do eletrodo supracitado, a primeira camada catalítica compreende metais ou óxidos de metal de irídio, rutênio, estanho em porcentagens molares de Ru = 24-34 %, Ir = 3- 13 %, Sn = 30-70 % com referência aos elementos metálicos.[0025] According to a preferred embodiment of the aforementioned electrode, the first catalytic layer comprises metals or metal oxides of iridium, ruthenium, tin in mole percentages of Ru = 24-34 %, Ir = 3-13 %, Sn = 30 -70 % with reference to metallic elements.

[0026] A primeira camada catalítica preferencialmente compreende platina ou seu óxido em uma porcentagem molar média em relação ao elemento metálico em uma faixa de 3 a 10 %. Visto que a concentração do componente de platina varia em uma direção perpendicular à interface entre a primeira e a segunda camadas, a concentração de platina é uma média do perfil de concentração através da primeira camada catalítica.[0026] The first catalytic layer preferably comprises platinum or its oxide in an average molar percentage with respect to the metallic element in a range of 3 to 10%. Since the concentration of the platinum component varies in a direction perpendicular to the interface between the first and second layers, the platinum concentration is an average of the concentration profile across the first catalytic layer.

[0027] Obviamente aqueles versados na técnica selecionarão as porcentagens molares dos elementos individuais de tal maneira que a soma total das porcentagens molares dos componentes seja 100. Especialmente, se nenhum outro metal estiver presente na primeira camada catalítica, óxidos de Sn ou Sn estão preferencialmente presentes em concentração de 55-70 % com referência ao elemento metálico.[0027] Obviously those skilled in the art will select the molar percentages of the individual elements in such a way that the sum total of the molar percentages of the components is 100. Especially, if no other metal is present in the first catalytic layer, oxides of Sn or Sn are preferably present in a concentration of 55-70% with reference to the metallic element.

[0028] Em outra modalidade, a dita primeira camada catalítica compreende outro metal de válvula escolhido dentre titânio, tântalo e nióbio, em uma quantidade, expressa em porcentagem molar, na faixa entre 30 e 40 % com referência ao elemento metálico; de fato, foi observado como a presença de outro metal de válvula como titânio permite que uma boa atividade catalítica seja combinada com um aumento substancial na resistência do eletrodo em processos que exigem inversão de corrente.[0028] In another embodiment, said first catalytic layer comprises another valve metal chosen from titanium, tantalum and niobium, in an amount, expressed in molar percentage, in the range between 30 and 40% with reference to the metallic element; in fact, it has been observed how the presence of another valve metal such as titanium allows good catalytic activity to be combined with a substantial increase in electrode resistance in processes that require current reversal.

[0029] Em uma modalidade preferencial, além de impurezas inevitáveis, a primeira camada catalítica consiste em irídio, rutênio, estanho e platina e opcionalmente titânio, em porcentagem molar com referência aos elementos metálicos nas faixas de 3 a 13 % de irídio, de 24 a 34 % de rutênio, de 30 a 70 % de estanho, de 3 a 10 % de platina e de 30 a 40 % de titânio.[0029] In a preferred embodiment, in addition to unavoidable impurities, the first catalytic layer consists of iridium, ruthenium, tin and platinum and optionally titanium, in molar percentage with reference to metallic elements in the ranges of 3 to 13% of iridium, of 24 34% ruthenium, 30 to 70% tin, 3 to 10% platinum and 30 to 40% titanium.

[0030] Os inventores observaram que, surpreendentemente, no revestimento catalítico descrito acima, ocorre um fenômeno de difusão entre camadas: o estanho da primeira camada catalítica se difunde na segunda camada, enquanto a platina da segunda camada catalítica se difunde na primeira camada. A difusão de estanho na segunda camada catalítica ocorre através de um gradiente de concentração, de modo que a quantidade de estanho na segunda camada catalítica seja máxima na interface entre as duas camadas catalíticas e diminua em direção à superfície externa da segunda camada catalítica.[0030] The inventors observed that, surprisingly, in the catalytic coating described above, an interlayer diffusion phenomenon occurs: tin from the first catalytic layer diffuses into the second layer, while platinum from the second catalytic layer diffuses into the first layer. The diffusion of tin in the second catalytic layer occurs through a concentration gradient, so that the amount of tin in the second catalytic layer is maximum at the interface between the two catalytic layers and decreases towards the outer surface of the second catalytic layer.

[0031] A presença de estanho difundido na segunda camada catalítica pode retardar vantajosamente o consumo dos metais nobres presentes na segunda camada catalítica, possibilitando características de desempenho ideais em termos de atividade catalítica e de seletividade a serem mantidas por um período de tempo mais longo, sem comprometer o desempenho catalítico.[0031] The presence of tin diffused in the second catalytic layer can advantageously delay the consumption of the noble metals present in the second catalytic layer, allowing ideal performance characteristics in terms of catalytic activity and selectivity to be maintained for a longer period of time, without compromising catalytic performance.

[0032] De modo semelhante, a difusão de platina da segunda camada catalítica na primeira camada catalítica é de modo que a quantidade de platina na primeira camada catalítica seja máxima na interface entre as duas camadas catalíticas e diminua gradualmente em direção à superfície interna da primeira camada catalítica.[0032] Similarly, the diffusion of platinum from the second catalytic layer into the first catalytic layer is such that the amount of platinum in the first catalytic layer is maximum at the interface between the two catalytic layers and gradually decreases towards the inner surface of the first. catalytic layer.

[0033] A difusão da platina na primeira camada catalítica permite que a atividade catalítica seja aprimorada. Isso permite adicionalmente que características de desempenho catalítico melhores sejam mantidas ao longo da vida útil do eletrodo, também em que o uso prolongado do mesmo causa desgaste da segunda camada ao longo do tempo. Os elementos presentes e a estrutura particular do revestimento catalítico permitem que características de desempenho melhores em relação à técnica anterior sejam garantidas com a vantagem adicional de aumentar a vida útil operacional do eletrodo.[0033] The diffusion of platinum in the first catalytic layer allows the catalytic activity to be enhanced. This additionally allows for better catalytic performance characteristics to be maintained over the lifetime of the electrode, also where prolonged use of the electrode causes wear of the second layer over time. The elements present and the particular structure of the catalytic coating allow better performance characteristics over the prior art to be guaranteed with the added advantage of increasing the operating life of the electrode.

[0034] O eletrodo de acordo com a invenção ainda surpreendentemente permite que as características de desempenho melhores em termos de atividade e de seletividade sejam mantidas ao longo do tempo.[0034] The electrode according to the invention still surprisingly allows the best performance characteristics in terms of activity and selectivity to be maintained over time.

[0035] A presença de estanho tem um alto impacto sobre a seletividade; entretanto, se o estanho estiver presente em altas quantidades na superfície externa do revestimento catalítico, em combinação com a platina, o mesmo atenua o aumento na atividade catalítica da própria platina.[0035] The presence of tin has a high impact on selectivity; however, if tin is present in high amounts on the outer surface of the catalytic coating, in combination with the platinum, it attenuates the increase in the catalytic activity of the platinum itself.

[0036] A difusão de estanho da primeira camada catalítica para a segunda produz um perfil de concentração do elemento entre as camadas, o que possibilita que uma atividade catalítica alta juntamente com uma seletividade ideal sejam mantidas, permitindo ainda que o consumo dos metais nobres presentes na segunda camada catalítica seja desacelerado. O perfil de concentração de estanho entre as duas camadas catalíticas é caracterizado por uma redução monotônica na concentração do elemento dentro da segunda camada na direção oposta à primeira camada.[0036] The diffusion of tin from the first catalytic layer to the second produces an element concentration profile between the layers, which allows a high catalytic activity together with an ideal selectivity to be maintained, still allowing the consumption of the noble metals present in the second catalytic layer is decelerated. The tin concentration profile between the two catalytic layers is characterized by a monotonic reduction in the concentration of the element within the second layer in the opposite direction to the first layer.

