BR112020013256A2 - revestimentos de controle solar e métodos deformação de revestimentos de controle solar - Google Patents
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Abstract
Um artigo revestido inclui um substrato e um revestimento aplicado sobre pelo menos uma porção do substrato. O revestimento inclui pelo menos uma camada metálica formada a partir de um ou mais compostos de prata dopados com pelo menos um metal selecionado a partir dos Grupos 3 a 15 da tabela periódica da substância química dos elementos. Também são divulgadas cápsulas que podem absorver energia eletromagnética, bem como um processo de formação de uma camada de revestimento de óxido de estanho dopado com antimônio.
Description
[0001] A presente invenção se refere a revestimentos de controle solar e métodos para formar tais revestimentos.
[0002] Os substratos usados em uma variedade de aplicações, incluindo aplicações de arquitetura, aplicações automotivas, aplicações de consumo, etc. geralmente são revestidos com um revestimento funcional e/ ou estético. Por exemplo, revestimentos de controle solar são comumente aplicados a substratos arquitetônicos e automotivos transparentes para refletir e/ ou absorver a luz. Por exemplo, os revestimentos de controle solar são normalmente usados para bloquear ou filtrar certas faixas de radiação eletromagnética para reduzir a quantidade de energia solar que entra em um veículo ou edifício. Essa redução da transmitância de energia solar ajuda a reduzir a carga de energia nas unidades de resfriamento do veículo ou edifício.
[0003] Os revestimentos de controle solar podem ser aplicados a vários substratos, como substratos de vidro, usando várias técnicas, incluindo deposição química em fase vapor (“CVD”), pirólise por aspersão e deposição a vácuo por pulverização em magnétron (“MSVD”). Os processos MSVD são especialmente adequados para revestimentos complexos que contêm uma ou mais camadas de revestimento, pois permitem que uma seleção mais ampla de materiais de revestimento seja depositada com espessuras mais finas em uma variedade mais ampla de substratos. No entanto, enquanto MSVD é a técnica desejada para depositar revestimentos complexos contendo uma ou mais camadas de revestimento, alguns materials não são depositados adequadamente usando MSVD. Em particular, quando depositado pelo MSVD em um ambiente de 80% de oxigênio - 20% de argônio, seguido de aquecimento, o óxido de estanho dopado com antimônio forma uma película fina que não absorve a luz visível.
[0004] Portanto, é desejável fornecer novos revestimentos de controle solar que bloqueiem ou filtem certas faixas de radiação eletromagnética. Também é desejável fornecer métodos de aplicação de revestimentos de controle solar formados a partir de certos materiais que fornecem melhores propriedades de controle solar.
[0005] A presente invenção se refere a um artigo revestido compreendendo um substrato e um revestimento aplicado sobre pelo menos uma porção do substrato. O revestimento inclui pelo menos uma camada metálica compreendendo um ou mais compostos de prata dopados com pelo menos um metal selecionado a partir dos Grupos 3 a 15 da tabela periódica da substância química dos elementos. Por exemplo, a camada metálica pode compreender um ou mais compostos de prata dopados com pelo menos um metal selecionado a partir dos Grupos 4 a 14 da tabela periódica dos elementos. Em alguns exemplos, o composto de prata é dopado com um metal selecionado a partir de estanho, ferro, cromo, cobalto, níquel, manganês, cobre, ouro, zinco ou uma combinação dos mesmos. O composto de prata dopada pode compreender ainda pelo menos 50% de prata, com base no peso total de sólidos do composto de prata dopado.
[0006] O revestimento da presente invenção pode compreender ainda pelo menos duas camadas dielétricas separadas, de modo que a camada metálica seja posicionada entre as duas camadas dielétricas separadas. Em alguns exemplos, pelo menos uma camada de iniciador aplicada sobre a camada metálica. A camada de iniciador pode ser formada a partir de um material que compreende titânio, ligas contendo níquel e cromo, silício, dióxido de silício, nitreto de silício, oxinitreto de silício, níquel-cromo, zircônio, alumínio, ligas de silício e alumínio, ligas contendo cobalto e cromo, ou combinações dos mesmos.
[0007] A camada metálica também pode compreender uma camada metálica contínua ou uma camada descontínua. O revestimento também pode compreender pelo menos uma camada metálica adicional. À camada metálica adicional pode ser formada a partir de um material que compreende ouro, cobre, prata, alumínio ou combinações dos mesmos. Além disso, em alguns exemplos, o substrato é de vidro, como uma unidade de vidro isolante.
[0008] O revestimento da presente invenção também pode incluir: uma primeira camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção do substrato; uma primeira camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira camada dielétrica; uma segunda camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção da primeira camada metálica; uma segunda camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da segunda camada dielétrica; e uma terceira camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção da segunda camada metálica. Além disso, pelo menos uma dentre as camadas metálicas é formada a partir de um material que compreende um ou mais compostos de prata dopados com pelo menos um metal selecionado a partir dos Grupos 3 a 15 da tabela periódica dos elementos. Além disso, pelo menos uma dentre as camadas metálicas pode ser uma camada metálica contínua ou uma camada metálica descontínua. Em alguns exemplos, uma terceira camada metálica é formada sobre a terceira camada dielétrica e uma quarta camada dielétrica é formada sobre pelo menos uma porção da terceira camada metálica. Além disso, pelo menos uma camada de iniciador pode ser formada sobre pelo menos uma dentre as camadas metálicas.
[0009] A presente invenção também inclui um artigo revestido compreendendo: um substrato e um revestimento aplicado sobre pelo menos uma porção do substrato em que o revestimento compreende uma ou mais camadas metálicas e uma ou mais camadas dielétricas. Além disso, pelo menos uma dentre as camadas dielétricas compreende uma cápsula compreendendo uma primeira película de nitreto de silício, uma camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício e uma segunda película de nitreto de silício formada sobre pelo menos uma porção do metal camada.
[0010] A camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício pode compreender um material que absorve pelo menos uma porção da radiação eletromagnética que passa através do revestimento. Por camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício compreende titânio, silício, dióxido de silício, ligas de níquel-cromo, zircônio, alumínio, ligas de silício e alumínio, ligas contendo cobalto e cromo, ou as misturas dos mesmos. Em alguns exemplos, e a camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício compreende ligas de níquel-cromo ligas contendo cobalto e cromo, ou as combinações dos mesmos. Além disso, pelo menos uma dentre as camadas metálicas pode ser uma camada metálica descontínua e/ ou uma camada metálica contínua. A camada metálica também pode ser um sub-óxido ou um sub-nitreto. Por exemplo, a camada metálica pode ser um sub-nitreto de silício, um sub-nitreto de níquel ou um sub-nitreto de silício-níquel.
[0011] O artigo revestido também pode compreender um revestimento de sobreposição. O revestimento pode incluir uma cápsula compreendendo uma primeira película de nitreto de silício, uma camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício e uma segunda película de nitreto de silício formada sobre pelo menos uma porção da camada metálica.
[0012] A presente invenção pode incluir ainda um artigo revestido compreendendo um substrato e um revestimento aplicado sobre pelo menos uma porção do substrato em que o revestimento compreende: uma primeira camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção do substrato; uma primeira camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira camada dielétrica; uma segunda camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção da primeira camada metálica; uma segunda camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da segunda camada dielétrica; uma terceira camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção da segunda camada metálica e um revestimento de sobreposição formado sobre pelo menos uma porção da terceira camada dielétrica. Além disso, pelo menos uma dentre as camadas dielétricas e/ou revestimento de sobreposição compreende uma cápsula compreendendo uma primeira película de nitreto de silício, uma camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício e uma segunda película de nitreto de silício formada sobre pelo menos uma porção do metal camada.
[0013] O revestimento pode incluir ainda, uma terceira camada metálica é formada sobre a terceira camada dielétrica e uma quarta camada dielétrica é formada sobre pelo menos uma porção da terceira camada metálica. Em tais exemplos, o revestimento de sobreposição é formado sobre pelo menos uma porção da quarta camada dielétrica.
[0014] A presente invenção também é direcionada a um processo para formar uma camada de revestimento de óxido de estanho dopado com antimônio sobre um substrato. O processo inclui: (a) aplicar óxido de estanho dopado com antimônio a um substrato em uma atmosfera gasosa compreendendo oxigênio e um gás nobre usando um revestidor MSVD, em que a atmosfera gasosa compreende pelo menos 15% de oxigênio; e (b) aquecer o substrato revestido acima de um ponto de amolecimento do substrato. Em alguns exemplos, a atmosfera gasosa compreende de 15% a 25% de oxigênio. Em outro exemplo, a atmosfera gasosa compreende mais de 25% de oxigênio. Além disso, o gás nobre usado no presente método pode ser argônio.
[0015] Além disso, o óxido de estanho dopado com antimônio pode compreender de 20% em peso a 80% em peso de óxido de estanho com base no peso total do óxido de estanho dopado com antimônio. A razão de antimônio para óxido de estanho também pode ser selecionada dentro de uma faixa de razão de peso de 40:60 a 60:40 de antimônio para óxido de estanho.
