AT500076A2 - Vorrichtung und verfahren zum aufbringen eines flächigen verbindungsmittels auf eine kontaktfläche eines wafers - Google Patents

Vorrichtung und verfahren zum aufbringen eines flächigen verbindungsmittels auf eine kontaktfläche eines wafers

Info

Publication number
AT500076A2
AT500076A2 AT0028705A AT2872005A AT500076A2 AT 500076 A2 AT500076 A2 AT 500076A2 AT 0028705 A AT0028705 A AT 0028705A AT 2872005 A AT2872005 A AT 2872005A AT 500076 A2 AT500076 A2 AT 500076A2
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
applying
water
connector
contact surface
surface connector
Prior art date
Application number
AT0028705A
Other languages
English (en)
Other versions
AT500076B1 (de
AT500076A3 (de
Inventor
Erich Thallner
Original Assignee
Erich Thallner
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Erich Thallner filed Critical Erich Thallner
Publication of AT500076A2 publication Critical patent/AT500076A2/de
Publication of AT500076A3 publication Critical patent/AT500076A3/de
Application granted granted Critical
Publication of AT500076B1 publication Critical patent/AT500076B1/de

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/0046Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by constructional aspects of the apparatus
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67132Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B41/00Arrangements for controlling or monitoring lamination processes; Safety arrangements
AT0028705A 2004-03-12 2005-02-22 Vorrichtung und verfahren zum aufbringen eines flächigen verbindungsmittels auf eine kontaktfläche eines wafers AT500076B1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102004012618A DE102004012618B3 (de) 2004-03-12 2004-03-12 Vorrichtung und Verfahren zum Aufbringen einer Folie auf eine Kontaktfläche eines Wafers

Publications (3)

Publication Number Publication Date
AT500076A2 true AT500076A2 (de) 2005-10-15
AT500076A3 AT500076A3 (de) 2006-11-15
AT500076B1 AT500076B1 (de) 2007-11-15

Family

ID=34917103

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT0028705A AT500076B1 (de) 2004-03-12 2005-02-22 Vorrichtung und verfahren zum aufbringen eines flächigen verbindungsmittels auf eine kontaktfläche eines wafers

Country Status (3)

Country Link
US (2) US8500930B2 (de)
AT (1) AT500076B1 (de)
DE (1) DE102004012618B3 (de)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6215576B2 (ja) * 2013-05-31 2017-10-18 東京応化工業株式会社 貼付装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63165271A (ja) * 1986-12-26 1988-07-08 Nitto Electric Ind Co Ltd 粘着フイルム片の貼付方法
US5217550A (en) * 1990-09-28 1993-06-08 Dai Nippon Printing Co., Ltd Alignment transfer method
US5106450A (en) * 1990-12-20 1992-04-21 International Business Machines Corporation Dry film resist transport and lamination system for semiconductor wafers
US5328546A (en) * 1992-04-03 1994-07-12 International Business Machines Corp. Photo resist film application mechanism
AT405775B (de) * 1998-01-13 1999-11-25 Thallner Erich Verfahren und vorrichtung zum ausgerichteten zusammenführen von scheibenförmigen halbleitersubstraten
JP3991300B2 (ja) 2000-04-28 2007-10-17 株式会社Sumco 張り合わせ誘電体分離ウェーハの製造方法
DE10048881A1 (de) * 2000-09-29 2002-03-07 Infineon Technologies Ag Vorrichtung und Verfahren zum planen Verbinden zweier Wafer für ein Dünnschleifen und ein Trennen eines Produkt-Wafers
JP3665265B2 (ja) 2000-12-28 2005-06-29 株式会社日立製作所 プラズマ処理装置
JP3633497B2 (ja) * 2001-03-22 2005-03-30 三菱電機株式会社 周波数誤差推定を行う受信機および周波数誤差の推定方法
KR100438576B1 (ko) * 2001-11-30 2004-07-02 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널의 제조장치
JP2004047976A (ja) * 2002-05-21 2004-02-12 Nitto Denko Corp 保護テープ貼付方法およびその装置
JP2004047823A (ja) * 2002-07-12 2004-02-12 Tokyo Seimitsu Co Ltd ダイシングテープ貼付装置およびバックグラインド・ダイシングテープ貼付システム
US20040221871A1 (en) 2003-05-07 2004-11-11 Fletcher Matthew F. Semiconductor wafer processing apparatus and method therefor
JP3545758B2 (ja) * 2003-06-17 2004-07-21 リンテック株式会社 半導体ウェハ保護フィルムの切断方法および装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20130306242A1 (en) 2013-11-21
AT500076B1 (de) 2007-11-15
US20050199330A1 (en) 2005-09-15
AT500076A3 (de) 2006-11-15
US8500930B2 (en) 2013-08-06
US8875766B2 (en) 2014-11-04
DE102004012618B3 (de) 2005-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE502006006525D1 (de) Verfahren und vorrichtung zum durchführen eines ausweichmanövers
DE60324297D1 (de) Verfahren zum aufbringen eines medikamentes auf eine oberfläche
ATE471997T1 (de) Vorrichtung und verfahren zum beschichten eines substrats
DE102005054924A8 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Extrahieren einer Abstrichprobe
ATE407607T1 (de) Vorrichtung und verfahren zum erhitzen einer flüssigkeit
DE502005000527D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen eines Wendezeitpunktes eines Gargutes
DE60136119D1 (de) Einrichtung zum Halten eines Substrats und Verfahren zur Aufbringung eines Substrats auf einen Substrathalter
DE502007004934D1 (de) Vorrichtung und verfahren zum herstellen eines dreidimensionalen objektes
DE112006001493A5 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Übertragung eines Chips auf ein Kontaktsubstrat
DE602005026461D1 (de) Verfahren und vorrichtung zum erhitzen eines gegenstands
DE602004025480D1 (de) Vorrichtung und verfahren zum entfernen eines halbleiterchips
DE502006000776D1 (de) Verfahren und Einrichtung zum Bearbeiten eines Kabels
DE112008000723A5 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Prüfen der Kante eines Halbleiterwafers
DE502005004338D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen einer Überziehmaschine
DE602005006571D1 (de) Verfahren und vorrichtung zum klemmen von steuerleitungen an röhren
DE502007002372D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Erfassen einer Kontur einer reflektierenden Oberfläche
DE50309149D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Waschen eines Gummituches
DE50305651D1 (de) Verfahren zum entfernen eines schichtbereichs eines bauteils
DE50210808D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Auftragen von Fluiden auf Substraten
DE112008000006A5 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Schleusen eines Substrats in eine und aus einer Vakuumbeschichtungsanlage
AT500076A2 (de) Vorrichtung und verfahren zum aufbringen eines flächigen verbindungsmittels auf eine kontaktfläche eines wafers
ATE478334T1 (de) Vorrichtung und verfahren zum testen einer vinifikationsflüssigkeit
DE502007007126D1 (de) Verfahren und vorrichtung zum begrenzen von stelleingriffen eines fahrzeugreglers
DE602006018324D1 (de) Verfahren und vorrichtung zum transportieren eines flächengebildes
DE502007004830D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Anlegen eines Umschlags