[0037] Em outra modalidade, a primeira camada catalítica tem uma carga específica de metal nobre na faixa entre 3 e 8 g/m² e a segunda camada catalítica tem uma carga específica de metal nobre na faixa entre 0,8 e 4 g/m². Os inventores constataram que cargas assim reduzidas de metal nobre são mais que suficientes para conferir uma atividade catalítica ideal.[0037] In another embodiment, the first catalytic layer has a noble metal specific load in the range between 3 and 8 g/m² and the second catalytic layer has a noble metal specific load in the range between 0.8 and 4 g/m² . The inventors have found that thus reduced loads of noble metal are more than sufficient to impart optimal catalytic activity.

[0038] De acordo com outro aspecto, a presente invenção se refere a um método para obter um eletrodo para evolução de produtos gasosos em células eletrolíticas, por exemplo, para evolução de cloro em células de eletrólise de salmoura alcalina, compreendendo os seguintes estágios:[0038] According to another aspect, the present invention relates to a method for obtaining an electrode for evolution of gaseous products in electrolytic cells, for example, for evolution of chlorine in alkaline brine electrolysis cells, comprising the following stages:

[0039] aplicação a um substrato de metal de válvula de uma primeira solução livre de platina compreendendo uma mistura de irídio, rutênio e estanho, secagem subsequente a 50-60 °C e decomposição da dita primeira solução por tratamento de calor a 400-650 °C por um período de 5 a 30 minutos;[0039] application to a valve metal substrate of a first platinum-free solution comprising a mixture of iridium, ruthenium and tin, subsequent drying at 50-60°C and decomposition of said first solution by heat treatment at 400-650°C °C for a period of 5 to 30 minutes;

[0040] repetição do estágio a) até que a dita primeira composição catalítica seja obtida com uma carga específica desejada de metal nobre;[0040] repetition of stage a) until said first catalytic composition is obtained with a desired specific noble metal charge;

[0041] aplicação de uma segunda solução catalítica livre de estanho contendo platina sendo subsequentemente seca a 50-60 °C e decomposição da dita primeira solução por tratamento de calor a 400-650 °C por um período de 5 a 30 minutos;[0041] application of a second tin-free catalytic solution containing platinum being subsequently dried at 50-60°C and decomposition of said first solution by heat treatment at 400-650°C for a period of 5 to 30 minutes;

[0042] repetição do estágio c) até que a dita primeira composição catalítica seja obtida com uma carga específica desejada de metal nobre.[0042] repetition of stage c) until said first catalytic composition is obtained with a desired specific noble metal charge.

[0043] Em uma modalidade, a temperatura da dita decomposição térmica nas etapas a) e c) está entre 480 e 550 °C.[0043] In one embodiment, the temperature of said thermal decomposition in steps a) and c) is between 480 and 550 °C.

[0044] Em uma modalidade, a dita primeira solução compreende ainda titânio.[0044] In one embodiment, said first solution further comprises titanium.

[0045] Em outra modalidade, a dita segunda solução compreende paládio e ródio isoladamente ou em combinação um com o outro.[0045] In another embodiment, said second solution comprises palladium and rhodium alone or in combination with each other.

[0046] Em uma modalidade preferencial da presente invenção, o eletrodo de duas camadas é submetido a um tratamento térmico final. Em uma modalidade, o tratamento térmico final é efetuado a uma temperatura entre 400 e 650 °C, preferencialmente a uma temperatura de cerca de 500 °C, por pelo menos 60 minutos, preferencialmente entre 60 e 180 minutos, mais preferencialmente entre 80 e 120 minutos.[0046] In a preferred embodiment of the present invention, the two-layer electrode is subjected to a final heat treatment. In one embodiment, the final heat treatment is carried out at a temperature between 400 and 650 °C, preferably at a temperature of about 500 °C, for at least 60 minutes, preferably between 60 and 180 minutes, more preferably between 80 and 120 minutes.

[0047] Preferencialmente, a primeira solução compreende os compostos de irídio, rutênio e estanho e opcionalmente os compostos de titânio na forma de complexos organometálicos. Em uma modalidade, os complexos organometálicos são complexos de aceto-cloridrato de estanho, rutênio, irídio e opcionalmente titânio, respectivamente.[0047] Preferably, the first solution comprises the iridium, ruthenium and tin compounds and optionally the titanium compounds in the form of organometallic complexes. In one embodiment, the organometallic complexes are aceto-hydrochloride complexes of tin, ruthenium, iridium and optionally titanium, respectively.

[0048] Sem desejar ser limitado a uma teoria científica particular, é possível que os estágios a e c para tratamento térmico ou decomposição do método descrito acima, juntamente com os elementos presentes e com as concentrações dos mesmos dentro da dita primeira e da dita segunda soluções, visto que seu coeficiente de difusão também é dependente da temperatura, contribuam para a interdifusão do estanho e da platina presentes respectivamente a partir da primeira camada catalítica para a segunda camada catalítica e vice- versa.[0048] Without wishing to be limited to a particular scientific theory, it is possible that stages a and c for heat treatment or decomposition of the method described above, together with the elements present and the concentrations thereof within said first and said second solutions, since their diffusion coefficient is also temperature dependent, they contribute to the interdiffusion of tin and platinum present respectively from the first catalytic layer to the second catalytic layer and vice versa.

[0049] De acordo com outro aspecto, a invenção se refere a uma célula para a eletrólise de soluções de cloretos alcalinos compreendendo um compartimento de ânodo e um compartimento de cátodo em que o compartimento de ânodo é equipado com o eletrodo em uma das formas conforme descritas acima, usado como um ânodo para evolução de cloro.[0049] According to another aspect, the invention relates to a cell for the electrolysis of chlor-alkali solutions comprising an anode compartment and a cathode compartment wherein the anode compartment is equipped with the electrode in one of the ways as per described above, used as an anode for chlorine evolution.

[0050] De acordo com outro aspecto, a invenção se refere a um eletrolisador industrial para a produção de cloro e álcali a partir de soluções de cloreto de álcali, quando desprovido ainda de dispositivos de proteção de polarização e compreendendo uma disposição modular de células eletrolíticas com os compartimentos de ânodo e cátodo separados por membras de troca iônica ou por diafragmas, em que o compartimento de ânodo compreende um eletrodo em uma das formas conforme descritas acima usado como um ânodo.[0050] According to another aspect, the invention relates to an industrial electrolyzer for the production of chlorine and alkali from chloride-alkali solutions, when still lacking polarization protection devices and comprising a modular arrangement of electrolytic cells with the anode and cathode compartments separated by ion exchange membranes or diaphragms, wherein the anode compartment comprises an electrode in one of the forms as described above used as an anode.

[0051] Os exemplos a seguir são incluídos a fim de demonstrar modalidades particulares da invenção, cuja praticabilidade foi amplamente verificada dentro da faixa de valores reivindicada. Será evidente para aqueles versados na técnica que as composições e as técnicas descritas nos exemplos a seguir representam composições e técnicas para as quais os inventores encontraram uma boa operação da invenção na prática; entretanto, aqueles versados na técnica observarão ainda, à luz da presente descrição, que várias modificações podem ser feitas nas várias modalidades descritas ainda gerando resultados idênticos ou similares sem se afastar do escopo da invenção. EXEMPLO 1[0051] The following examples are included in order to demonstrate particular embodiments of the invention, the practicability of which has been largely verified within the claimed range of values. It will be apparent to those skilled in the art that the compositions and techniques described in the examples below represent compositions and techniques for which the inventors have found good operation of the invention in practice; however, those skilled in the art will further note, in light of the present description, that various modifications can be made to the various described embodiments still yielding identical or similar results without departing from the scope of the invention. EXAMPLE 1

[0052] Uma tela de titânio de dimensões de 10 cm x 10 cm foi lavada três vezes em água desionizada a 60 °C, alterando o líquido todas as vezes. A lavagem foi seguida por um tratamento térmico por 2 horas a 350 °C. A tela foi, então, submetida a um tratamento em uma solução de HCl a 20 %, ebulição por 30 minutos.[0052] A titanium mesh measuring 10 cm x 10 cm was washed three times in deionized water at 60 °C, changing the liquid each time. Washing was followed by a heat treatment for 2 hours at 350 °C. The screen was then subjected to a treatment in a 20% HCl solution, boiling for 30 minutes.