[0016] O processo também é realizado sob várias condições. Por exemplo, o óxido de estanho dopado com antimônio pode ser aplicado a uma pressão na faixa de 1 mTorr a 3 mTorr, à temperatura ambiente. A tensão de um dispositivo MSVD também pode ser controlada para fornecer a porcentagem de oxigênio. Por exemplo, a tensão pode ser selecionada de modo que a atmosfera gasosa seja mantida em um modo de transição.
[0017] Em alguns exemplos, o substrato é de vidro e o substrato revestido é aquecido a uma temperatura de pelo menos 426,66ºC(800ºF). Além disso, a camada de revestimento de óxido de estanho dopado com antimônio pode absorver pelo menos 3% de luz visível. A camada de revestimento de óxido de estanho dopado com antimônio também pode transmitir luz neutra e/ ou azul.
[0018] Conforme usado pelo presente documento, termos espaciais ou direcionais, como "esquerdo", "direito", "interno", "externo", "acima", "abaixo" e similares, se relacionam à invenção, como é mostrado no desenho figuras. No entanto, deve se entender que a invenção pode assumir várias orientações alternativas e, consequentemente, esses termos não devem ser considerados limitativos. Além disso, conforme usado neste documento, todos os números que expressam dimensões, características físicas, parâmetros de processamento, quantidades de ingredientes, condições de reação e similares, usados na especificação e nas reivindicações, devem ser entendidos como modificados em todas as instâncias pelo termo "cerca de". Por conseguinte, a menos que indicado em contrário, os valores numéricos estabelecidos nas especificações e reivindicações seguintes podem variar em função das propriedades pretendidas para a presente invenção. No mínimo, e não como uma tentativa de limitar a aplicação da doutrina de equivalentes ao escopo das reivindicações, cada valor numérico deve pelo menos ser interpretado à luz do número de dígitos significativos relatados e aplicando-se técnicas de arredondamento comuns. Além disso, todos as faixas divulgadas pelo presente documento devem ser entendidos como englobando os valores inicial e final das faixas e todas e quaisquer subfaixas nela incluídas. Por exemplo, uma faixa estabelecida de "1 a 10" deve ser considerada como incluindo toda e qualquer subfaixa entre (e inclusive) o valor mínimo de 1e o valor máximo de 10; isto é, todas as subfaixas começando com um valor mínimo de 1 ou mais e terminando com um valor máximo de 10 ou menos, por exemplo, 1 a 3,3, 4,7 a 7,5, 5,5 a 10 e similares. Além disso, como utilizado pelo presente documento, os termos "formado sobre", "depositado sobre" ou "fornecido sobre" significam formado, depositado ou fornecido sobre, mas não necessariamente em contato com a superfície. Por exemplo, uma camada de revestimento "formada sobre" um substrato não exclui a presença de uma ou mais outras camadas ou películas de revestimento da mesma composição ou composição diferente localizada entre a camada de revestimento formada e o substrato.
[0019] Além disso, todos os documentos, como, sem limitação, patentes e pedidos de patentes emitidos mencionados pelo presente documento devem ser considerados como "incorporados por referência" em sua totalidade. Como usado pelo presente documento, o termo "película" se refere a uma região de revestimento de uma composição de revestimento desejada ou selecionada. Uma "camada" pode compreender um ou mais "películas" e um "revestimento" ou "pilhas de revestimento" pode compreender uma ou mais "camadas". O termo "espessura crítica" significa uma espessura acima da qual um material de revestimento forma uma camada contínua e ininterrupta e abaixo da qual o material de revestimento forma regiões descontínuas ou ilhas do material de revestimento, em vez de uma camada contínua. O termo "espessura subcrítica" significa uma espessura abaixo da espessura crítica, de modo que o material de revestimento forme regiões isoladas e não conectadas do material de revestimento. O termo "ilha" significa que o material de revestimento não é uma camada contínua, mas sim que o material é depositado para formar regiões ou ilhas isoladas.
[0020] O termo "nitreto de silício" significa e inclui um composto tendo um átomo de silício e um átomo de nitrogênio. Pode incluir quantidades estequiométricas de silício e nitrogênio, como Si3N, ou SiyN, em que 2,9<v<3,1 e 3,9£7$4,1 e pode incluir ainda alumínio (isto é, SIKAIN;). Também inclui quantidades não estequiométricas de silício e nitrogênio, como Si,N,, onde 0,5<v<S3,1 e 0,5%7<4,1.
[0021] Os termos "metal" e "óxido de metal" incluem silício e sílica, respectivamente, bem como metais e óxidos de metal tradicionalmente conhecidos, mesmo que o silício convencionalmente não possa ser considerado um metal.
[0022] Para os propósitos da descrição detalhada a seguir, no entanto, deve ser entendido que a invenção pode assumir várias variações alternativas e sequências de etapas, exceto onde expressamente especificado em contrário. Além disso, exceto em quaisquer exemplos operacionais, ou onde indicado de outra forma, todos os números expressos, por exemplo, quantidades de ingredientes usados na especificação e reivindicações devem ser entendidos como modificados em todas as instâncias pelo termo "cerca de". Assim, a menos que seja indicado o contrário, os valores numéricos estabelecidos nas especificações e reivindicações seguintes podem variar em função das propriedades pretendidas para a presente invenção. No mínimo, e não como uma tentativa de limitar a aplicação da doutrina de equivalentes ao escopo das reivindicações, cada parâmetro numérico deve pelo menos ser interpretado à luz do número de dígitos significativos relatados e aplicando-se técnicas de arredondamento comuns.
[0023] Não obstante as faixas e parâmetros numéricos que estabelecem o amplo escopo da invenção sejam aproximações, os valores numéricos estabelecidos nos exemplos específicos são relatados com a maior precisão possível. Qualquer valor numérico, no entanto, contém inerentemente certos erros resultantes necessariamente da variação padrão encontrada em suas respectivas medições de teste.
[0024] Também, deve ser entendido que qualquer faixa numérica citada pelo presente documento se destina a incluir todos as subfaixas nela incluídas. Por exemplo, uma faixa de "1 a 10" pretende incluir todos as subfaixas entre (e incluindo) o valor mínimo citado de 1 e o valor máximo citado de 10, ou seja, com um valor mínimo igual ou maior que 1 e um valor máximo igual ou menor que 10.
[0025] Neste pedido, o uso do singular inclui o plural e o plural abrange o singular, a menos que especificamente indicado de outra maneira. Além disso, neste pedido, o uso de "ou" significa "e/ ou", a menos que seja especificamente indicado de outra maneira, mesmo que "e/ ou" possam ser explicitamente usados em certos casos. Além disso, neste pedido, o uso de "um" ou "uma" significa "pelo menos um", a menos que seja especificado de outra maneira.
[0026] Além disso, como utilizado pelo presente documento, os termos "formado sobre", "depositado sobre" ou "fornecido sobre" significam formado, depositado ou fornecido sobre, mas não necessariamente em contato com a superfície. Por exemplo, uma camada de revestimento "formada sobre" um substrato não exclui a presença de uma ou mais outras camadas ou películas de revestimento da mesma composição ou composição diferente localizada entre a camada de revestimento formada e o substrato.
[0027] Além disso, os termos "polímero" ou "polimérico" incluem oligômeros, homopolímeros, copolímeros e terpolímeros, por exemplo, polímeros formados a partir de dois ou mais tipos de monômeros ou polímeros. Os termos "região visível" ou "luz visível" se referem à radiação eletromagnética com um comprimento de onda na faixa de 380 nm a 800 nm. Os termos "região infravermelha" ou "radiação infravermelha" se referem à radiação eletromagnética com comprimento de onda na faixa de mais de 800 nm a 100.000 nm. Os termos "região ultravioleta" ou "radiação ultravioleta" significam energia eletromagnética com um comprimento de onda na faixa de 300 nm a menos do que 380 nm.
[0028] Como usado pelo presente documento, o termo "película" se refere a uma região de revestimento de uma composição de revestimento desejada ou selecionada. Uma "camada" pode compreender um ou mais "películas" e um "revestimento" ou "pilhas de revestimento" pode compreender uma ou mais "camadas". O termo "espessura crítica" significa uma espessura acima da qual um material de revestimento forma uma camada contínua e ininterrupta e abaixo da qual o material de revestimento forma regiões descontínuas ou ilhas do material de revestimento, em vez de uma camada contínua. O termo "espessura subcrítica" significa uma espessura abaixo da espessura crítica, de modo que o material de revestimento forme regiões isoladas e não conectadas do material de revestimento. O termo "ilha" significa que o material de revestimento não é uma camada contínua, mas sim que o material é depositado para formar regiões ou ilhas isoladas.
[0029] Como indicado, a presente invenção se refere a revestimentos de controle solar aplicados a um substrato. Como usado pelo presente documento, o termo "revestimento de controle solar" se refere a um revestimento composto de uma ou mais camadas ou películas que afetam as propriedades solares do artigo revestido, como, mas não limitado a, a quantidade de radiação solar, por exemplo, radiação visível, infravermelha ou ultravioleta, refletida, absorvida ou passando pelo artigo revestido; coeficiente de sombreamento; emissividade, etc. O revestimento de controle solar pode bloquear, absorver ou filtrar partes selecionadas do espectro solar, como, entre outros, os espectros IV, UV e/ ou visível.
