ATE486303T1 - Verfahren zur verarbeitung von flachdruckplatten - Google Patents

Verfahren zur verarbeitung von flachdruckplatten

Info

Publication number
ATE486303T1
ATE486303T1 AT05103879T AT05103879T ATE486303T1 AT E486303 T1 ATE486303 T1 AT E486303T1 AT 05103879 T AT05103879 T AT 05103879T AT 05103879 T AT05103879 T AT 05103879T AT E486303 T1 ATE486303 T1 AT E486303T1
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
printing plate
printing plates
processing plant
plate printing
light
Prior art date
Application number
AT05103879T
Other languages
English (en)
Inventor
Willi-Kurt Gries
Damme Marc Van
Mario Boxhorn
Pascla Meeus
Original Assignee
Agfa Graphics Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Graphics Nv filed Critical Agfa Graphics Nv
Application granted granted Critical
Publication of ATE486303T1 publication Critical patent/ATE486303T1/de

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
AT05103879T 2005-05-10 2005-05-10 Verfahren zur verarbeitung von flachdruckplatten ATE486303T1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP05103879A EP1722275B1 (de) 2005-05-10 2005-05-10 Verfahren zur Verarbeitung von Flachdruckplatten

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ATE486303T1 true ATE486303T1 (de) 2010-11-15

Family

ID=36201383

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT05103879T ATE486303T1 (de) 2005-05-10 2005-05-10 Verfahren zur verarbeitung von flachdruckplatten

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP1722275B1 (de)
AT (1) ATE486303T1 (de)
DE (1) DE602005024371D1 (de)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8445176B2 (en) 2007-05-25 2013-05-21 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor
EP2028548B1 (de) * 2007-08-23 2010-03-24 Eastman Kodak Company Verarbeitung lithographischer Druckplatten mit einer Entwicklerlösung enthaltend ein hydrophiles Polymer
SG2014005136A (en) * 2009-01-28 2014-03-28 Advanced Tech Materials Lithographic tool in situ clean formulations
EP2735903B1 (de) 2012-11-22 2019-02-27 Eastman Kodak Company Negativ arbeitende Lithografiedruckplattenvorläufer mit hochverzweigtem Bindemittelmaterial
US9063423B2 (en) 2013-02-28 2015-06-23 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and use
EP2778782B1 (de) 2013-03-13 2015-12-30 Kodak Graphic Communications GmbH Negativ arbeitende strahlungsempfindliche Elemente
US9201302B2 (en) 2013-10-03 2015-12-01 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursor

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8628613D0 (en) 1986-11-29 1987-01-07 Horsell Graphic Ind Ltd Developing fluid for lithographic plates
DE3884825D1 (de) * 1987-02-16 1993-11-18 Konishiroku Photo Ind Entwickler für lichtempfindliche lithographische Druckplatte, gemeinschaftlich verarbeitungsfähig für den Negativ-Typ und den Positiv-Typ und Entwicklerzusammensetzung für lichtempfindliches Material.
ATE180583T1 (de) 1992-02-07 1999-06-15 Tadahiro Ohmi Lithographischer entwickler und lithographisches verfahren
DE69321627T2 (de) 1992-02-10 1999-04-22 Tadahiro Ohmi Sendai Lithographisches Verfahren
EP0639979B1 (de) 1992-04-23 2001-10-04 Sloan-Kettering Institute For Cancer Research Ligand für den c-kit-rezepten und verfahren zu seiner nutzung
US5635328A (en) * 1993-08-21 1997-06-03 Konica Corporation Light-sensitive lithographic printing plate utilizing o-quinone diazide light-sensitive layer containing cyclic clathrate compound
DE4419166A1 (de) * 1994-06-01 1995-12-07 Hoechst Ag Entwickler für Photoresistschichten
DE4445820A1 (de) 1994-12-21 1996-06-27 Hoechst Ag Verfahren zum Entwickeln bestrahlter, strahlungsempfindlicher Aufzeichnungsmaterialien
EP0732628A1 (de) * 1995-03-07 1996-09-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Wässrig-alkalische Lösung zum Entwickeln von Flachdruckplatten
DE19845605A1 (de) 1998-10-05 2000-04-06 Agfa Gevaert Ag Konzentrat und daraus hergestellter wäßriger Entwickler für bildmäßig bestrahlte Aufzeichnungsmaterialien
JP2002351094A (ja) 2001-05-22 2002-12-04 Fuji Photo Film Co Ltd 現像液組成物及び画像形成方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP1722275A1 (de) 2006-11-15
EP1722275B1 (de) 2010-10-27
DE602005024371D1 (de) 2010-12-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ATE486303T1 (de) Verfahren zur verarbeitung von flachdruckplatten
Park et al. Eco-friendly photolithography using water-developable pure silk fibroin
ATE533089T1 (de) Verfahren zur herstellung einer fotopolymer- druckplatte
ATE426836T1 (de) Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform
ATE544095T1 (de) Verfahren zur herstellung einer druckplatte
DE602005009617D1 (de) Verfahren zur Herstellung lithographischer Druckplatten
TW200611082A (en) Exposure system and device production method
EP1630612A3 (de) Verfahren zur Herstellung einer Mikrostruktur, Belichtungsvorrichtung und elektronischer Apparat
DE602006009190D1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte und Lithografiedruckplattenvorläufer
TW200510495A (en) Material for forming resist-protecting film for immersion exposure process, resist-protecting film made of such material and method for forming resist pattern using such resist-protection film
TW200606179A (en) Material for forming resist protection film for liquid immersion lithography and method for forming resist pattern by using the protection film
ATE521016T1 (de) Verwendung einer positiven resist-zusammensetzung für immersions-lithographie, positive resist- zusammensetzung und immersions-lithographische strukturierungsmethode mit benutzung derselbigen
TW200801801A (en) Process for producing patterned film and photosensitive resin composition
DE602005013398D1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
ATE450813T1 (de) Verfahren zur erzeugung eines musters
TW200625030A (en) Photolithographic rinse solution and resist-pattern forming mathod
BR9907768A (pt) Processo para produção de uma máscara padronizada em um substrato e processo para remover um padrão de revestimento fotoresistente processado de um substrato
ATE426191T1 (de) Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte
BR112012021251A2 (pt) método para preparação de chapa de impressão litográfica e revelador para precursor de chapa de impressão litográfica.
TW200707104A (en) Negative resist composition and resist pattern formation method
TWI289568B (en) Polymer compound, resist material, and pattern formation method
DE602006008659D1 (de) Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckplatte
DE60213156D1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte
EP1280006A3 (de) Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte
DE602006003678D1 (de) Verfahren zur Herstellung negativer, lithographischer Druckplattenvorläufer

Legal Events

Date Code Title Description
RER Ceased as to paragraph 5 lit. 3 law introducing patent treaties