[0053] 100 ml de uma primeira solução acética foram, então, preparados contendo complexo acetato-cloridrato de estanho, complexo acetato-cloridrato de rutênio e complexo acetato-cloridrato de irídio e tendo uma composição molar igual a 25 % de Ru, 11 % de Ir e 64 % de Sn com referência aos metais.[0053] 100 ml of a first acetic solution was then prepared containing tin acetate-hydrochloride complex, ruthenium acetate-hydrochloride complex and iridium acetate-hydrochloride complex and having a molar composition equal to 25% Ru, 11% of Ir and 64% of Sn with reference to metals.

[0054] Uma segunda solução também foi preparada contendo uma quantidade de dinitrato de diamino de Pt, Pt(NH3)2(NO3)2 correspondente a 40 g de Pt dissolvido em 160 ml de ácido acético glacial e, então, constituída a um volume de um litro com ácido acético a 10 % em peso.[0054] A second solution was also prepared containing an amount of Pt diamino dinitrate, Pt(NH3)2(NO3)2 corresponding to 40 g of Pt dissolved in 160 ml of glacial acetic acid and then made up to a volume of one liter with 10% by weight acetic acid.

[0055] A primeira solução acética foi aplicada à tela de titânio pintando em 8 revestimentos. Após cada revestimento, uma etapa de secagem a 50-60 °C foi executada por cerca de 10 minutos, então, um tratamento térmico por 10 minutos a 500 °C, sendo a tela, a cada vez, resfriada em ar antes da aplicação do próximo revestimento.[0055] The first acetic solution was applied to the titanium mesh by painting in 8 coats. After each coating, a drying step at 50-60 °C was performed for about 10 minutes, then a heat treatment for 10 minutes at 500 °C, each time being cooled in air before application of the coating. next coating.

[0056] O procedimento foi repedido até que uma carga expressa como a soma de Ir e Ru com referência aos metais igual a 7 g/m² fosse alcançada.[0056] The procedure was repeated until a charge expressed as the sum of Ir and Ru with reference to metals equal to 7 g/m² was reached.

[0057] Subsequentemente, a segunda solução foi aplicada pintando em 4 revestimentos. Após cada revestimento, uma etapa de secagem a 50-60 °C por cerca de 10 minutos foi executada, então, um tratamento térmico por 10 minutos a 500 °C. A cada vez, a tela foi resfriada em ar antes da aplicação do próximo revestimento.[0057] Subsequently, the second solution was applied by painting in 4 coats. After each coating, a drying step at 50-60 °C for about 10 minutes was performed, then a heat treatment for 10 minutes at 500 °C. Each time, the screen was cooled in air before the next coating was applied.

[0058] O procedimento foi repetido até que uma carga total de Pt igual a 2,5 g/m² fosse alcançada.[0058] The procedure was repeated until a total Pt load equal to 2.5 g/m² was reached.

[0059] Um tratamento térmico final a 500 °C por 100 minutos foi executado por último.[0059] A final heat treatment at 500 °C for 100 minutes was performed last.

[0060] O eletrodo obtido desta forma foi identificado como espécime nº 1. EXEMPLO 2[0060] The electrode obtained in this way was identified as specimen nº 1. EXAMPLE 2

[0061] Uma tela de titânio de dimensões de 10 cm x 10 cm foi lavada três vezes em água desionizada a 60 °C, alterando o líquido todas as vezes. A lavagem foi seguida por um tratamento térmico por 2 horas a 350 °C. A tela foi, então, submetida a um tratamento em uma solução de HCl a 20 %, ebulição por 30 minutos.[0061] A titanium mesh measuring 10 cm x 10 cm was washed three times in deionized water at 60 °C, changing the liquid each time. Washing was followed by a heat treatment for 2 hours at 350 °C. The screen was then subjected to a treatment in a 20% HCl solution, boiling for 30 minutes.

[0062] 100 ml de uma primeira solução acética foram,[0062] 100 ml of a first acetic solution were,

então, preparados contendo complexo acetato-cloridrato de estanho, complexo acetato-cloridrato de rutênio e complexo acetato-cloridrato de irídio e tendo uma composição molar igual a 26 % de Ru, 10 % de Ir e 64 % de Sn com referência aos metais.then, preparations containing tin acetate-hydrochloride complex, ruthenium acetate-hydrochloride complex and iridium acetate-hydrochloride complex and having a molar composition equal to 26% Ru, 10% Ir and 64% Sn with reference to metals.

[0063] 100 ml de uma segunda solução acética também foram preparados contendo um complexo organometálico de platina e um complexo organometálico de paládio e tendo uma composição molar igual a 87 % de Pt e 13 % de Pd com referência aos metais.[0063] 100 ml of a second acetic solution was also prepared containing an organometallic complex of platinum and an organometallic complex of palladium and having a molar composition equal to 87% Pt and 13% Pd with reference to the metals.

[0064] A primeira solução acética foi aplicada à tela de titânio pintando em 8 revestimentos. Após cada revestimento, uma etapa de secagem a 50-60 °C por cerca de 10 minutos foi executada, então, um tratamento térmico por 10 minutos a 500 °C. A cada vez, a tela foi resfriada em ar antes da aplicação do próximo revestimento.[0064] The first acetic solution was applied to the titanium mesh by painting in 8 coats. After each coating, a drying step at 50-60 °C for about 10 minutes was performed, then a heat treatment for 10 minutes at 500 °C. Each time, the screen was cooled in air before the next coating was applied.

[0065] O procedimento foi repedido até que uma carga expressa como a soma de Ir e Ru com referência aos metais igual a 6,7 g/m² fosse alcançada.[0065] The procedure was repeated until a charge expressed as the sum of Ir and Ru with reference to metals equal to 6.7 g/m² was reached.

[0066] Subsequentemente, a segunda solução acética foi aplicada pintando em 4 revestimentos. Após cada revestimento, uma etapa de secagem a 50-60 °C por cerca de 10 minutos foi executada, então, um tratamento térmico por 10 minutos a 500 °C. A cada vez, a tela foi resfriada em ar antes da aplicação do próximo revestimento.[0066] Subsequently, the second acetic solution was applied by painting in 4 coats. After each coating, a drying step at 50-60 °C for about 10 minutes was performed, then a heat treatment for 10 minutes at 500 °C. Each time, the screen was cooled in air before the next coating was applied.

[0067] O procedimento foi repetido até que uma carga total de metal nobre expressa como a soma de Pt e Pd com referência aos metais igual a 2,7 g/m² fosse alcançada.[0067] The procedure was repeated until a total noble metal charge expressed as the sum of Pt and Pd with reference to the metals equal to 2.7 g/m² was reached.

[0068] Por fim, um tratamento térmico final a 500 °C por 100 minutos foi executado.[0068] Finally, a final heat treatment at 500 °C for 100 minutes was performed.

[0069] O eletrodo obtido desta forma foi identificado como espécime nº 2. EXEMPLO 3[0069] The electrode obtained in this way was identified as specimen No. 2. EXAMPLE 3

[0070] Uma tela de titânio de dimensões de 10 cm x 10 cm foi lavada três vezes em água desionizada a 60 °C, alterando o líquido todas as vezes. A lavagem foi seguida por um tratamento térmico por 2 horas a 350 °C. A tela foi, então, submetida a um tratamento em uma solução de HCl a 20 %, ebulição por 30 minutos.[0070] A titanium mesh measuring 10 cm x 10 cm was washed three times in deionized water at 60 °C, changing the liquid each time. Washing was followed by a heat treatment for 2 hours at 350 °C. The screen was then subjected to a treatment in a 20% HCl solution, boiling for 30 minutes.