[0030] Os revestimentos de controle solar são tipicamente aplicados a substratos que exibem algum grau de transparência à luz visível, como vidro flotado ou materiais poliméricos, que podem ser incorporados a um sistema de envidraçamento, como uma unidade de vidro isolante (IGU). Deve ser entendido que os revestimentos de controle solar da presente invenção podem ser praticados com vários tipos de substratos. Por exemplo, os revestimentos de controle solar da presente invenção podem ser aplicados a janelas residenciais e/ ou comerciais laminadas ou não laminadas, unidades de vidro isolante e/ ou transparências para veículos terrestres, aéreos, espaciais, acima da água e subaquáticos. Exemplos de materiais adequados incluem, porém, sem limitação, substratos de plástico, tais como polímeros acrílicos, tais como poliacrilatos; polialquilmetacrilatos, tais como polimetilmetacrilatos, polietilmetacrilatos, polipropilmetacrilatos — e similares; poliuretanos; policarbonatos; polialquiltereftalatos, tais como polietilenotereftalato (PET), polipropilenotereftalatos, — polibutilenotereftalatos e similares; polímeros contendo polissiloxano; ou copolímeros de quaisquer monômeros para prepará-los, ou quaisquer misturas dos mesmos; substratos cerâmicos; substratos de vidro; ou misturas ou combinações de qualquer um dos itens acima.
[0031] Como descrito anteriormente, o substrato pode incluir um substrato transparente. Deve ser entendido que, embora um substrato transparente típico possa ter transmissão de luz visível suficiente, de modo que os materiais possam ser vistos através da transparência, a transparência não precisa ser transparente para a luz visível, mas pode ser translúcida ou opaca. Além disso, a transparência do substrato pode exibir qualquer luz visível desejada, radiação infravermelha ou transmissão e/ ou reflexão de radiação ultravioleta. Por exemplo, o substrato pode ter uma transmissão de luz visível de acordo com qualquer quantidade desejada, por exemplo, maior que 0% e até 100%.
[0032] Em alguns exemplos, o substrato é uma unidade de vidro isolante convencional. Exemplos de tais substratos são descritos na publicação do pedido dos U.S. nº 2011/0236715, que é incorporada por referência pelo presente documento na sua totalidade. Por exemplo, e como descrito na Publicação de pedido dos U.S. No. 2011/0236715, o substrato é uma unidade de vidro isolante convencional que inclui uma primeira camada com uma primeira superfície principal e uma segunda superfície principal oposta. O substrato também pode incluir uma segunda camada tendo uma (primeira) superfície principal externa e uma superfície principal (segunda) interna e que é espaçada da primeira camada. A primeira e a segunda camadas podem ser conectadas em conjunto de acordo com qualquer maneira adequada, como por meio de ligação adesiva a uma estrutura espaçadora convencional. Um espaço ou câmara é formado entre as duas camadas. A câmara pode ser preenchida com uma atmosfera selecionada, como ar, ou um gás não reativo, como argônio ou gás criptônio. Exemplos não limitativos de unidades de vidro isolante também são descritos nas Patentes U.S. Nos. 4.193.236; 4.464.874;
5.088.258; e 5.106.663, que são incorporadas por referência pelo presente documento na sua totalidade.
[0033] Quando uma unidade de vidro isolante é usada, as camadas podem ser do mesmo ou de diferentes materiais. Por exemplo, uma ou mais das camadas podem ser transparentes ou translúcidas à luz visível. Como usado pelo presente documento, o termo "translúcido" se refere a um substrato que permite que a energia eletromagnética (por exemplo, luz visível) passe, mas que difunde a energia de modo que os objetos do lado oposto não sejam claramente visíveis para o espectador. Por exemplo, uma ou mais das camadas podem incluir vidro convencional de soda-cal-silicato, vidro de borossilicato ou vidro com chumbo. O vidro pode ser transparente, como vidro não colorido ou não colorido. Alternativamente, o vidro pode ser vidro tingido ou de outra forma colorido. O vidro pode ser vidro recozido ou tratado termicamente. Como usado no presente documento, o termo “tratado termicamente” significa temperado ou pelo menos parcialmente temperado. O vidro pode ser de qualquer tipo, tal como vidro flotado convencional, e pode ser de qualquer composição com quaisquer propriedades ópticas, por exemplo, qualquer valor de transmissão visível, transmissão ultravioleta, transmissão infravermelha e/ou transmissão total de energia solar. Ainda, conforme usado pelo presente documento, o termo “vidro flotado” se refere a vidro formado por um processo de flotagem convencional em que vidro fundido é depositado sobre um banho de metal fundido e resfriado de forma controlável para formar uma fita de vidro flotado. Exemplos de processos de vidro flotado são divulgados nas Patentes U.S. Nos. 4.466.562 e 4.671.155, que são incorporadas por referência pelo presente documento em sua totalidade.
[0034] Como indicado, um revestimento de controle solar é depositado sobre pelo menos uma porção do substrato. Por exemplo, um revestimento de controle solar pode ser depositado sobre pelo menos uma porção de pelo menos uma superfície principal de uma dentre as camadas de vidro de uma unidade de vidro isolante. De acordo com a presente invenção, o revestimento de controle solar inclui pelo menos uma camada metálica compreendendo um ou mais compostos de prata dopados com pelo menos um metal selecionado a partir dos Grupos 3 a 15 (União Internacional de Química Pura e Aplicada (IUPAC)) da Tabela Periódia dos elementos ou dos Grupos 4 a 14 (União Internacional de Química Pura e Aplicada (IUPAC)) da tabela periódica dos elementos. Assim, a presente invenção inclui um substrato, como um substrato transparente, pelo menos parcialmente revestido com um revestimento de controle solar compreendendo pelo menos uma camada metálica compreendendo um ou mais compostos de prata dopados com pelo menos um metal selecionado a partir dos Grupos 3 a 15, ou Grupos 4 a 14 (União Internacional de Química Pura e Aplicada (IUPAC)) da tabela periódica dos elementos. Por exemplo, a presente invenção inclui um substrato, como um substrato transparente, pelo menos parcialmente revestido com um revestimento de controle solar compreendendo pelo menos uma camada metálica compreendendo um ou mais compostos de prata dopados com pelo menos um metal selecionado a partir de estanho, ferro, cromo, cobalto, níquel, manganês, cobre, ouro e zinco.
[0035] Como usado pelo presente documento, um "composto de prata dopado", em relação a uma camada de revestimento, se refere a uma camada de revestimento formada com um composto de prata e pelo menos um outro material adicionado à camada de revestimento. Portanto, uma camada metálica compreendendo um composto de prata dopado com pelo menos um metal selecionado a partir dos Grupos 3 a 15, ou Grupos 4 a 14, se refere a uma camada de revestimento formada a partir de um composto de prata e pelo menos um metal selecionado a partir dos Grupos 3 a 15, ou Grupos 4 a 14.
[0036] Além disso, a camada metálica à base de prata pode compreender pelo menos 50% em peso de prata, ou pelo menos 60% em peso de prata, ou pelo menos 70% em peso de prata, ou pelo menos 80% em peso de prata, ou pelo menos 90% em peso de prata, ou pelo menos 95% em peso de prata, ou pelo menos 98% em peso de prata, ou pelo menos 99% em peso de prata, com base no peso total de sólidos da camada de revestimento metálico à base de prata. Como tal, a camada metálica à base de prata pode compreender 50% em peso ou menos de um ou mais metais selecionados a partir dos Grupos 3 a 15 ou Grupos 4 a 14 ou 40% em peso ou menos de um ou mais metais selecionados dos Grupos 3 a 15 ou Grupos 4 a 14, ou 30% em peso ou menos de um ou mais metais selecionados dos Grupos 3 a 15 ou Grupos 4 a 14, ou 20% em peso ou menos de um ou mais metais selecionados dos Grupos 3 a 15 ou Grupos 4 a 14 ou 10% em peso ou menos de um ou mais metais selecionados dos Grupos 3 a 15 ou Grupos 4 a 14, ou 5% em peso ou menos de um ou mais metais selecionados dos Grupos 3 a 15 ou Grupos 4 a 14 ou 2 em peso % ou menos de um ou mais metais selecionados dos Grupos 3 a 15 ou Grupos 4 a 14 ou 1% em peso ou menos de um ou mais metais selecionados dos Grupos 3 a 15 ou Grupos 4 a 14, com base no peso total de sólidos de a camada de revestimento metálico à base de prata.
[0037] A camada metálica à base de prata dopada também pode incluir materiais adicionais. Por exemplo, a camada metálica à base de prata dopada também pode compreender um elemento metálico adicional que não é dopado com o metal de prata, mas é adicionado a ele durante a aplicação inicial do metal de prata. A camada metálica à base de prata dopada também pode compreender um elemento metálico adicional que não pertence aos Grupos 3 a 15. Alternativamente, a camada metálica à base de prata dopada compreende apenas dopação de prata com um ou mais metais selecionados dos Grupos 3 a 15. Como tal, em alguns exemplos, a camada metálica à base de prata dopada está livre de materiais que não a prata e um ou mais metais dopados dos Grupos 3 a 15.
