|
FR2563239A1
(fr)
|
|
Agencement pour revetir des substrats par pulverisation cathodique
|
|
EP0376387A1
(fr)
|
|
Dispositif incluant un porte-échantillons chauffant
|
|
EP0430755B1
(fr)
|
|
Bloc haute tension pour tube à rayons X avec cuve de refroidissement intégrée au circuit secondaire
|
|
BE510615A
(OSRAM)
|
|
|
|
FR2774811A1
(fr)
|
|
Procede de formation de lignes conductrices sur des circuits integres
|
|
EP0241447B1
(fr)
|
|
Cathode de pulvérisation
|
|
FR2476387A1
(fr)
|
|
Tube a rayons cathodiques plat et compact
|
|
FR2638895A1
(fr)
|
|
Support de circuit integre et son procede de fabrication, circuit integre adapte au support et boitier en resultant
|
|
FR2569318A1
(fr)
|
|
Dispositif de condensateur discoide
|
|
FR2462712A1
(fr)
|
|
Dispositif de mesure de tensions alternatives elevees dans des installations de distribution haute tension
|
|
FR2573441A1
(fr)
|
|
Cathode-cible pour depot, par pulverisation, d'un materiau composite sur un substrat
|
|
US20080169186A1
(en)
|
|
Magnetron sputtering apparatus and method of manufacturing semiconductor device
|
|
FR2776826A1
(fr)
|
|
Passage conducteur d'un mur de scellement d'un ecran plat de visualisation
|
|
JPS60149765A
(ja)
|
|
蒸着用ボ−ト
|
|
JP3107414B2
(ja)
|
|
水晶振動子およびその封止方法
|
|
JP2859932B2
(ja)
|
|
真空バルブの製造方法
|
|
JPH02185965A
(ja)
|
|
真空薄膜形成装置
|
|
BE423285A
(OSRAM)
|
|
|
|
FR2488765A1
(fr)
|
|
Transducteur electrodynamique
|
|
EP1182760A1
(fr)
|
|
Cloison étanche de compartimentage et installation électrique blindée trphasée à isolation gazeuse pourvue d'une telle cloison
|
|
FR2666174A1
(fr)
|
|
Composant semiconducteur haute tension a faible courant de fuite.
|
|
EP1111778B1
(fr)
|
|
Résonateur piézo-électrique ultramince
|
|
BE400855A
(OSRAM)
|
|
|
|
JPH04186728A
(ja)
|
|
半導体集積回路装置
|
|
CH103942A
(fr)
|
|
Procédé pour former un joint étanche entre pièces métalliques et joint suivant ce procédé.
|