[0071] 100 ml de uma primeira solução acética foram, então, preparados contendo complexo acetato-cloridrato de estanho, complexo acetato-cloridrato de rutênio e complexo acetato-cloridrato de irídio e tendo uma composição molar igual a 26 % de Ru, 10 % de Ir e 64 % de Sn com referência aos metais.[0071] 100 ml of a first acetic solution were then prepared containing tin acetate-hydrochloride complex, ruthenium acetate-hydrochloride complex and iridium acetate-hydrochloride complex and having a molar composition equal to 26% Ru, 10% of Ir and 64% of Sn with reference to metals.

[0072] 100 ml de uma segunda solução acética foram, então, preparados contendo um complexo organometálico de platina, um complexo organometálico de paládio e RhCl3 e tendo uma composição molar igual a 86 % de Pt, 10 % de Pd e 4 % de Rh com referência aos metais.[0072] 100 ml of a second acetic solution was then prepared containing an organometallic complex of platinum, an organometallic complex of palladium and RhCl3 and having a molar composition equal to 86% Pt, 10% Pd and 4% Rh with reference to metals.

[0073] A primeira solução acética foi aplicada à tela de titânio pintando em 8 revestimentos. Após cada revestimento, uma etapa de secagem a 50-60 °C por cerca de 10 minutos foi executada, então, um tratamento térmico por 10 minutos a 500 °C. A cada vez, a tela foi resfriada em ar antes da aplicação do próximo revestimento.[0073] The first acetic solution was applied to the titanium mesh by painting in 8 coats. After each coating, a drying step at 50-60 °C for about 10 minutes was performed, then a heat treatment for 10 minutes at 500 °C. Each time, the screen was cooled in air before the next coating was applied.

[0074] O procedimento foi repedido até que uma carga expressa como a soma de Ir e Ru com referência aos metais igual a 6,7 g/m² fosse alcançada.[0074] The procedure was repeated until a charge expressed as the sum of Ir and Ru with reference to metals equal to 6.7 g/m² was reached.

[0075] Subsequentemente, a segunda solução acética foi aplicada pintando em 4 revestimentos. Após cada revestimento, uma etapa de secagem a 50-60 °C por cerca de 10 minutos foi executada, então, um tratamento térmico por 10 minutos a 500 °C. A cada vez, a tela foi resfriada em ar antes da aplicação do próximo revestimento.[0075] Subsequently, the second acetic solution was applied by painting in 4 coats. After each coating, a drying step at 50-60 °C for about 10 minutes was performed, then a heat treatment for 10 minutes at 500 °C. Each time, the screen was cooled in air before the next coating was applied.

[0076] O procedimento foi repetido até que uma carga total de metal nobre expressa como a soma de Pt, Pd e Rh com referência aos metais igual a 2,8 g/m² fosse alcançada.[0076] The procedure was repeated until a total noble metal charge expressed as the sum of Pt, Pd and Rh with reference to the metals equal to 2.8 g/m² was reached.

[0077] Por fim, um tratamento térmico final a 500 °C por 100 minutos foi executado.[0077] Finally, a final heat treatment at 500 °C for 100 minutes was performed.

[0078] O eletrodo obtido desta forma foi identificado como espécime nº 3. EXEMPLO 4[0078] The electrode obtained in this way was identified as specimen nº 3. EXAMPLE 4

[0079] Uma tela de titânio de dimensões de 10 cm x 10 cm foi lavada três vezes em água desionizada a 60 °C, alterando o líquido todas as vezes. A lavagem foi seguida por um tratamento térmico por 2 horas a 350 °C. A tela foi, então, submetida a um tratamento em uma solução de HCl a 20 %, ebulição por 30 minutos.[0079] A titanium mesh measuring 10 cm x 10 cm was washed three times in deionized water at 60 °C, changing the liquid each time. Washing was followed by a heat treatment for 2 hours at 350 °C. The screen was then subjected to a treatment in a 20% HCl solution, boiling for 30 minutes.

[0080] 100 ml de uma primeira solução acética foram, então, preparados contendo complexo acetato-cloridrato de estanho, complexo acetato-cloridrato de rutênio, complexo acetato-cloridrato de irídio e complexo acetato-cloridrato de titânio e tendo uma composição molar igual a 25 % de Ru, 10 % de Ir, 35 % de Sn e 30 % de Ti com referência aos metais.[0080] 100 ml of a first acetic solution was then prepared containing tin acetate-hydrochloride complex, ruthenium acetate-hydrochloride complex, iridium acetate-hydrochloride complex and titanium acetate-hydrochloride complex and having a molar composition equal to 25% Ru, 10% Ir, 35% Sn and 30% Ti with reference to metals.

[0081] 100 ml de uma segunda solução acética também foram preparados contendo um complexo organometálico de platina e um complexo organometálico de paládio e tendo uma composição molar igual a 87 % de Pt e 13 % de Pd com referência aos metais.[0081] 100 ml of a second acetic solution was also prepared containing an organometallic complex of platinum and an organometallic complex of palladium and having a molar composition equal to 87% Pt and 13% Pd with reference to the metals.

[0082] A primeira solução acética foi aplicada à tela de titânio pintando em 8 revestimentos. Após cada revestimento, uma etapa de secagem a 50-60 °C por cerca de 10 minutos foi executada, então, um tratamento térmico por 10 minutos a 500 °C. A cada vez, a tela foi resfriada em ar antes da aplicação do próximo revestimento.[0082] The first acetic solution was applied to the titanium mesh by painting in 8 coats. After each coating, a drying step at 50-60 °C for about 10 minutes was performed, then a heat treatment for 10 minutes at 500 °C. Each time, the screen was cooled in air before the next coating was applied.

[0083] O procedimento foi repetido até que uma carga fosse alcançada expressa como a soma de Ir e Ru com referência aos metais iguais a 6,7 g/m².[0083] The procedure was repeated until a charge was reached expressed as the sum of Ir and Ru with reference to the metals equal to 6.7 g/m².

[0084] Subsequentemente, a segunda solução acética foi aplicada pintando em 4 revestimentos. Após cada revestimento, uma etapa de secagem a 50-60 °C por cerca de 10 minutos foi executada, então, um tratamento térmico por 10 minutos a 500 °C. A cada vez, a tela foi resfriada em ar antes da aplicação do próximo revestimento.[0084] Subsequently, the second acetic solution was applied by painting in 4 coats. After each coating, a drying step at 50-60 °C for about 10 minutes was performed, then a heat treatment for 10 minutes at 500 °C. Each time, the screen was cooled in air before the next coating was applied.

[0085] O procedimento foi repetido até que uma carga total de metal nobre expressa como a soma de Pt e Pd com referência aos metais igual a 2,7 g/m² fosse alcançada.[0085] The procedure was repeated until a total noble metal charge expressed as the sum of Pt and Pd with reference to the metals equal to 2.7 g/m² was reached.

[0086] Por fim, um tratamento térmico final a 500 °C por 100 minutos foi executado.[0086] Finally, a final heat treatment at 500 °C for 100 minutes was performed.

[0087] O eletrodo obtido desta forma foi identificado como espécime nº 4. EXEMPLO 5[0087] The electrode obtained in this way was identified as specimen nº 4. EXAMPLE 5

[0088] Uma tela de titânio de dimensões de 10 cm x 10 cm foi lavada três vezes em água desionizada a 60 °C, alterando o líquido todas as vezes. A lavagem foi seguida por um tratamento térmico por 2 horas a 350 °C. A tela foi, então, submetida a um tratamento em uma solução de HCl a 20 %, ebulição por 30 minutos.[0088] A titanium mesh measuring 10 cm x 10 cm was washed three times in deionized water at 60 °C, changing the liquid each time. Washing was followed by a heat treatment for 2 hours at 350 °C. The screen was then subjected to a treatment in a 20% HCl solution, boiling for 30 minutes.