[0038] A camada metálica à base de prata dopada descrita anteriormente pode ser depositada para formar uma camada contínua ou uma camada descontínua. Como utilizado pelo presente documento, uma "camada contínua" se refere a uma camada de revestimento que forma uma película contínua do material e que não possui regiões de revestimento isoladas. Por outro lado, uma "camada descontínua" se refere a uma camada de revestimento que forma um película descontínua do material e que inclui regiões de revestimento isoladas. É apreciado que a camada metálica à base de prata dopada pode ser depositada abaixo de uma espessura crítica (também denominada "camadas subcríticas") para formar regiões descontínuas ou ilhas da camada descontínua, em vez de uma camada contínua. Essas camadas descontínuas absorvem a radiação eletromagnética através de um efeito conhecido como ressonância plasmônica de superfície. Essas camadas subcríticas têm tipicamente maior absorbância na região visível do que uma camada contínua do mesmo material e também menor refletância de energia solar.
[0039] Verificou-se que a adição de um ou mais metais selecionados a partir dos Grupos 3 a 15 (União Internacional de Química Pura e Aplicada (IUPAC)) da tabela periódica dos elementos aumenta ainda mais a absorção das camadas de revestimento à base de prata não aquecida e temperada. Por exemplo, verificou-se que a adição de pelo menos um metal selecionado a partir de pelo menos um dentre estanho, ferro, cromo, cobalto, níquel, manganês, cobre, ouro e zinco aumenta a absorção das camadas de revestimento à base de prata não aquecida e temperada.
[0040] Como descrito anteriormente, os revestimentos de controle solar da presente invenção podem compreender camadas de revestimento adicionais. Por exemplo, o revestimento de controle solar pode compreender duas ou mais camadas metálicas compreendendo um ou mais compostos de prata dopados com pelo menos um metal selecionado a partir dos Grupos 3 a ou Grupos 4 a 14 (União Internacional de Química Pura e Aplicada (IUPAC)) da tabela periódica dos elementos. O revestimento de controle solar também pode compreender mais uma camada de revestimento adicional que é diferente da pelo menos uma camada metálica que compreende um ou mais compostos de prata dopados com pelo menos um metal selecionado a partir dos Grupos 3 a 15 ou Grupos 4 a 14 (International Union of Química Pura e Aplicada (IUPAC)) da tabela periódica dos elementos. Por exemplo, o revestimento de controle solar pode compreender a camada metálica à base de prata dopada descrita anteriormente posicionada entre duas camadas dielétricas separadas, como a camada dielétrica descrita em mais detalhes pelo presente documento. Deve ser entendido que os revestimentos de controle solar podem compreender vários tipos de camadas de revestimento adicionais, incluindo, mas não se limitando a, camadas de iniciadores e diferentes camadas metálicas (camadas metálicas subcríticas e não subcríticas). Tais camadas de revestimento e combinações de camadas de revestimento são descritas em mais detalhes na Publicação de Pedido U.S. 2011/1136715, que é incorporada por referência pelo presente documento na sua totalidade.
[0041] Em alguns exemplos, o revestimento de controle solar pode compreender uma camada de base ou primeira camada dielétrica depositada sobre pelo menos uma porção de uma superfície do substrato. À primeira camada dielétrica pode ser uma camada única ou pode compreender mais de uma película de materiais antirreflexivos e/ ou materiais dielétricos, tais como, sem limitação, óxidos metálicos, óxidos de ligas metálicas, nitretos, oxinitretos ou misturas dos mesmos. A primeira camada dielétrica 140 pode ser transparente à luz visível. Exemplos não limitativos de óxidos de metal adequados para a primeira camada dielétrica incluem óxidos de titânio, háfnio, zircônio, nióbio, zinco, bismuto, chumbo, índio, estanho e misturas dos mesmos. Esses óxidos metálicos podem ter pequenas quantidades de outros materiais, tals como manganês em óxido de bismuto, estanho em óxido de índio, etc. Adicionalmente, óxidos de ligas metálicas ou misturas de metal podem ser usadas, tais como óxidos que contém zinco e estanho (por exemplo, estanato de zinco), óxidos de ligas de índio-estranho, nitretos de silício, nitretos de alumínio e silício, ou nitretos de alumínio. Ademais, podem ser usados óxidos de metal dopados, tais como antimônio ou óxidos de estanho dopados com índio ou óxidos de silício dopados com níquel ou boro. A primeira camada dielétrica pode ser uma película de fase substancialmente monofásica, como um película de óxido de liga de metal, por exemplo, estanato de zinco, ou pode ser uma mistura de fases composta de óxidos de zinco e estanho ou pode ser composta de uma pluralidade de películas.
[0042] Além disso, a primeira camada dielétrica (seja uma película única ou camada de múltiplas películas) pode ter uma espessura na faixa de 100 À a 600 À, como 200 À a 500 À, como 250 À a 350 À, como 250 À a 310 À, como 280 À a 310 À, como 300 À a 330 À, como 310 À a 330 À.
[0043] Como observado anteriormente, a primeira camada dielétrica pode compreender uma estrutura de múltiplas películas. Por exemplo, a primeira camada dielétrica pode compreender uma estrutura de múltiplas películas tendo uma primeira película, por exemplo, um película de óxido de liga de metal, depositado sobre pelo menos uma porção do substrato e uma segunda película, por exemplo, um película de mistura de óxido ou óxido de metal, depositado sobre a primeira película de óxido de liga de metal. Um exemplo não limitativo de uma primeira camada dielétrica compreendendo uma estrutura de múltiplas películas é descrito na Publicação de pedido dos U.S. No. 2011/0236715 nos parágrafos [0036] a [0039], que é incorporada por referência pelo presente documento.
[0044] O revestimento de controle solar pode compreender uma primeira camada metálica depositada sobre a primeira camada dielétrica. À primeira camada metálica pode incluir um metal refletivo ou não refletivo, como, mas não limitado a, ouro metálico, cobre, paládio, alumínio, prata, ou misturas, ligas ou combinações dos mesmos. A primeira camada metálica também pode compreender a camada metálica à base de prata descrita anteriormente dopada com pelo menos um metal selecionado a partir dos Grupos 3 a 15 (União Internacional de Química Pura e Aplicada (IUPAC)) da tabela periódica dos elementos ou dos Grupos 4 a 14 (União Internacional de Química Pura e Aplicada (IUPAC)) da tabela periódica dos elementos. Em alguns exemplos, a primeira camada metálica é uma camada contínua. De modo alternativo, a primeira camada metálica é uma camada descontínua.
[0045] Os revestimentos de controle solar podem compreender ainda uma primeira camada de iniciador localizada sobre a primeira camada metálica. A primeira camada de primer pode ser um filme único ou uma camada de múltiplos filmes. A primeira camada de iniciador pode incluir um material de captura de oxigênio que pode ser sacrificado durante o processo de deposição para impedir a degradação ou oxidação da primeira camada refletiva durante o processo de pulverização ou subsequentes processos de aquecimento. A primeira camada de iniciador também pode absorver pelo menos uma porção de radiação eletromagnética, como luz visível, passando através do revestimento. Exemplos não limitativos de materiais adequados para a primeira camada de iniciador incluem titânio, silício, dióxido de silício, nitreto de silício, oxinitreto de silício, ligas de níquel-cromo (como Inconel), zircônio, alumínio, ligas de silício e alumínio, ligas contendo cobalto e cromo (por exemplo, Stellite&) e/ ou as misturas dos mesmos. Por exemplo, a primeira camada de iniciador pode ser titânio e pode ter uma espessura na faixa de 5 À a 50 À, por exemplo, 10 À a 40 À, por exemplo, 20 À a 40 À, por exemplo, 20 À a 35 À.
[0046] Uma segunda camada dielétrica também pode ser depositada sobre a primeira camada metálica (por exemplo, sobre a primeira camada de iniciador). A segunda camada dielétrica pode compreender uma ou mais películas contendo óxido de metal ou óxido de liga de metal, tais como as descritas acima em relação à primeira camada dielétrica. A segunda camada dielétrica pode ter uma espessura total (por exemplo, as espessuras combinadas das camadas) na faixa de 50 À a 1000 À, por exemplo, 50 À a 500 À, por exemplo, 100 À a 370 À, por exemplo, 100 À a 300 À, por exemplo, 100 À a 200 À, por exemplo, 150 À a 200 À, por exemplo, 180 À a 190 À.
[0047] Além disso, uma segunda camada metálica pode ser depositada sobre a segunda camada dielétrica. O material metálico pode compreender qualquer uma dentre as camadas metálicas descritas anteriormente, como o composto de prata descrito anteriormente ou compostos dopados com pelo menos um metal selecionado a partir dos Grupos 3 a 15 (União Internacional de Química Pura e Aplicada (IUPAC)) da tabela periódica de os elementos, ou dos Grupos 4 a 14 (União Internacional de Química Pura e Aplicada (IUPAC)) da tabela periódica dos elementos. O material metálico também pode ser aplicado a uma espessura subcrítica, de modo a formar regiões ou ilhas isoladas do material. Alternativamente, o material metálico pode ser depositado para formar uma camada contínua.
