BR0103435A - Composições de tonalizador - Google Patents

Composições de tonalizador

Info

Publication number
BR0103435A
BR0103435A BR0103435-9A BR0103435A BR0103435A BR 0103435 A BR0103435 A BR 0103435A BR 0103435 A BR0103435 A BR 0103435A BR 0103435 A BR0103435 A BR 0103435A
Authority
BR
Brazil
Prior art keywords
coated
silica
fumigated
compound
toner
Prior art date
Application number
BR0103435-9A
Other languages
English (en)
Other versions
BR0103435B1 (pt
Inventor
Roger N Ciccarelli
Denise R Bayley
Thomas R Pickering
Original Assignee
Xerox Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xerox Corp filed Critical Xerox Corp
Publication of BR0103435A publication Critical patent/BR0103435A/pt
Publication of BR0103435B1 publication Critical patent/BR0103435B1/pt

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/80—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of at least one component covered by groups H10D12/00 or H10D30/00, e.g. integration of IGFETs
    • H10D84/811—Combinations of field-effect devices and one or more diodes, capacitors or resistors
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/80—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of at least one component covered by groups H10D12/00 or H10D30/00, e.g. integration of IGFETs
    • H10D84/811—Combinations of field-effect devices and one or more diodes, capacitors or resistors
    • H10D84/813—Combinations of field-effect devices and capacitor only
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D1/00—Resistors, capacitors or inductors
    • H10D1/60—Capacitors
    • H10D1/68—Capacitors having no potential barriers

Landscapes

  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

"COMPOSIçõES DE TONALIZADOR". Uma composição de tonalizador incluindo um aglutinante, um colorante, e um componente aditivo de superfície de partícula de tonalizador, composto de uma sílica fumigada revestida com uma primeira quantidade maior de um composto alquilsilano e uma segunda quantidade menor de um composto aminoalquilsilano, em que a sílica fumigada tem um tamanho de partícula relativamente grande de, por exemplo, um diâmetro de tamanho de partícula primária determinado por medida BET de cerca de 25 a cerca de 75 nanómetro, um tamanho de partícula de agregado de cerca de 225 nanómetros a cerca de 400 nanómetros. Uma composição de tonalizador incluindo um aglutinante, colorante, e um componente aditivo de superfície de partícula de tonalizador, composto de uma mistura de uma primeira sílica fumigada revestida, revestida com um composto alquilsilano e uma segunda sílica fumigada revestida, revestida com um composto aminoalquilsilano em que a primeira e segunda sílica fumigada tem, cada, o mesmo tamanho de partícula relativamente grande. Uma composição de tonalizador incluindo um aglutinante, colorante, e uma mistura de duas sílicas fumigadas revestidas distintas, como aditivos de superfície, em que uma sílica é revestida na superfície com um composto alquilsilano e a outra sílica é revestida na superfície com um composto aminoalquilsilano, e onde a sílica usada para o revestimento de alquilsilano é maior no diâmetro de tamanho do que a sílica usada para o revestimento de aminoalquilsilano.
BRPI0103435-9A 2000-08-22 2001-08-17 composiÇço de tonalizador. BR0103435B1 (pt)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/643,211 US6309925B1 (en) 2000-08-22 2000-08-22 Method for manufacturing capacitor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
BR0103435A true BR0103435A (pt) 2002-07-30
BR0103435B1 BR0103435B1 (pt) 2011-06-14

Family

ID=24579831

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BRPI0103435-9A BR0103435B1 (pt) 2000-08-22 2001-08-17 composiÇço de tonalizador.

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6309925B1 (pt)
BR (1) BR0103435B1 (pt)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100447729B1 (ko) * 2002-05-03 2004-09-10 주식회사 하이닉스반도체 반도체 장치의 제조 방법
US20050170598A1 (en) * 2004-01-29 2005-08-04 Howard Gregory E. Silicided amorphous polysilicon - metal capacitor
US7118958B2 (en) * 2005-03-03 2006-10-10 Texas Instruments Incorporated Method of manufacturing a metal-insulator-metal capacitor using an etchback process
KR100848241B1 (ko) * 2006-12-27 2008-07-24 동부일렉트로닉스 주식회사 반도체 소자의 제조방법
CN110634845A (zh) * 2019-09-12 2019-12-31 上海华力集成电路制造有限公司 Mim电容的制造方法及一mim电容

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5393691A (en) * 1993-07-28 1995-02-28 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Fabrication of w-polycide-to-poly capacitors with high linearity
US5866451A (en) * 1996-05-28 1999-02-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd Method of making a semiconductor device having 4t sram and mixed-mode capacitor in logic
US6075266A (en) * 1997-01-09 2000-06-13 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device having MIS transistors and capacitor
US6054359A (en) * 1999-06-14 2000-04-25 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Method for making high-sheet-resistance polysilicon resistors for integrated circuits