[0089] 100 ml de uma primeira solução acética foram, então, preparados contendo complexo acetato-cloridrato de estanho, complexo acetato-cloridrato de rutênio, complexo acetato-cloridrato de irídio e complexo acetato-cloridrato de titânio e tendo uma composição molar igual a 25 % de Ru, 10 % de Ir, 35 % de Sn e 30 % de Ti com referência aos metais.[0089] 100 ml of a first acetic solution was then prepared containing tin acetate-hydrochloride complex, ruthenium acetate-hydrochloride complex, iridium acetate-hydrochloride complex and titanium acetate-hydrochloride complex and having a molar composition equal to 25% Ru, 10% Ir, 35% Sn and 30% Ti with reference to metals.

[0090] 100 ml de uma segunda solução acética foram ainda preparados contendo um complexo organometálico de platina, um complexo organometálico de paládio e RhCl3 e tendo uma composição molar igual a 86 % de Pt, 10 % de Pd e 4 % de Rh com referência aos metais.[0090] 100 ml of a second acetic solution was further prepared containing an organometallic complex of platinum, an organometallic complex of palladium and RhCl3 and having a molar composition equal to 86% Pt, 10% Pd and 4% Rh with reference to metals.

[0091] A primeira solução acética foi aplicada à tela de titânio pintando em 8 revestimentos. Após cada revestimento, uma etapa de secagem a 50-60 °C por cerca de 10 minutos foi executada, então, um tratamento térmico por 10 minutos a 500 °C. A cada vez, a tela foi resfriada em ar antes da aplicação do próximo revestimento.[0091] The first acetic solution was applied to titanium mesh by painting in 8 coats. After each coating, a drying step at 50-60 °C for about 10 minutes was performed, then a heat treatment for 10 minutes at 500 °C. Each time, the screen was cooled in air before the next coating was applied.

[0092] O procedimento foi repedido até que uma carga expressa como a soma de Ir e Ru com referência aos metais igual a 6,7 g/m² fosse alcançada.[0092] The procedure was repeated until a charge expressed as the sum of Ir and Ru with reference to metals equal to 6.7 g/m² was reached.

[0093] Subsequentemente, a segunda solução foi aplicada pintando em 4 revestimentos. Após cada revestimento, uma etapa de secagem a 50-60 °C por cerca de 10 minutos foi executada, então, um tratamento térmico por 10 minutos a 500 °C. A cada vez, a tela foi resfriada em ar antes da aplicação do próximo revestimento.[0093] Subsequently, the second solution was applied by painting in 4 coats. After each coating, a drying step at 50-60 °C for about 10 minutes was performed, then a heat treatment for 10 minutes at 500 °C. Each time, the screen was cooled in air before the next coating was applied.

[0094] O procedimento foi repetido até que uma carga total de metal nobre expressa como a soma de Pt, Pd e Rh com referência aos metais igual a 2,7 g/m² fosse alcançada.[0094] The procedure was repeated until a total noble metal charge expressed as the sum of Pt, Pd and Rh with reference to the metals equal to 2.7 g/m² was reached.

[0095] Por fim, um tratamento térmico final a 500 °C por 100 minutos foi executado.[0095] Finally, a final heat treatment at 500 °C for 100 minutes was performed.

[0096] O eletrodo obtido desta forma foi identificado como espécime nº 5. CONTRAEXEMPLO 1[0096] The electrode obtained in this way was identified as specimen No. 5. COUNTEREXAMPLE 1

[0097] Uma tela de titânio de dimensões de 10 cm x 10 cm foi lavada três vezes em água desionizada a 60 °C, alterando o líquido todas as vezes. A lavagem foi seguida por um tratamento térmico por 2 horas a 350 °C. A tela foi, então, submetida a um tratamento em uma solução de HCl a 20 %, ebulição por 30 minutos.[0097] A titanium mesh measuring 10 cm x 10 cm was washed three times in deionized water at 60 °C, changing the liquid each time. Washing was followed by a heat treatment for 2 hours at 350 °C. The screen was then subjected to a treatment in a 20% HCl solution, boiling for 30 minutes.

[0098] 100 ml de uma solução hidroalcoólica foram, então, preparados contendo RuCl3*3H2O, H2IrCl6*6H2O, TiCl3 em uma solução de isopropanol, tendo uma composição molar igual a 23 % de Ru, 22 % de Ir, 55 % de Ti.[0098] 100 ml of a hydroalcoholic solution were then prepared containing RuCl3*3H2O, H2IrCl6*6H2O, TiCl3 in an isopropanol solution, having a molar composition equal to 23% Ru, 22% Ir, 55% Ti .

[0099] A solução foi aplicada à tela de titânio pintando em 14 revestimentos. Após cada revestimento, uma etapa de secagem a 50-60 °C por cerca de 10 minutos foi executada, então, um tratamento térmico por 10 minutos a 500 °C. A cada vez, a peça de trabalho foi resfriada em ar antes da aplicação do próximo revestimento.[0099] The solution was applied to the titanium mesh by painting in 14 coats. After each coating, a drying step at 50-60 °C for about 10 minutes was performed, then a heat treatment for 10 minutes at 500 °C. Each time, the workpiece was cooled in air before the next coating was applied.

[0100] O procedimento foi repetido até que uma carga total de metal nobre expressa como a soma de Ir e Ru com referência aos metais igual a 11 g/m² fosse alcançada. Então, um tratamento térmico final a 500 °C por 100 minutos foi executado.[0100] The procedure was repeated until a total noble metal charge expressed as the sum of Ir and Ru with reference to the metals equal to 11 g/m² was reached. Then, a final heat treatment at 500 °C for 100 minutes was performed.

[0101] O eletrodo assim obtido foi identificado como espécime n° 1C. CONTRAEXEMPLO 2[0101] The electrode thus obtained was identified as specimen No. 1C. COUNTEREXAMPLE 2

[0102] Uma tela de titânio de dimensões de 10 cm x 10 cm foi lavada três vezes em água desionizada a 60 °C, alterando o líquido todas as vezes. A lavagem foi seguida por um tratamento térmico por 2 horas a 350 °C. A tela foi, então, submetida a um tratamento em uma solução a 20 % de HCl, ebulição por 30 minutos.[0102] A titanium mesh measuring 10 cm x 10 cm was washed three times in deionized water at 60 °C, changing the liquid each time. Washing was followed by a heat treatment for 2 hours at 350 °C. The screen was then subjected to a treatment in a 20% solution of HCl, boiling for 30 minutes.

[0103] 100 ml de uma primeira solução acética foram, então, preparados contendo complexo acetato-cloridrato de estanho, complexo acetato-cloridrato de rutênio e complexo acetato-cloridrato de irídio e tendo uma composição molar igual a 26 % de Ru, 10 % de Ir e 64 % de Sn com referência aos metais.[0103] 100 ml of a first acetic solution were then prepared containing tin acetate-hydrochloride complex, ruthenium acetate-hydrochloride complex and iridium acetate-hydrochloride complex and having a molar composition equal to 26% Ru, 10% of Ir and 64% of Sn with reference to metals.

[0104] 100 ml de uma segunda solução acética também foram preparados contendo um complexo organometálico de platina e um complexo acetato-cloridrato de estanho e tendo uma composição molar igual a 87 % de Pt e 13 % de Sn com referência aos metais.[0104] 100 ml of a second acetic solution was also prepared containing an organometallic platinum complex and an acetate-tin hydrochloride complex and having a molar composition equal to 87% Pt and 13% Sn with reference to the metals.