[0048] Uma segunda camada de iniciador pode ser depositada sobre a segunda camada metálica. A segunda camada de iniciador pode ser como descrito acima em relação à primeira camada de iniciador. Em um exemplo, a segunda camada de iniciador pode ser uma liga de níquel-cromo (como Inconel) com uma espessura na faixa de 5 À a 50 À, por exemplo, 10 À a 25 À, por exemplo, 15 À a 25 À, por exemplo, 15 À a 22 À. Deve ser entendido que diferentes iniciadores (por exemplo, tendo diferentes índices de refração) podem fornecer ao revestimento diferentes espectros de absorbância e, portanto, cores diferentes.
[0049] Uma terceira camada dielétrica pode ser depositada sobre a segunda camada metálica (por exemplo, sobre a segunda película primária). A terceira camada dielétrica também pode incluir uma ou mais camadas contendo óxido de metal ou óxido de liga de metal, como discutido acima em relação às primeira e segunda camadas dielétricas. Em um exemplo, a terceira camada dielétrica é uma camada de múltiplas películas similar à segunda camada dielétrica. Por exemplo, ambas as camadas de óxido de zinco estão presentes na terceira camada dielétrica e cada uma tem uma espessura na faixa de 50 À a 200 À, como 75 À a 150 À, como 80 À a 150 À, como 95 À a 120 À. A camada de óxido de liga de metal pode ter uma espessura na faixa de 100 À a 800 À, por exemplo, 200 À a 700 À, por exemplo, 300 À a 600 À, por exemplo, 380 À a 500 À, por exemplo, 380 À a 450 À.
[0050] Uma terceira camada metálica pode ser depositada sobre a terceira camada dielétrica. A terceira camada refletora pode ser de qualquer um dos materiais discutidos acima em relação à primeira camada metálica. Em um exemplo não limitativo, a terceira camada refletiva inclui prata e tem uma espessura na faixa de 25 À a 300 À, por exemplo, 50 À a 300 À, por exemplo, 50 À a 200 À, como 70 À a 151 À, como 100 À a 150 À, como 137 À a 150 À. À terceira camada metálica também pode ser uma camada contínua ou descontínua.
[0051] Uma terceira camada de iniciador está localizada sobre a terceira camada metálica. A terceira camada de iniciador pode ser como descrito acima em relação à primeira ou segunda camadas de iniciador. Em um exemplo não limitativo, a terceira camada de iniciador é titânio e tem uma espessura na faixa de 5 À a 50 À, por exemplo, 10 À a 33 À, por exemplo, 20 À a 30 À.
[0052] Além disso, uma quarta camada dielétrica pode ser localizada sobre a terceira camada metálica (por exemplo, sobre a terceira camada de iniciador). A quarta camada dielétrica pode ser composta por uma ou mais camadas contendo óxido de metal ou óxido de liga de metal, como as discutidas acima em relação à primeira, segunda ou terceira camadas dielétricas. Em um exemplo não limitativo, a quarta camada dielétrica é uma camada de múltiplas películas com uma primeira camada de óxido de metal, por exemplo, uma camada de óxido de zinco, depositada sobre a terceira película primária e uma segunda camada de óxido de liga de metal, por exemplo, um zinco camada de estanato, depositada sobre a camada de óxido de zinco. Por exemplo, a camadas de óxido de zinco tem uma espessura na faixa de 25 À a 200 À, como 50 À a 150 À, como 60 À a 100 À, como 80 À a 90 À. Além disso, a camada de estanato de zinco pode ter uma espessura na faixa de 25 À a 500 À, por exemplo, 50 À a 500 À, por exemplo, 100 À a 400 À, por exemplo, 150 À a 300 À, por exemplo, 150 À a 300 À, por exemplo, 150 À a 200 À, por exemplo, 170 À a 190 À.
[0053] Uma camada de proteção pode estar localizada sobre a quarta camada dielétrica. O revestimento de sobreposição pode ajudar a proteger as camadas de revestimento subjacentes contra ataques mecânicos e químicos. O revestimento de sobreposição pode ser, por exemplo, uma camada de óxido de metal ou nitreto de metal. Por exemplo, o revestimento de sobreposição pode ser titânia com uma espessura na faixa de 10 À a 100 À, tal como 20 À a 80 À, tal como 30 À a 50 À, tal como 30 À a 45 À. Outros materiais úteis para o revestimento de sobreposição incluem outros óxidos, como sílica, alumina ou uma mistura de sílica e alumina.
[0054] Quando usada sozinha ou em uma pilha de revestimento de camadas múltiplas camadas, a camada metálica compreendendo um ou mais compostos de prata dopados com pelo menos um metal selecionado a partir dos Grupos 3 a 15 ou Grupos 4 a 14 (União Internacional de Química Pura e Aplicada (IUPAC) ) da tabela periódica dos elementos aumenta a absorbância da luz visível do revestimento. É apreciado que uma ou mais das camadas metálicas descritas anteriormente possam compreender a camada metálica de prata dopada com pelo menos um metal selecionado a partir dos Grupos 3 a 15. Além disso, a combinação das camadas metálicas com espessuras selecionadas das camadas dielétricas pode fornecer ao artigo revestido uma refletividade assimétrica. A cor do artigo também pode ser sintonizada na transmissão, alterando o iniciador (s) usado (s) no revestimento. Além disso, o revestimento da invenção é capaz de ser tratado termicamente sem a introdução de neblina.
[0055] Deve ser entendido que qualquer uma dentre as camadas metálicas pode ser uma camada contínua ou uma camada descontínua em uma pilha de revestimento quando usada. Por exemplo, para pilhas de revestimento com uma pluralidade de camadas de revestimento metálico, mais de uma dentre as camadas metálicas pode ser uma camada metálica subcrítica descontínua ou uma camada metálica contínua.
[0056] Além disso, pelo menos uma dentre as camadas descritas anteriormente pode incluir ou ser substituída por outro material, a fim de ajustar as propriedades do revestimento final. Por exemplo, pelo menos uma dentre as camadas dielétricas descritas anteriormente, camadas de iniciador e/ ou revestimento de sobreposição pode compreender ou ser formada a partir de uma cápsula compreendendo uma primeira película de nitreto de silício, uma camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício e uma segunda película de nitreto de silício formada sobre pelo menos uma porção da camada metálica. A camada metálica de iniciador também pode absorver pelo menos uma porção de radiação eletromagnética, como luz visível, passando através do revestimento. Como tal, a camada metálica pode atuar como uma camada absorvente.
[0057] A camada metálica formada sobre pelo menos uma porção do primeira película de nitreto de silício pode compreender qualquer metal dos Grupos 3-15 da Tabela Periódica. Por exemplo, camada metálica compreende titânio, silício, dióxido de silício, ligas de níquel-cromo, zircônio, alumínio, ligas de silício e alumínio, ligas contendo cobalto e cromo, ou as combinações dos mesmos. Em alguns exemplos, e a camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício compreende ligas de níquel-cromo ligas contendo cobalto e cromo, ou as misturas dos mesmos. Deve ser entendido que a camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício é diferente das primeira e segunda películas de nitreto de silício. Em outros exemplos, a camada metálica compreende um sub-óxido ou sub-nitreto de acordo com qualquer um dos metais do Grupo 3-15 da Tabela Periódica. Por exemplo, a camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício pode estar completamente livre de nitreto de silício. A camada metálica compreende uma película contínua ou uma película descontínua (por exemplo, uma película de prata sub-crítica, uma película de cobre sub-crítico ou uma mistura de prata subcrítica e cobre subcrítico).
[0058] A cápsula descrita anteriormente pode ser usada em pelo menos uma dentre as camadas da pilha de revestimento para fornecer boa radiação eletromagnética, como absorção de luz visível, após aquecimento. Além disso, quando usada como uma camada de revestimento de sobreposição, a cápsula também pode melhorar a durabilidade do revestimento.
[0059] É apreciado que a cápsula compreendendo uma primeira película de nitreto de silício, uma camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício e um segunda película de nitreto de silício formada sobre pelo menos uma porção da camada metálica possa ser colocada em diferentes áreas da pilha de revestimento para fornecer propriedades diferentes. Por exemplo, quando a cápsula é colocada no fundo da pilha de revestimentos, o revestimento exibe certas propriedades de cor que são diferentes das propriedades de cor exibidas em um revestimento em que a cápsula é posicionada no topo da pilha de revestimentos, como no revestimento de sobreposição. Como tal, a área em que a cápsula é colocada na pilha de revestimentos é importante para fornecer uma propriedade desejada no revestimento, como cor, por exemplo.
[0060] Os revestimentos de controle solar podem ser depositados por qualquer método convencional, como, mas não limitado a, métodos convencionais de deposição química a vapor (CVD) e/ ou de deposição física a vapor (PVD). Exemplos de processos CVD incluem pirólise por pulverização. Exemplos de processos de PVD incluem evaporação por feixe de elétrons e a pulverização catódica a vácuo (tal como a deposição por vapor de pulverização catódica de magnetron (MSVD)). Outros métodos de revestimento também podem ser usados, tais como, porém, sem limitação, deposição sol-gel. As camadas podem ser depositadas no modo metálico, no modo de transição ou no modo reativo. Por modo reativo, o metal que é depositado pode ser depositado como um óxido ou como um nitreto.