Also Published As

Publication number Publication date
BR0103435B1 (pt) 2011-06-14
US6309925B1 (en) 2001-10-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AR055816A1 (es) Composicion de pigmento, proceso para la produccion de dicha composicion de pigmento, proceso para la produccion de papel o carton y papel o carton obtenible con dicho proceso
BRPI0519088A2 (pt) formulaÇÕes de tacrolimo nanoparticuladas
GT200900322A (es) "formulaciones solidas de artropodicidas de carboxamida"
EP1544685A3 (en) Toner compositions
BRPI0608029A2 (pt) composição, método para fabricar uma composição, substrato de papel ou papelão e artigo
BRPI0416837B8 (pt) composição amilácea filmógena
BR112014011466A2 (pt) mistura de material de construção e método para sua produção e seu uso
BR112014007089A2 (pt) artigos abrasivos incluindo materiais de partículas abrasivas, abrasivos revestidos usando os materiais de partículas abrasivas e os métodos de formação
BRPI0409410A (pt) material em partìcula contendo elastÈmero termoplástico e métodos para fabricação e uso do mesmo
BR0303577A (pt) Métodos para derivar valores para um meio absorvente e para fazer um meio absorvente, acumulação de polìmero super-absorvente e meio absorvente
BR9808639A (pt) Agentes redutores de poeira para substâncias inorgânicas granulares
BR112014001493A2 (pt) montante para uso na indústria de fundição, composição moldável para a produção de montantes para a indústria de fundição, processo para a preparação de uma composição moldável para a produção de montantes para a indústria de fundição e uso da cinza de casca de arroz
BRPI0715173A8 (pt) Uso de uma composição de perfume para inibição da formação de amônia a partir da uréia
BRPI0705487A (pt) tampões para abertura para a distribuição de agentes ativos
BRPI0608062A2 (pt) aglutinante hidráulico, concreto, método de produção ou fornecimento de um material de construção e uso de um aglutinante hidráulico
BR0208374A (pt) Composição de diacetal, agente de nucleação de poliolefina compreendendo a composição de diacetal, composições de resina poliolefìnica contendo a composição diacetal, método para fabricação da composição de resina, e moldagens
BRPI0715198A8 (pt) Composição de perfume, seu uso, método e artigo adequado para prevenção ou alívio de mau odor da urina, e produtos para consumidores
BR0103435A (pt) Composições de tonalizador
BR9800204A (pt) Dispersão de partìcula lamelar
BRPI0510408B8 (pt) composições autovaporizantes
BR0015146A (pt) Agente de revestimento e fertilizantes particulados revestidos
BRPI0507919A (pt) processo para melhorar a estabilidade em armazenagem de uma dispersão aquosa de partìculas, dispersão aquosa de compósito-partìcula, composição aquosa para revestimento, uso de uma dispersão aquosa de compósito-partìcula, e, processo para melhorar a estabilidade em armazenagem de uma formulação aquosa.
MY148390A (en) Polishing composition for magnetic disk substrate
PL379224A1 (pl) Kompozycja polimerowa o zmniejszonej palności zawierająca drobne cząstki
BR9714779A (pt) Composição, e, processo para formar partìculas de plaquetas tratadas e incorporar a partìcula de plaquetas tratadas em um poliéster

Legal Events

Date Code Title Description
B06A Patent application procedure suspended [chapter 6.1 patent gazette]
B09A Decision: intention to grant [chapter 9.1 patent gazette]
B16A Patent or certificate of addition of invention granted [chapter 16.1 patent gazette]

Free format text: PRAZO DE VALIDADE: 20 (VINTE) ANOS CONTADOS A PARTIR DE 17/08/2001, OBSERVADAS AS CONDICOES LEGAIS.

B21F Lapse acc. art. 78, item iv - on non-payment of the annual fees in time

Free format text: REFERENTE A 15A ANUIDADE.

B24J Lapse because of non-payment of annual fees (definitively: art 78 iv lpi, resolution 113/2013 art. 12)

Free format text: EM VIRTUDE DA EXTINCAO PUBLICADA NA RPI 2385 DE 20-09-2016 E CONSIDERANDO AUSENCIA DE MANIFESTACAO DENTRO DOS PRAZOS LEGAIS, INFORMO QUE CABE SER MANTIDA A EXTINCAO DA PATENTE E SEUS CERTIFICADOS, CONFORME O DISPOSTO NO ARTIGO 12, DA RESOLUCAO 113/2013.