[0105] A primeira solução acética foi aplicada à tela de titânio pintando em 6 revestimentos. Após cada revestimento, uma etapa de secagem a 50-60 °C por cerca de 10 minutos foi executada, então, um tratamento térmico por 10 minutos a 500 °C. A cada vez, a tela foi resfriada em ar antes da aplicação do próximo revestimento.[0105] The first acetic solution was applied to the titanium mesh by painting in 6 coats. After each coating, a drying step at 50-60 °C for about 10 minutes was performed, then a heat treatment for 10 minutes at 500 °C. Each time, the screen was cooled in air before the next coating was applied.

[0106] O procedimento foi repetido até que uma carga total de metal nobre expressa como a soma de Ir e Ru com referência aos metais igual a 6 g/m² fosse alcançada.[0106] The procedure was repeated until a total noble metal charge expressed as the sum of Ir and Ru with reference to the metals equal to 6 g/m² was reached.

[0107] Subsequentemente, a segunda solução acética foi aplicada pintando em 4 revestimentos. Após cada revestimento, uma etapa de secagem a 50-60 °C por cerca de 10 minutos foi executada, então, um tratamento térmico por 10 minutos a 500 °C. A cada vez, a tela foi resfriada em ar antes da aplicação do próximo revestimento.[0107] Subsequently, the second acetic solution was applied by painting in 4 coats. After each coating, a drying step at 50-60 °C for about 10 minutes was performed, then a heat treatment for 10 minutes at 500 °C. Each time, the screen was cooled in air before the next coating was applied.

[0108] O procedimento foi repetido até que uma carga total de metal nobre expressa como Pt com referência ao metal igual a 2,5 g/m² fosse alcançada.[0108] The procedure was repeated until a total noble metal charge expressed as Pt with reference to the metal equal to 2.5 g/m² was reached.

[0109] Por fim, um tratamento térmico final a 500 °C por 100 minutos foi executado.[0109] Finally, a final heat treatment at 500 °C for 100 minutes was performed.

[0110] O eletrodo assim obtido foi identificado como espécime n° 2C. CONTRAEXEMPLO 3[0110] The electrode thus obtained was identified as specimen No. 2C. COUNTEREXAMPLE 3

[0111] Uma tela de titânio de dimensões de 10 cm x 10 cm foi lavada três vezes em água desionizada a 60 °C, alterando o líquido todas as vezes. A lavagem foi seguida por um tratamento térmico por 2 horas a 350 °C. A tela foi, então, submetida a um tratamento em uma solução de HCl a 20 %, ebulição por 30 minutos.[0111] A titanium mesh measuring 10 cm x 10 cm was washed three times in deionized water at 60 °C, changing the liquid each time. Washing was followed by a heat treatment for 2 hours at 350 °C. The screen was then subjected to a treatment in a 20% HCl solution, boiling for 30 minutes.

[0112] 100 ml de uma primeira solução acética foram, então, preparados contendo complexo acetato-cloridrato de estanho, complexo acetato-cloridrato de rutênio, complexo acetato-cloridrato de irídio e complexo organometálico de platina e tendo uma composição molar igual a 25 % de Ru, 10 % de Ir, 35 % de Sn e 30 % de Pt com referência aos metais.[0112] 100 ml of a first acetic solution were then prepared containing tin acetate-hydrochloride complex, ruthenium acetate-hydrochloride complex, iridium acetate-hydrochloride complex and platinum organometallic complex and having a molar composition equal to 25% Ru, 10% Ir, 35% Sn and 30% Pt with reference to metals.

[0113] A solução acética foi aplicada à tela de titânio pintando em 10 revestimentos. Após cada revestimento, uma etapa de secagem a 50-60 °C por cerca de 10 minutos foi executada, então, um tratamento térmico por 10 minutos a 500 °C. A cada vez, a tela foi resfriada em ar antes da aplicação do próximo revestimento.[0113] The acetic solution was applied to the titanium mesh by painting in 10 coats. After each coating, a drying step at 50-60 °C for about 10 minutes was performed, then a heat treatment for 10 minutes at 500 °C. Each time, the screen was cooled in air before the next coating was applied.

[0114] O procedimento foi repetido até que uma carga total de metal nobre expressa como a soma de Ir, Ru e Pt com referência aos metais igual a 8 g/m² fosse alcançada.[0114] The procedure was repeated until a total noble metal charge expressed as the sum of Ir, Ru and Pt with reference to the metals equal to 8 g/m² was reached.

[0115] Por fim, um tratamento térmico final a 500 °C por 100 minutos foi executado.[0115] Finally, a final heat treatment at 500 °C for 100 minutes was performed.

[0116] O eletrodo assim obtido foi identificado como espécime n° 3C. CONTRAEXEMPLO 4[0116] The electrode thus obtained was identified as specimen No. 3C. COUNTEREXAMPLE 4

[0117] Uma tela de titânio de dimensões de 10 cm x 10 cm foi lavada três vezes em água desionizada a 60 °C, alterando o líquido todas as vezes. A lavagem foi seguida por um tratamento térmico por 2 horas a 350 °C. A tela foi, então, submetida a um tratamento em uma solução de HCl a 20 %, ebulição por 30 minutos.[0117] A titanium mesh measuring 10 cm x 10 cm was washed three times in deionized water at 60 °C, changing the liquid each time. Washing was followed by a heat treatment for 2 hours at 350 °C. The screen was then subjected to a treatment in a 20% HCl solution, boiling for 30 minutes.

[0118] 100 ml de uma primeira solução hidroalcoólica foram, então, preparados contendo RuCl3*3H2O, H2IrCl6*6H2O, TiOCl2 em uma mistura de água e 1-butanol acidificado com HCl, tendo uma composição molar igual a 26 % de Ru, 23 % de Ir, 51 % de Ti com referência aos metais.[0118] 100 ml of a first hydroalcoholic solution were then prepared containing RuCl3*3H2O, H2IrCl6*6H2O, TiOCl2 in a mixture of water and 1-butanol acidified with HCl, having a molar composition equal to 26% Ru, 23 % Ir, 51 % Ti with reference to metals.

[0119] 100 ml de uma segunda solução hidroalcoólica também foram preparadas contendo H2PtCl6 e PdCl2.[0119] 100 ml of a second hydroalcoholic solution were also prepared containing H2PtCl6 and PdCl2.

[0120] A primeira solução acética foi aplicada à tela de titânio pintando em 8 revestimentos. Após cada revestimento, uma etapa de secagem a 50-60 °C por cerca de 10 minutos foi executada, então, um tratamento térmico por 10 minutos a 500 °C. A cada vez, a tela foi resfriada em ar antes da aplicação do próximo revestimento.[0120] The first acetic solution was applied to the titanium mesh by painting in 8 coats. After each coating, a drying step at 50-60 °C for about 10 minutes was performed, then a heat treatment for 10 minutes at 500 °C. Each time, the screen was cooled in air before the next coating was applied.

[0121] O procedimento foi repetido até que uma carga total de metal nobre expressa como a soma de Ir e Ru com referência aos metais igual a 6 g/m² fosse alcançada.[0121] The procedure was repeated until a total noble metal charge expressed as the sum of Ir and Ru with reference to the metals equal to 6 g/m² was reached.

[0122] Subsequentemente, a segunda solução acética foi aplicada pintando em 4 revestimentos. Após cada revestimento, uma etapa de secagem a 50-60 °C por cerca de 10 minutos foi executada, então, um tratamento térmico por 10 minutos a 500 °C. A cada vez, a tela foi resfriada em ar antes da aplicação do próximo revestimento.[0122] Subsequently, the second acetic solution was applied by painting in 4 coats. After each coating, a drying step at 50-60 °C for about 10 minutes was performed, then a heat treatment for 10 minutes at 500 °C. Each time, the screen was cooled in air before the next coating was applied.