[0061] Como indicado anteriormente, a presente invenção também é direcionada a métodos aprimorados de aplicação de revestimentos de controle solar para fornecer propriedades aprimoradas de controle solar. Em particular, a presente invenção fornece métodos aprimorados de MSVD para aplicar revestimentos de controle solar compreendendo óxido de estanho dopado com antimônio.
[0062] Os processos MSVD são tipicamente realizados em revestimentos com uma ou mais zonas de revestimento. Cada zona inclui um ou mais alvos para depositar um tipo específico de material em um substrato. Cada alvo é colocado em uma baía que possui seus próprios alimentadores de gás, pelos quais o gás entra na zona. Embora o gás entre em uma zona em lugares diferentes, todo o gás que entra na zona sai em um determinado local da zona. Os gases utilizados durante o processo de deposição incluem gases reativos e/ ou não reativos. Exemplos não limitativos de gases reativos que são comumente usados incluem hidrogênio, oxigênio, nitrogênio e combinações dos mesmos. Além disso, exemplos não limitativos de gases não reativos que são comumente usados incluem um ou mais gases nobres, como o argônio.
[0063] Cada zona de um revestidor é executada, isto é, operada para depositar uma camada de revestimento, em um dos três modos - modo de metal, modo de transição ou modo de óxido. É apreciado que a quantidade de gás reativo que é capaz de reagir com um alvo na zona determina o modo. Por exemplo, o modo de transição pode ocorrer aumentando o gás reativo, como o oxigênio, para uma faixa percentual específica que pode depositar substancialmente óxidos e/ ou sub-óxidos metálicos.
[0064] Além disso, os métodos MSVD podem usar uma ou mais zonas que são executadas independentemente em um ou mais modos. Por exemplo, um método MSVD pode compreender várias zonas que são executadas independentemente em um único modo, como o modo metal. Como alternativa, o método MSVD pode compreender uma ou mais zonas nas quais pelo menos uma das zonas é executada usando vários modos, como modo de metal e modo de transição ou óxido. Exemplos de métodos MSVD que usam múltiplos modos em pelo menos uma zona são descritos na Patente U.S. No. 8.500.965, que é incorporada por referência pelo presente documento na sua totalidade.
[0065] Como descrito anteriormente, os processos MSVD são especialmente adequados para revestimentos complexos que contêm uma ou mais camadas de revestimento, pois permitem que uma seleção mais ampla de materiais de revestimento seja depositada em espessuras mais finas em uma variedade mais ampla de substratos; no entanto, alguns materiais depositados usando MSVD não exibem as propriedades desejadas em um revestimento de controle solar. Por exemplo, quando depositado pelo MSVD seguido de aquecimento, o óxido de estanho dopado com antimônio forma uma película fina que não absorve a luz visível.
[0066] De acordo com a presente invenção, foi verificado que a deposição de óxido de estanho dopado com antimônio sobre um substrato em uma atmosfera gasosa compreendendo oxigênio e um gás nobre usando um revestidor MSVD no qual a atmosfera gasosa compreende pelo menos 15% de oxigênio produz uma película que absorve a luz visível após o aquecimento do substrato revestido acima de um ponto de amolecimento do substrato. Por exemplo, depositando óxido de estanho dopado com antimônio usando MSVD em uma atmosfera gasosa compreendendo um gás nobre e pelo menos 15% de oxigênio seguido de aquecimento do substrato revestido acima de um ponto de amolecimento do substrato, uma película pode ser produzida com absorção de luz visível aprimorada.
[0067] Como descrito anteriormente, o método MSVD de deposição de óxido de estanho dopado com antimônio usando uma atmosfera gasosa compreendendo um gás nobre e pelo menos 15% de oxigênio fornece uma película de absorção de luz visível aprimorada. Em alguns exemplos, o óxido de estanho dopado com antimônio é depositado usando MSVD em uma atmosfera gasosa compreendendo um gás nobre e de 15% a 25% de oxigênio. Com relação à presente invenção, uma atmosfera gasosa compreendendo um gás nobre e de 15% a 25% de oxigênio para depositar óxido de estanho dopado com antimônio é considerada dentro do modo de transição. Em outros exemplos, o óxido de estanho dopado com antimônio é depositado usando MSVD em uma atmosfera gasosa compreendendo um gás nobre e mais que 25% de oxigênio, como maior que 30% de oxigênio ou maior que 40% de oxigênio ou maior que 50% de oxigênio ou mais a 80% de oxigênio. Com relação à presente invenção, uma atmosfera gasosa compreendendo um gás nobre e mais de 25% de oxigênio para depositar óxido de estanho dopado com antimônio é considerada dentro do modo de metal, que também é referido como modo reativo.
[0068] Deve ser entendido que um ou mais gases nobres compõem a quantidade restante da atmosfera gasosa. Por exemplo, a quantidade restante da atmosfera gasosa pode compreender argônio. Como tal, a atmosfera gasosa usada durante a deposição de óxido de estanho dopado com antimônio pode compreender menos de 85% do gás nobre, como o argônio, ou 70% ou menos do gás nobre, como o argônio, ou 60% ou menos do nobre gás como argônio, ou 50% ou menos do gás nobre, como argônio, ou
40% ou menos do gás nobre, como argônio, ou 30% ou menos do gás nobre, como argônio, ou 20% ou menos do gás nobre como o argônio.
[0069] Deve ainda ser entendido que a atmosfera gasosa durante a deposição pode ser baseada em uma razão de peso de oxigênio para gás nobre. Em alguns exemplos, a razão de peso de oxigênio para gás nobre, como oxigênio para argônio, por exemplo, usada para deposição do óxido de estanho dopado com antimônio é selecionada dentro de uma faixa de 20:80 a 80:20 de oxigênio para gás nobre ou de 40:60 a 60:40 de oxigênio a gás nobre, ou de 40:60 a 50:50 de oxigênio a gás nobre, ou em uma razão de peso de 40:60 oxigênio a gás nobre.
[0070] O material de óxido de estanho dopado com antimônio aplicado ao substrato usando MSVD também compreende uma certa quantidade de antimônio e uma certa quantidade de óxido de estanho. Em alguns exemplos, o óxido de estanho dopado com antimônio usado com a presente invenção compreende de 20% em peso a 80% em peso de óxido de estanho, ou de 20% em peso a 80% em peso de óxido de estanho, com base no peso total do estanho dopado com antimônio óxido. O óxido de estanho dopado com antimônio usado com a presente invenção também pode compreender de 40% em peso a 60% em peso de óxido de estanho, ou de 45% em peso a 55% em peso de óxido de estanho ou 50% em peso de óxido de estanho, com base no peso total de o óxido de estanho dopado com antimônio.
[0071] É apreciado que o antimônio compõe a quantidade restante do óxido de estanho dopado com antimônio. Por exemplo, a quantidade restante de óxido de estanho dopado com antimônio pode compreender de 20% em peso a 80% em peso de antimônio, ou de 40% em peso a 60% em peso de antimônio ou de 45% em peso a 55% em peso de antimônio ou 50% em peso % de antimônio, com base no peso total do óxido de estanho dopado com antimônio.
[0072] Deve ainda ser entendido que a composição química do óxido de estanho dopado com antimônio também pode ser baseada em uma razão em peso de antimônio para óxido de estanho. Em alguns exemplos, a razão em peso de antimônio para óxido de estanho é selecionada dentro de uma faixa de 20:80 a 80:20 de antimônio para óxido de estanho ou de 40:60 a 60:40 de antimônio para óxido de estanho, ou 50: 50 antimônio ao óxido de estanho.
[0073] Vários parâmetros também podem ser variados durante a aplicação do óxido de estanho dopado com antimônio ao substrato usando MSVD. Por exemplo, foi verificado que o controle da tensão do processo MSVD ajuda a depositar ou pulverizar substancialmente sub-óxido de metal e/ ou materiais de óxido de metal em um modo de transição. Ao controlar a tensão, a taxa de alimentação de oxigênio é controlada de modo a manter uma taxa de pulverização alta e estável enquanto se deposita substancialmente óxido de metal e/ ou materiais de sub-óxido de metal.
[0074] Vários métodos podem ser usados para controlar a tensão para fornecer o modo de transição. Por exemplo, em um método, a tensão é controlada para fornecer o modo de transição, selecionando uma tensão de cátodo típica do regime metálico ou sub-metálico e monitorando a diferença entre essa tensão de cátodo selecionada e a tensão de cátodo real para o processo. Essa diferença de tensão é usada como entrada para uma válvula eletromecânica que admite mais ou menos gás oxigênio na câmara de deposição ou pulverização, dependendo do tamanho da diferença de tensão. À tensão resultante controla o processo MSVD para fornecer o modo de transição que permite a deposição de um material substancialmente óxido de metal e/ ou subóxido de metal de maneira estável e, em particular, a deposição de óxido de estanho dopado com antimônio de um metal alvo antimônio/ liga de estanho no modo de transição. A tensão resultante também ajuda a controlar a razão de materail de subóxido e óxido de metal depositado, sem permitir que o processo mude irreversivelmente para o regime de pulverização de óxido simplesmente devido à variação do processo natural.
[0075] Outros parâmetros que podem ser alterados incluem, mas não estão limitados, pressão e temperatura. Em alguns exemplos, o óxido de estanho dopado com antimônio é aplicado ao substrato a uma pressão dentro de uma faixa de 0,1 mTorr a 100 mTorr, preferencialmente 0,5 mTorr a 50 mTorr, mais preferencialmente 0,75 mTorr a 10 mTorr, mais preferencialmente 1 mTorr a 3 mTorr e à temperatura ambiente (ou seja, a temperatura do ambiente ao redor).
[0076] Como observado anteriormente, após a deposição do óxido de estanho dopado com antimônio sobre o substrato, o substrato revestido é aquecido acima do ponto de amolecimento do substrato. Como usado pelo presente documento, o "ponto de amolecimento", em relação ao substrato revestido, se refere à temperatura na qual o substrato se torna moldável, deformável ou de outra forma capaz de ser alterado de sua forma física original. Em alguns exemplos, o substrato revestido é aquecido a uma temperatura de pelo menos 426,66ºC(800ºF) ou pelo menos 482,22ºC (900ºF) ou pelo menos 537,77ºC (1000ºF) ou pelo menos 1100 º F.
[0077] Além disso, o substrato utilizado com a presente invenção pode incluir qualquer um dos substratos descritos anteriormente. Por exemplo, o substrato revestido com o óxido de estanho dopado com antimônio pode ser escolhido a partir de um substrato de vidro incluindo, mas não limitado a, uma unidade de vidro isolante. Assim, é apreciado que a camada de revestimento de óxido de estanho dopado com antimônio pode ser usada em um revestimento de múltiplas camadas que inclui uma ou mais das camadas de revestimento adicionais descritas anteriormente.
[0078] Conforme indicado, o método MSVD descrito anteriormente produz uma camada de revestimento de óxido de estanho dopado com antimônio que absorve a luz visível. Por exemplo, a camada de revestimento de óxido de estanho dopado com antimônio produzida pelo método MSVD descrito anteriormente pode absorver pelo menos 3% de luz visível, como pelo menos 5% de luz visível ou pelo menos 10% de luz visível ou pelo menos 25% de visibilidade luz ou pelo menos 50% de luz visível. Além disso, a camada de revestimento de óxido de estanho dopado com antimônio também pode transmitir luz neutra e/ ou azul.
[0079] A presente invenção também é direcionada às seguintes cláusulas.
[0080] Cláusula 1: Artigo revestido que compreende: um substrato; e um revestimento aplicado sobre pelo menos uma porção do substrato, o revestimento compreendendo pelo menos uma camada metálica, em que a camada metálica compreende um ou mais compostos de prata dopados com pelo menos um metal selecionado a partir dos grupos 3 a 15 da tabela periódica da elementos.
[0081] Cláusula 2: O artigo revestido de acordo com a cláusula 1, em que a camada metálica compreende um ou mais compostos de prata dopados com pelo menos um metal selecionado a partir dos grupos 4 a 14 da tabela periódica dos elementos.
[0082] Cláusula 3: O artigo revestido de acordo com a cláusula 1, em que o composto de prata é dopado com um metal selecionado a partir de estanho, ferro, cromo, cobalto, níquel, manganês, cobre, ouro, zinco ou uma combinação dos mesmos.
[0083] Cláusula 4: O artigo revestido de acordo com qualquer uma das cláusulas 1 a 3, em que o composto de prata dopado compreende pelo menos 50% de prata, com base no peso total de sólidos do composto de prata dopado.
[0084] Cláusula 5: O artigo revestido de acordo com qualquer uma das cláusulas 1 a 4, em que o revestimento compreende ainda pelo menos duas camadas dielétricas separadas, e em que a camada metálica está posicionada entre as duas camadas dielétricas separadas.
[0085] Cláusula 6: O artigo revestido de acordo com qualquer uma das cláusulas 1 a 5, compreendendo ainda pelo menos uma camada de iniciador aplicada sobre a camada metálica.
[0086] Cláusula 7: O artigo revestido, de acordo com a cláusula 6, em que a camada de iniciador é formada a partir de um material que compreende titânio, ligas contendo níquel e cromo, silício, dióxido de silício, nitreto de silício, oxinitreto de silício, NiCr, zircônio, alumínio, ligas de silício e alumínio, ligas contendo cobalto e cromo, ou combinações dos mesmos.
[0087] Cláusula 8: O artigo revestido, de acordo com qualquer uma das cláusulas 1 a 7, em que a camada metálica compreende uma camada metálica contínua.
[0088] Cláusula 9: O artigo revestido, de acordo com qualquer uma das cláusulas 1 a 7, em que a camada metálica compreende uma camada metálica descontínua.
[0089] Cláusula 10: O artigo revestido, de acordo com qualquer uma das cláusulas 1 a 9, compreendendo ainda pelo menos uma camada metálica adicional.
[0090] Cláusula 11: O artigo revestido, de acordo com a cláusula 10, em que a camada metálica contínua é formada a partir de um material que compreende ouro, cobre, prata, alumínio ou combinações dos mesmos.
[0091] Cláusula 12: O artigo revestido, de acordo com qualquer uma das cláusulas 1 a 11, em que o substrato é de vidro.
[0092] Cláusula 13: O artigo revestido, de acordo com a cláusula 12, em que o substrato é uma unidade de vidro isolante.
[0093] Cláusula 14: Um artigo revestido compreendendo: um substrato; e um revestimento aplicado sobre pelo menos uma porção do substrato, o revestimento compreendendo uma primeira camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção do substrato; uma primeira camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira camada dielétrica; uma segunda camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção da primeira camada metálica; uma segunda camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da segunda camada dielétrica; e uma terceira camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção da segunda camada metálica, em que pelo menos uma dentre as camadas metálicas é formada a partir de um material que compreende um ou mais compostos de prata dopados com pelo menos um metal selecionado a partir dos Grupos 3 a 15 da Tabela Periódica dos Elementos.
[0094] Cláusula 15: O artigo revestido, de acordo com a cláusula 14, em que pelo menos uma dentre as camadas metálicas é uma camada metálica contínua.
[0095] Cláusula 16: O artigo revestido, de acordo com a cláusula 14, em que pelo menos uma dentre as camadas metálicas é uma camada metálica descontínua.
[0096] Cláusula 17: O artigo revestido de acordo com as cláusulas 14 a 16, compreendendo ainda uma terceira camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da terceira camada dielétrica e uma quarta camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção da terceira camada metálica.
[0097] Cláusula 18: O artigo revestido, de acordo com qualquer uma das cláusulas 14 a 17, compreendendo ainda pelo menos uma camada de iniciador formada sobre pelo menos uma dentre as camadas metálicas.
[0098] Cláusula 19: O artigo revestido, de acordo com qualquer uma das cláusulas 14 a 18, em que o substrato é de vidro.
[0099] Cláusula 20: O artigo revestido, de acordo com a cláusula 19, em que o substrato é uma unidade de vidro isolante.
[00100] Cláusula 21: Artigo revestido que compreende: um substrato; e um revestimento aplicado sobre pelo menos uma porção do substrato, o revestimento compreendendo uma ou mais camadas metálicas e uma ou mais camadas dielétricas, em que pelo menos uma dentre as camadas dielétricas compreende uma cápsula compreendendo uma primeira película de nitreto de silício, uma camada de metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício e uma segunda película de nitreto de silício formado sobre pelo menos uma porção da camada metálica.
[00101] Cláusula 22: O artigo revestido de acordo com aa cláusula 21, em que a camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício compreende um material que absorve pelo menos uma porção da radiação eletromagnética que passa através do revestimento.
[00102] Cláusula 23: O artigo revestido das cláusulas 21 ou 22, em que a camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício compreende titânio, silício, dióxido de silício, ligas de níquel-cromo, zircônio, alumínio, ligas de silício e alumínio, ligas contendo cobalto e cromo, ou as misturas dos mesmos.
[00103] Cláusula 24: O artigo revestido, de acordo com as cláusulas 21 ou 22, em que a camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício compreende ligas de níquel- cromo ligas contendo cobalto e cromo, ou as misturas dos mesmos.
[00104] Cláusula 25: O artigo revestido, de acordo com qualquer uma das cláusulas 21 a 24, em que pelo menos uma dentre as camadas metálicas é uma camada metálica descontínua.
[00105] Cláusula 26: O artigo revestido, de acordo com qualquer uma das cláusulas 21 a 25, em que pelo menos uma dentre as camadas metálicas é uma camada metálica contínua.
[00106] Cláusula 27: O artigo revestido, de acordo com qualquer uma das clausulas 7 a 26, que compreende ainda um revestimento de sobreposição, em que o revestimento de sobreposição é formado a partir de uma cápsula compreendendo uma primeira película de nitreto de silício, uma camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício e uma segunda película de nitreto de silício formada sobre pelo menos uma porção da camada metálica.