[0123] O procedimento foi repetido até que uma carga total de metal nobre expressa como a soma de Pt + Pd com referência aos metais igual a 3 g/m² foi alcançada.[0123] The procedure was repeated until a total noble metal charge expressed as the sum of Pt + Pd with reference to the metals equal to 3 g/m² was reached.

[0124] Por fim, um tratamento térmico final a 500 °C por 100 minutos foi executado.[0124] Finally, a final heat treatment at 500 °C for 100 minutes was performed.

[0125] O eletrodo assim obtido foi identificado como espécime n° 4C.[0125] The electrode thus obtained was identified as specimen No. 4C.

[0126] Os espécimes dos exemplos e dos contraexemplos foram caracterizados como ânodos para evolução de cloro em uma célula de laboratório preenchida com uma solução de salmoura de cloreto de sódio a uma concentração de 200 g/l.[0126] The specimens of the examples and the counterexamples were characterized as anodes for evolution of chlorine in a laboratory cell filled with a brine solution of sodium chloride at a concentration of 200 g/l.

[0127] A Tabela 1 relata a sobretensão de cloro medida a uma densidade atual de 4 kA/m² e a porcentagem em volume de oxigênio no cloro produzido. Tabela 1 Espécimes Potencial celular O2/Cl2 (% em vol.) (V) 1 2,76 0,9 2 2,76 0,7 3 2,76 0,7 4 2,77 0,8 5 2,77 0,7 1C 2,78 1,2 2C 2,76 1,0 3C 2,77 1,5[0127] Table 1 reports the chlorine surge measured at a current density of 4 kA/m² and the volume percentage of oxygen in the chlorine produced. Table 1 Specimens O2/Cl2 cell potential (% in vol.) (V) 1 2.76 0.9 2 2.76 0.7 3 2.76 0.7 4 2.77 0.8 5 2.77 0 .7 1C 2.78 1.2 2C 2.76 1.0 3C 2.77 1.5

Espécimes Potencial celular O2/Cl2 (% em vol.) (V) 4C 2,76 0,8Specimens O2/Cl2 cell potential (% by vol.) (V) 4C 2.76 0.8

[0128] Os espécimes dos exemplos anteriores também foram submetidos a um teste para operação em proveta. Na Tabela 2, os potenciais de ânodo (CISEP) são relatados, medidos em uma solução de cloreto de sódio a uma concentração de 200 g/l a uma temperatura de 80 °C, corrigida para a queda ôhmica a uma densidade atual de 3 kA/m². Ademais, a fim de avaliar a seletividade para a reação de cloro, testes foram conduzidos em ácido sulfúrico a uma densidade atual de 3 kA/m²; os potenciais de ânodo relatados (CISEP) foram corrigidos para a queda ôhmica. Quanto mais alto o valor dos potenciais de ânodo medidos em ácido sulfúrico, maior a seletividade para a reação de cloro. Tabela 2 Espécimes CISEP em NaCl vs NHE CISEP em H2SO4 vs NHE 1 1,336 1,820 2 1,336 1,872 3 1,336 1,890 4 1,338 1,872 5 1,338 1,890 1C 1,347 1,693 2C 1,336 1,740 3C 1,336 1,647 4C 1,336 1,872[0128] The specimens of the previous examples were also subjected to a test for operation in a beaker. In Table 2, the anode potentials (CISEP) are reported, measured in a sodium chloride solution at a concentration of 200 g/l at a temperature of 80 °C, corrected for the ohmic drop at a current density of 3 kA/ m². Furthermore, in order to evaluate the selectivity for the chlorine reaction, tests were conducted in sulfuric acid at a current density of 3 kA/m²; reported anode potentials (CISEP) were corrected for ohmic drop. The higher the value of anode potentials measured in sulfuric acid, the greater the selectivity for the chlorine reaction. Table 2 Cisep specimens in NaCl vs NHE Cisep in H2SO4 vs NHE 1 1,336 1,872 3 1,336 1,890 4 1,338 1,872 5 1,338 1,890 1C 1,347 1,693 2C 1,336 1,647 4C 1,336 1,872

[0129] Alguns espécimes foram, por fim, submetidos a um teste de longevidade. O teste de longevidade em questão é a simulação, em uma célula dividida pelas condições de eletrólise industrial. A Tabela 3 se refere à tensão de célula para os espécimes no início do teste e após um período simulado de um ano, como um indicador de sua atividade catalítica para a evolução de cloro (Cl O.V.) medida a uma densidade atual de 8 kA/m² e a porcentagem de carga residual da segunda camada catalítica após um período simulado de um ano. Tabela 3 Espécimes Início de teste Cl O.V. após 1 % de carga de Cl O.V ano residual 2 0,035 0,035 80 % 1C 0,050 0,050 - 4C 0,037 0,060 50 %[0129] Some specimens were eventually subjected to a longevity test. The longevity test in question is the simulation, in a cell divided by industrial electrolysis conditions. Table 3 refers to the cell voltage for the specimens at the beginning of the test and after a simulated period of one year, as an indicator of their catalytic activity for the evolution of chlorine (Cl OV) measured at a current density of 8 kA/ m² and the percentage of residual charge of the second catalytic layer after a simulated period of one year. Table 3 Specimen Test Start Cl O.V. after 1 % loading of Cl O.V residual year 2 0.035 0.035 80 % 1C 0.050 0.050 - 4C 0.037 0.060 50 %

[0130] A descrição anterior não é destinada a limitar a invenção, o que pode ser usado de acordo com várias modalidades sem, entretanto, desviar dos objetivos e cujo escopo é exclusivamente definido pelas reivindicações anexas.[0130] The foregoing description is not intended to limit the invention, which can be used according to various modalities without, however, deviating from the objectives and whose scope is exclusively defined by the appended claims.

[0131] Na descrição e nas reivindicações do presente pedido, os termos "compreendendo", “incluindo” e "contendo" não se destinam a excluir a presença de outros elementos, componentes ou etapas de processo adicionais.[0131] In the description and claims of the present application, the terms "comprising", "including" and "containing" are not intended to exclude the presence of other elements, components or additional process steps.

[0132] A discussão de documentos, itens, materiais, dispositivos, artigos e similares é incluída nesta descrição somente com o objetivo de fornecer um contexto para a presente invenção. Não é sugerido ou representado que qualquer um ou todos estes tópicos formaram parte da técnica anterior ou formaram um conhecimento geral comum no campo relevante para a presente invenção antes da data de prioridade para cada reivindicação deste pedido.[0132] Discussion of documents, items, materials, devices, articles and the like is included in this description solely for the purpose of providing a context for the present invention. It is not suggested or represented that any or all of these topics formed part of the prior art or formed common general knowledge in the field relevant to the present invention prior to the priority date for each claim of this application.