[00107] Cláusula 28: Artigo revestido caracterizado pelo fato de que compreende: um substrato; e um revestimento aplicado sobre pelo menos uma porção do substrato, o revestimento compreendendo: uma primeira camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção do substrato; uma primeira camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira camada dielétrica; uma segunda camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção da primeira camada metálica; uma segunda camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da segunda camada dielétrica; uma terceira camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção da segunda camada metálica e um revestimento formado sobre pelo menos uma porção da terceira camada dielétrica, em que pelo menos uma dentre as camadas dielétricas e/ ou o revestimento compreende uma cápsula compreendendo uma primeira película de nitreto de silício, uma camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício e um segunda película de nitreto de silício formada sobre pelo menos uma porção da camada metálica.
[00108] Cláusula 29: O artigo revestido, de acordo com a cláusula 28, que compreende ainda uma terceira camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da terceira camada dielétrica e uma quarta camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção da terceira camada metálica, em que o revestimento de sobreposição é formado sobre pelo menos um porção da quarta camada dielétrica.
[00109] Cláusula 30: O artigo revestido das cláusulas 28 ou 29, em que a camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício compreende titânio, silício, dióxido de silício, ligas de níquel-cromo, zircônio, alumínio, ligas de silício e alumínio, ligas contendo cobalto e cromo, ou as misturas dos mesmos.
[00110] Cláusula 31: Processo para formar uma camada de revestimento de óxido de estanho dopado com antimônio sobre um substrato que compreende: (i) aplicar óxido de estanho dopado com antimônio a um substrato em uma atmosfera gasosa compreendendo oxigênio e um gás nobre usando um revestidor MSVD, em que a atmosfera gasosa compreende pelo menos 15% de oxigênio; e (ii) aquecer o substrato revestido acima de um ponto de amolecimento do substrato.
[00111] Cláusula 32: O processo de acordo com a cláusula 31, em que a atmosfera gasosa compreende a partir de 15% a 25% de oxigênio.
[00112] Cláusula 33: O processo de acordo com a cláusula 31, em que a atmosfera gasosa compreende mais de 25% de oxigênio.
[00113] Cláusula 34: O processo de acordo com qualquer uma das cláusulas 31 a 33, em que o gás nobre é argônio.
[00114] Cláusula 35: O processo de acordo com qualquer uma das cláusulas 31 a 34, em que o óxido de estanho dopado com antimônio compreende de 20% em peso a 80% em peso de óxido de estanho com base no peso total do óxido de estanho dopado com antimônio.
[00115] Cláusula 36: O processo de acordo com qualquer uma das cláusulas 31 a 35, em que uma proporção de antimônio para óxido de estanho é selecionada dentro de uma faixa de proporção de peso de 40:60 a 60:40 de antimônio para óxido de estanho.
[00116] Cláusula 37: O processo de acordo com qualquer uma das cláusulas 31 a 36, em que o óxido de estanho dopado com antimônio é aplicado ao substrato a uma pressão dentro de uma faixa de 0,1 mTorr a 100 mTorr, preferencialmente 0,5 mTorr a 50 mTorr, mais preferencialmente 0,75 mTorr a 10 mTorr, mais preferencialmente 1 mTorr a 3 mTorr.
[00117] Cláusula 38: O processo de acordo com qualquer uma das cláusulas 31 a 37, em que o óxido de estanho dopado com antimônio é aplicado ao substrato à temperatura ambiente.
[00118] Cláusula 39: O processo de acordo com qualquer uma das cláusulas 31 a 38, em que o substrato é um vidro.
[00119] Cláusula 40: O processo de acordo com qualquer uma das cláusulas 31 a 39, em que o substrato revestido é aquecido a uma temperatura de pelo menos 426,66ºC(800ºF).
[00120] Cláusula 41: O processo de acordo com qualquer uma das cláusulas 31 a 40, em que uma tensão de um dispositivo MSVD é controlada para fornecer a porcentagem de oxigênio.
[00121] Cláusula 42: O processo de acordo com a cláusula 41, em que a tensão é selecionada de modo que a atmosfera gasosa seja mantida em um modo de transição.
[00122] Cláusula 43: Um substrato revestido com uma camada de revestimento de óxido de estanho dopado com antimônio preparado pelo processo de acordo com qualquer uma das cláusulas 31 a 42.
[00123] Cláusula 44: O substrato revestido de acordo com a cláusula 43, em que a camada de revestimento de óxido de estanho dopado com antimônio absorve pelo menos 3% de luz visível.
[00124] Cláusula 45: O substrato revestido de acordo com qualquer uma das cláusulas 43 a 44, em que o substrato é de vidro.
[00125] Os exemplos a seguir são apresentados para demonstrar os princípios gerais da invenção. A invenção não deve ser considerada como limitada aos exemplos específicos apresentados. Todas as partes e porcentagens nos exemplos são em peso, salvo indicação em contrário.
Claims (15)
1. Artigo revestido que caracterizado pelo fato de que compreende: um substrato; e um revestimento aplicado sobre pelo menos uma porção do substrato, o revestimento compreendendo uma primeira camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção do substrato; uma primeira camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira camada dielétrica; uma segunda camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção da primeira camada metálica; uma segunda camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da segunda camada dielétrica; e uma terceira camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção da segunda camada metálica, em que pelo menos uma dentre as camadas metálicas é formada a partir de um material que compreende um ou mais compostos de prata dopados com pelo menos um metal selecionado a partir dos Grupos 3 a 15 da Tabela Periódica dos Elementos.
2. Artigo revestido, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que pelo menos uma dentre as camadas metálicas é uma camada metálica contínua.
3. Artigo revestido, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que pelo menos uma dentre as camadas metálicas é uma camada metálica descontínua.
4. Artigo revestido, de acordo com as reivindicações 1 a 3, caracterizado pelo fato de que compreende ainda uma terceira camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da terceira camada dielétrica e uma quarta camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção da terceira camada metálica.
5. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado pelo fato de que compreende ainda pelo menos uma camada de iniciador formada sobre pelo menos uma dentre as camadas metálicas.
6. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 5, caracterizado pelo fato de que o substrato é de vidro.
7. Artigo revestido caracterizado pelo fato de que compreende: um substrato; e um revestimento aplicado sobre pelo menos uma porção do substrato, o revestimento compreendendo uma ou mais camadas metálicas e uma ou mais camadas dielétricas, em que pelo menos uma dentre as camadas dielétricas compreende uma cápsula compreendendo uma primeira película de nitreto de silício, uma camada de metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício e uma segunda película de nitreto de silício formado sobre pelo menos uma porção da camada metálica.
8. Artigo revestido, de acordo com a reivindicação 7, caracterizado pelo fato de que a camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício compreende um material que absorve pelo menos uma porção da radiação eletromagnética que passa através do revestimento.
9. Artigo revestido, de acordo com a reivindicação 7 ou 8, caracterizado pelo fato de que a camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício compreende titânio, silício, dióxido de silício, ligas de níquel-cromo, zircônio, alumínio, ligas de silício e alumínio, ligas contendo cobalto e cromo, ou as misturas dos mesmos.
10. Artigo revestido, de acordo com a reivindicação 7 ou 8, caracterizado pelo fato de que a camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício compreende ligas de níquel-cromo ligas contendo cobalto e cromo, ou as misturas dos mesmos.
11. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 7 a 10, caracterizado pelo fato de que pelo menos uma dentre as camadas metálicas é uma camada metálica descontínua.
12. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 7 a 12, caracterizado pelo fato de que compreende ainda um revestimento de sobreposição, em que o revestimento de sobreposição é formado a partir de uma cápsula compreendendo uma primeira película de nitreto de silício, uma camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício e uma segunda película de nitreto de silício formada sobre pelo menos uma porção da camada metálica.
13. Artigo revestido caracterizado pelo fato de que compreende: um substrato; e um revestimento aplicado sobre pelo menos uma porção do substrato, o revestimento compreendendo: uma primeira camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção do substrato; uma primeira camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira camada dielétrica; uma segunda camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção da primeira camada metálica; uma segunda camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da segunda camada dielétrica; uma terceira camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção da segunda camada metálica e um revestimento formado sobre pelo menos uma porção da terceira camada dielétrica, em que pelo menos uma dentre as camadas dielétricas e / ou o revestimento compreende uma cápsula compreendendo uma primeira película de nitreto de silício, uma camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício e uma segunda película de nitreto de silício formada sobre pelo menos uma porção da camada metálica.
14. Artigo revestido, de acordo com a reivindicação 13, caracterizado pelo fato de que compreende ainda uma terceira camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da terceira camada dielétrica e uma quarta camada dielétrica formada sobre pelo menos uma porção da terceira camada metálica, em que o revestimento de sobreposição é formado sobre pelo menos uma porção da quarta camada dielétrica.
15. Artigo revestido, de acordo com a reivindicação 13 ou 14, caracterizado pelo fato de que a camada metálica formada sobre pelo menos uma porção da primeira película de nitreto de silício compreende titânio, silício, dióxido de silício, ligas de níquel-cromo, zircônio, alumínio, ligas de silício e alumínio, ligas contendo cobalto e cromo, ou as misturas dos mesmos.
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