Claims (15)

REIVINDICAÇÕES 1. Eletrodo para evolução de gás em processos eletrolíticos caracterizado por compreender um substrato de metal de válvula e um revestimento compreendendo uma primeira camada catalítica formada no dito substrato contendo uma mistura de irídio, rutênio, estanho e platina ou seus óxidos ou combinações dos mesmos e uma segunda camada catalítica formada na dita primeira camada catalítica contendo platina e estanho ou seus óxidos ou combinações dos mesmos, em que o dito estanho da dita segunda camada catalítica está presente em uma concentração decrescente a partir da interface com a dita primeira camada catalítica e em que a dita platina da dita primeira camada catalítica está presente em uma concentração decrescente a partir da interface com a dita segunda camada catalítica.1. Electrode for gas evolution in electrolytic processes characterized in that it comprises a valve metal substrate and a coating comprising a first catalytic layer formed on said substrate containing a mixture of iridium, ruthenium, tin and platinum or their oxides or combinations thereof and a second catalytic layer formed on said first catalytic layer containing platinum and tin or oxides thereof or combinations thereof, wherein said tin of said second catalytic layer is present in decreasing concentration from the interface with said first catalytic layer and in that said platinum from said first catalytic layer is present in decreasing concentration from the interface with said second catalytic layer. 2. Eletrodo para evolução de gás em processos eletrolíticos caracterizado por compreender um substrato de metal de válvula e um revestimento compreendendo uma primeira camada catalítica formada no dito substrato contendo uma mistura de irídio, rutênio, estanho e platina ou seus óxidos ou combinações dos mesmos e uma segunda camada catalítica formada na dita primeira camada catalítica contendo platina e estanho ou seus óxidos ou combinações dos mesmos, em que a dita primeira camada é obtida a partir de uma primeira solução precursora livre de platina compreendendo uma mistura de irídio, rutênio e estanho, aplicada ao dito substrato e submetida a um tratamento de calor, e em que a dita segunda camada catalítica é obtida a partir de uma segunda composição catalítica livre de estanho contendo platina, aplicada ao dito substrato e submetida a um tratamento de calor.2. Electrode for gas evolution in electrolytic processes characterized in that it comprises a valve metal substrate and a coating comprising a first catalytic layer formed on said substrate containing a mixture of iridium, ruthenium, tin and platinum or their oxides or combinations thereof and a second catalytic layer formed on said first catalytic layer containing platinum and tin or oxides thereof or combinations thereof, wherein said first layer is obtained from a first platinum-free precursor solution comprising a mixture of iridium, ruthenium and tin, applied to said substrate and subjected to a heat treatment, and wherein said second catalytic layer is obtained from a second platinum-containing tin-free catalytic composition, applied to said substrate and subjected to a heat treatment. 3. Eletrodo, de acordo com uma das reivindicações 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que a dita segunda camada catalítica contém Pt = 48-96 % na forma de metal, ou seus óxidos, em porcentagem molar com referência ao elemento metálico.3. Electrode, according to one of claims 1 or 2, characterized in that said second catalytic layer contains Pt = 48-96% in the form of metal, or its oxides, in molar percentage with reference to the metallic element. 4. Eletrodo, de acordo com uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado pelo fato de que a dita segunda camada catalítica contém Pd = 0-24 % ou Rh = 0-24 %, na forma de metal, ou seus óxidos, ou combinações dos mesmos, na forma de metais ou seus óxidos em porcentagem molar com referência aos elementos metálicos.4. Electrode, according to one of claims 1 to 3, characterized in that said second catalytic layer contains Pd = 0-24% or Rh = 0-24%, in the form of metal, or its oxides, or combinations thereof, in the form of metals or their oxides in molar percentage with reference to metallic elements. 5. Eletrodo, de acordo com uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado pelo fato de que a dita segunda camada catalítica contém Sn = 4-12 % na forma de metal ou seus óxidos, em porcentagem molar média com referência ao elemento metálico.5. Electrode, according to one of claims 1 to 4, characterized in that said second catalytic layer contains Sn = 4-12% in the form of metal or its oxides, in average molar percentage with reference to the metallic element. 6. Eletrodo, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizado pelo fato de que os ditos óxidos de irídio, rutênio e estanho da dita primeira camada catalítica são presentes em porcentagens molares Ru = 24-34 %, Ir = 3-13 %, Sn = 30-70 % com referência aos elementos metálicos.6. Electrode according to any one of the preceding claims, characterized in that said oxides of iridium, ruthenium and tin of said first catalytic layer are present in molar percentages Ru = 24-34%, Ir = 3-13% , Sn = 30-70 % with reference to metallic elements. 7. Eletrodo, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizado pelo fato de que a dita primeira camada catalítica também contém óxidos de titânio em porcentagem molar de Ti = 30-40 % com referência ao elemento metálico.7. Electrode, according to any one of the preceding claims, characterized in that said first catalytic layer also contains titanium oxides in molar percentage of Ti = 30-40% with reference to the metallic element. 8. Eletrodo, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizado pelo fato de que a dita primeira camada catalítica contém Pt = 3-10 % na forma de metal ou seus óxidos, em porcentagem molar média com referência ao elemento metálico.8. Electrode, according to any one of the preceding claims, characterized in that said first catalytic layer contains Pt = 3-10% in the form of metal or its oxides, in average molar percentage with reference to the metallic element. 9. Eletrodo, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizado pelo fato de que o substrato de metal de válvula é selecionado a partir do grupo consistindo em titânio, tântalo, zircônio, nióbio, tungstênio, alumínio, silício ou suas ligas.9. Electrode according to any one of the preceding claims, characterized in that the valve metal substrate is selected from the group consisting of titanium, tantalum, zirconium, niobium, tungsten, aluminum, silicon or their alloys. 10. Método para a produção de um eletrodo conforme definido em uma das reivindicações anteriores caracterizado por compreender as seguintes etapas: - aplicação a um substrato de metal de válvula de uma primeira solução livre de platina compreendendo uma mistura de irídio, rutênio e estanho, secagem subsequente a 50-60 °C e decomposição da dita primeira solução por tratamento de calor a 400-650 °C por um tempo de 5 a 30 minutos; - repetição do estágio a) até uma carga específica desejada de metal nobre ser alcançada; - aplicação de uma segunda solução catalítica livre de estanho contendo platina e secagem subsequente a 50-60 °C e decomposição da dita segunda solução por tratamento de calor a 400-650 °C pelo tempo de 5 a 30 minutos; - repetição de estágio c) até que uma carga específica desejada de metal nobre seja alcançada.Method for producing an electrode as defined in one of the preceding claims, characterized in that it comprises the following steps: - applying to a valve metal substrate a first platinum-free solution comprising a mixture of iridium, ruthenium and tin, drying subsequent to 50-60°C and decomposition of said first solution by heat treatment at 400-650°C for a time of 5 to 30 minutes; - repeating stage a) until a specific desired noble metal charge is reached; - application of a second tin-free catalytic solution containing platinum and subsequent drying at 50-60°C and decomposition of said second solution by heat treatment at 400-650°C for a time of 5 to 30 minutes; - repeating stage c) until a desired specific noble metal charge is reached. 11. Método, de acordo com a reivindicação 10, caracterizado pelo fato de que a temperatura da dita decomposição térmica nas etapas a) e c) é entre 480 e 550 °C.11. Method according to claim 10, characterized in that the temperature of said thermal decomposition in steps a) and c) is between 480 and 550 °C. 12. Método, de acordo com uma das reivindicações 10 ou 11, caracterizado pelo fato de que a dita primeira solução contém os ditos irídio, rutênio e estanho na forma de complexos organometálicos.12. Method according to one of claims 10 or 11, characterized in that said first solution contains said iridium, ruthenium and tin in the form of organometallic complexes. 13. Célula para a eletrólise de soluções de cloretos alcalinos caracterizada por compreender um compartimento anódico e um compartimento catódico, em que o compartimento anódico é equipado com o eletrodo conforme definido em qualquer uma das reivindicações 1 a 8.13. Cell for the electrolysis of chloride alkali solutions, characterized in that it comprises an anode compartment and a cathode compartment, wherein the anode compartment is equipped with the electrode as defined in any one of claims 1 to 8. 14. Célula para eletrólise, de acordo com a reivindicação 13, caracterizada pelo fato de que o dito compartimento anódico e o dito compartimento catódico são separados por um diafragma ou uma membrana de troca iônica.14. Cell for electrolysis, according to claim 13, characterized in that said anode compartment and said cathode compartment are separated by a diaphragm or an ion exchange membrane. 15. Eletrolizador para a produção de cloro e álcali a partir de soluções de cloreto de álcali caracterizado por compreender uma disposição modular de células, em que cada célula é a célula conforme definida na reivindicação 13.15. Electrolyzer for the production of chlorine and alkali from chloride alkali solutions, characterized in that it comprises a modular arrangement of cells, in which each cell is the cell as defined in claim 13.
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